![]() Derives de pyridopyrimidine et leur procede de preparation
专利摘要:
公开号:WO1986001207A1 申请号:PCT/JP1985/000441 申请日:1985-08-06 公开日:1986-02-27 发明作者:Noriaki Kihara;Tatsuyoshi Ishida;Shigeru Isayama;Takeshi Ishitoku;Hiroaki Tan;Katsuya Takahashi 申请人:Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.; IPC主号:C07D471-00
专利说明:
[0001] 明 細 書 [0002] ピリ ドヒ。リ ミジン誘導体およびその製法 [0003] 技術分野 [0004] 本発明は除草剤として有用な新規ピリ ドピリ ミ ジン誘導体およびその 製法に関する。 [0005] 背景技術 ピリ ドピリ ミジン構造を有する化合物としては、 ケミ カルァプストラ クッ C h em. Ab s t r . ) 7 0卷 1 1 0 0 7 ( 1 9 0 9 )、 同 9 0 卷 5 4 8 9 3 ( 1 9 7 9 ) 、 同 9 3巻 1 1 4 2 8 0 ( 1 9 8 0 ) 、 同 9 7巻 1 8.2 3 5 0 ( 1 9 8 2 ) に記載されているものが知られている。 しかし、 これら化合物の晨業用途に対する有用性については全く明らか にされてい い。 [0006] 本発明者らは、 ピリ ドヒ。リ ミ ジン誘導体について研究を進めるうち、 前記先行文献記載のものと異るる本願発明の新規化合物 合成に成功し かつ該化合物が優れた除草活性を有することを見い出し、 本発明を完成 することができた。 [0007] 発明の開示 [0008] 本発明は、 ①ー般式〔 I 〕 丄 li 3 [0009] N C、N C I ] [0010] R "J-^ 〔式中、 は低級アルキル基で置換されていてもよいフエニル基、 一 般式〔 π 〕 [0011] - 〔 Π 〕 [0012] [0013] 5 ( ここで 5 、 e は各々水素、 低級アルキル基又はフエニル基置換メ チル基であるか、 あるいは 5 と R6 が結合して炭素数 4 いし όのァ ルキレン基を示す。 ) で表わされる基又は一般式〔 ffl 〕 [0014] / [0015] - N N - R 〔 ffl 〕 [0016] ι ο (ここで wは 2又は 5であ j}、 R 7 は水素、 低級アルキル基、 ァラルキ ル基、 低級アルコキシカルボニル基、 ァラルキルォキシカルボ二ル基又 はァシル基を示す。 ) で表わされる基であ j、 R2 は水素又は低級アル キル基であ ]9、 R 3 は水素、 低級アルキル基、 ァラルキル基、 ァリール 基、 水酸基置換低級アルキル基、 低級アルコキシ基置換低級アルキル基 [0017] 15 又はテ ト ラ ヒ ドロ ヒ。ラノォキシ基置換低 ¾アルキル基であ j、 4 は水 素、 低級アルキル基又はァラルキル基である。 以下、 同様である。 〕で 表わされるビリ ドピリ ミジン誘導体を提供するものである。 [0018] 本発明においては、 また上記新規ピリ ドピリ ミジン誘導体を製造する 方法として、 [0019] 20 ②一般式〔 IV〕 〕 [0020] [0021] で表わされるピリ ミ ジンカルボン酸ァミ ド誘導体とホルミ ル化剤を塩基 の存在下に反応させる方法、 [0022] ⑤一般式〔 I - π 〕 [0023] 〔 I - π 〕 [0024] R [0025] [0026] 〔式中、 R it は前記 7 のうち、 ァラルキル基およびベンジル才キシカ ルポ二ル基を示す。 以下、 同様である。 〕で表わされる本願発明に係る ビリ ドヒ。リ ミジン誘導体を水素化分解することによ ]9、 および ④一般式〔 〕 ― R 〔 I - 〕 [0027] 〔式中、 R は R 7 のうちァラルキル才キシカルボ二ル 又はァシル基 を示す。 以下、 同様。 〕で示される本願発明に係るピ リ ドピリ ミジン 導体を酸分解することによ:^、 それぞれ一殺式 (; I - ΠΙ 〕 R . [0028] 0 [0029] N N - R 〔 I - IE 〕 [0030] Ξ - Ν [0031] 、 ^ 1 n で表わされるピリ ドピリ ミジン誘導体を製造する方法、 さらに- ⑤一般式〔 V 〕 [0032] — R 〔 〕 [0033] 式中、 R 8 はハロゲン、 アルコキシ基およびニトロ基の群 ら選ばれ る基によ ]9置換されていてもよいフエニル基によ j9置換されたメチル基 又は水素を示す。 以下、 同様。 ) で示されるヒ°リ ドヒ。リ ミジン誘導体と 一般式〔 w 〕 [0034] R iT - Q 〔 I〕 [0035] (式中、 は低級アルコキシカルボニル基、 ァラルキル才キシカルボ ニル基であ 、 Qは塩素又は臭素である。 以下问様。 ) で示される化合 物を反応させることを特徵とする一般式〔 I _ V 〕 [0036] R 9 0 一 R [0037] C I - [0038] で示されるピリ ドピリ ミジン誘導体を製造する方法、 を提供するもので ある ( 本発明の物質は、 前記一般式〔 I 〕で示されるものである。 式中、 R ! の 「低級アルキル基で置換されていてもよいフエニル基」 の低級アルキ ル基としてはメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ィソプロヒ。ル基、 n - プチル基、 イソプチル基、 s e c - プチノレ基、 ί -プチル基などであ j 、 中でもメチル基およびェチル基が好ましく、 低級アルキル基による置換 数は通常 1るいし 3であ ] 、 ¾換数が 1であるものが好ましい。 該置換 されてもよいフエニル基としては、 好ましくは? 5 - トリル基、 V -ェチ ルフエニル基などを挙げることができる。 また が式〔 Π 〕で表わさ れる基である場合の R 5 および R 6 について、 低級アルキル基としては 前に列記したものを、 フエニル基置換メチル基としてはペンジル基、 ジ フエニルメチル基 ¾どを、 R 5 と' R e が結合した炭素数 4 ¾いし όのァ ルキレン基としては、 炭素教が 5であるものがとくに好ましい。 [0039] また R ! が一敉式〔 Π! 〕で表わされる基である場合の R 7 について、 低級アルキル基は前に列記したものを例示でき、 中でもメチル基、 ェチ ル基であることが好ましく、 ァラルキル基としては、 ペンジル基、 ジフ ェニルメチル基、 ト リ フエニルメ チル基などを挙げることができ、 中で もべンジル基カ好ましく、 ァラルキル才キシカルボニル基としては、 ベ ンジノレ才キシカノレボニノレ基、 ジフ エニノレメ'チノレ才キシカノレポ'二ノレ基、 φ -クロ ロ フェニルメチル^キシカルボニル基 どを挙げることができ、 中でも べンジル才キシカルボニル基であるものが好ましく、 低級アルコ キシカルボニル基としては、 メ ト キシカルボニル基、 エ トキシカルボ二 ノレ基、 プロポキシカルボ二ノレ基、 イ ソプロボキシカルボニル基、 プトキ シ力ルボニル基などを挙げることができ、 中でも前二者であることが好 ましい。 さらに R 7 のァシル基としては、 ホル ミ ル基、 ァセチル基、 プ 口ピオ二ル¾ の脂肪族ァシル、 ベンゾィル、 トルオイルなどの芳香族 ァシルを挙げることができ、 中でもホルミ ルおよびペンゾィ ルが好まし い。 また 2 、 3 の低級アルキル基としては前に列記したものを.挙げ ることができ、 R 3 のァラルキル基としては R 7 で列記したものを、 ァ リール基としては、 フエニル基、 0 - ト リル基、 - ト リル基、 : p - ト リル基、 2 , 4 -キシリル基、 2 , 5 -キシリル基、 5 , 5 -キシリル 基、 3 , 4 - キシリ ル基るどを挙げることができ、 中でもフエ二ル基で あることが好ましく、 水酸基置換低級アルキル基としてはメチロール基、 ェチロール基 ¾どを、 低級アルコキシ基置換低級アルキル ¾としては、 メ トキシメチル基、 エトキシメチル 、 メ トキシェチル基、 エトキシェ チル ¾どを挙げることができ、 中でもメ トキシェチルが好ましく、 テ ト ラヒ ドロビラノォキシ置換低級アルキル基としては、 2 -テ ト ラヒ ドロ ヒ。ラノォキシェチル基、 5 -'テト ラヒ ドロ ビラノ才キシプロ ピル基 ¾ど を挙げることができ、 中でも前者であることが好ましく、 R4 の低級ァ ルキル基、 ァラルキル基としても前に列記したものを挙げることができ る。 · これらの化合物の具体例を表 1に示す。 [0040] 凡 [0041] 表 1 (続き [0042] 表 1 (続き [0043] [0044] P ¾ I [0045] 表 1 (続き [0046] 表 1 (続き) [0047] 表 1 (続き [0048] [0049] 〔製法発明 ·その 1 〕 [0050] 本願物質は一般式〔 IV〕 (但し式中の R i るいし 4 の具体例として は本願物質の説明で述べたものと同じである。 以下、 他の化合物の場合 も同じ。 ) で表わされるどリ ミ'ジンカルボン酸アミ ド誘導体とホルミル 化剤とを塩基の存在下に反応させることによ ] 製造することができる。 一般式〔 W〕で表わされる化合物は、 本出願人の出願に係る本出潁と 同日付出願「新規ヒ。リ ミジン誘導体およびその製法」 に記載の方法又は 該方法に準拠した方法、 さらに後記参考例 どの方法によ ] 得ることが できる。 [0051] またホルミル化剤としては、 N , N ' -ジメチルホルムアミ ド、 N , N ' -ジェチルホルムアミ ド、 オル トギ酸メチル、 オルトギ酸ェチル、 ギ酸メチル、 ギ酸ェチル どを用いることができ、 キでも N , N ' -ジ メチルホルムア ミ ドおよびギ酸メチルが好ましい。 反応に用いる塩基としては、 NaII、 NaNH2 、 L iHヽ L iNH2 、 L iN iso - pr )2 、 t -B OK^ Me ON a ¾どを挙げることができ、 中でも^ αίΓおよび t一 BuOKカ好ましい。 [0052] 反応は前記ホルミル化剤が溶媒ともる ] うるので、 とくに他の溶媒を 使用する必要は いが、 使用してもよい。 この場合の他の溶媒としては へキサン、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン どの炭化水素系溶媒、 エー テノレ、 テト ラヒ ドロ フラン、 ジ才キサン、 ジメチノレスノレホキシドの女口き 極性溶媒も用いることができる。 [0053] —般式!: N 〕の化合物に対しホルミ ル化剤は通常 1 ¾いし 2 0倍モル、 好ましくは 1 ¾いし 1 ϋ倍モル用い、 同じく塩基は通常 1ないし 3倍モ ル用いる。 反応は他の条件にもよるが、 通常 2 0 ¾いし 2 5 (3°C、 好ま しくは 8 ϋ いし 1 5 0°Cの温度で 0.5るいし 1 0時間行う。 反応操作 および反応後の目的物の精製単離 ¾どは後記実施例に示す如き常法を採 用することができる。 [0054] 〔製法発明 ·その 2 〕 [0055] 本願発明に係る一般式〔 I - ΠΙ 〕で表わされるヒ。リ ド ヒ。リ ミジン誘導 体は、 本願発明にかかる一般式〔 I - II 〕で表わされるビリ ミジン誘導 体を水素化分解することによって製造することができる。 なお、 Ri の ァラルキル基としては R 7 で列記したものを挙げることができる。 また R7 のァラノレキノレオキシカノレボニノレ基のうち、 ペンジノレ才キシカルボ二 ルの場合にも、 この方法を適用することが可能である。 1 ό [0056] この方法においては、 通常、 水素化分解触媒として、 Ρ ά -炭素ラネ — N i、 p d 0 どを用いることができる。 触媒使用量は、 化合物〔 I - Π :]に対し 0.0 1 ¾いし 1倍( モル比) である。 反応溶媒は通常メタ ノ一ル、 エタノール、 イ ソ :。ロハ。ノールるどのアルコール、 ギ酸、 酢酸、 フ。ロ ヒ。オン酸などのカルボン酸、 またはエタノール-ギ酸、 エタノール [0057] -酢酸 ¾どの混合溶媒、 ジ才キサンるどを用い、 通常、 常圧 いし 1 0 気圧、 好ましくは常圧 ¾いし 5気圧の水素加圧下、 温度 0ないし 2 0 0 °C、 好ましくは 2 ϋ ¾いし 8 0°〇で 0.5 ¾ぃし 1 0時間反応させる。 目 的物の精製単離は常法による。 [0058] 〔製法発明 ·その 3 〕 [0059] 本願発明に係る一般式〔 I - 〕で表わされるピリ ドビリ ミジン誘導 体は、 一般式〔 I - IV 〕で表わされるピリ ドビリ ミ ジン誘導体を酸分解 することによつても得ることができる。 式〔 I - Γ 〕中、 のァラル キルォキシカルボニル基およびァシル基としては、 7 で列記したもの を挙げることができる。 [0060] この方法に用いられる酸としては、 硫酸、 SC I ( ガス)、 丑 B r ( ガス) どを挙げることができ、 これらの酸をー敉式〔 I - ιν〕の化 合物に対し 1 ϋるいし 1 0 0倍モル用い、 水、 メタ'ノール、 エタノール、 ジ才キサン、 T H Fヽ ペンセ、'ン、 トノレエン、 キシレン、 ギ酸、 酢酸、 プ 口ヒ。オン酸などの溶媒中で温度 0るいし 1 0 CTC、 好ましくは 2 (3 い し 5 CTCで 0.5ないし 1 0時間反応させる。 反応後は実施例に示す如き方法で目的物を精製、 単離する。 [0061] 〔精製発明 ·その 4 〕 [0062] 本発明に係る一 式〔 I - V 〕で表わされるピリ ドピリ ミジン誘導体 は、 一般式〔 V 〕で表わされるヒ。リ ドピリ ミジン誘導体と一般式〔 I : で表わされる化合物を反応させることによ ] 製造することができる。 一般式〔 V 〕のピリ ドピリ ミジン誘導体は本潁〔製法発明 .その 1 〕 で述べた方法に準拠して製造することができる。 ここで R 8 は塩素、 臭 素るどのハロゲン、 メ トキシ基、 プロホ0キン基、 イソプロボキシ基等の 低級アルコキシ基、 二ト口基で核置換されていてもよいフエニル基によ 置換されたメチル基、 例えば具体的にはペンジル基、 J) -クロ口フエ ニルメチル基、 p -メ トキシフエ二ルメチル基 どである 又は水素で あ 、 好ましくはペンジル基又は水素である。 ' [0063] 一方、 一般式〔 M〕で表わされる化合物の 'としては、 7 として 列記した低級アルコキシカルボニル基又はァラルキルォキシカルボニル 基を挙げることができる。 [0064] 反応溶媒としては、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水 素類、 Τ Ξ F ジ才キサン等のエーテル類を用いることができ、 好まし くは Γ ^ である。 [0065] 該溶媒中、 一般式〔 V 〕 で表わされる誘導体 1 モルに対し、 一般式 〔 VI〕で表わされる化合物を 1ないし 2モル便用し、 温度 1 5るいし 8 0 °C, 好ましくは 2 0るいし ό 0 °Cで 1ないし 2 0数時間反応させ ることによ i 、 目的物である一般式〔 I - V 〕の化合物を得ることがで きる。 [0066] 〔本願物質の有用性〕 [0067] 本願物質は除草剤として優れた活性を有する。 す わち本願物質は水 田用および畑地除草剤として使用することができる。 除草剤対象の雑草 としては、 タイ ヌ ビエ、 タマガヤッリ、 コナギ、 ホタルイ、 ヘラ才モダ 力 どの水田雑草、 ヒェ、 メヒシパ、、 ァオビュ、 コゴメカャッリ ¾どの 畑地雑草に対してとくに有効である。 [0068] 本願物質を除草剤として用いるには、 本願物質のみ、 またはこれと ¾ 体、 界面活性剤、 分散剤、 補助剤 どを配合して、 水和剤、 乳剤、 微粒 剤または粒剤等に製剤し、 適当る濃度に希釈して散布するか又は直接施 用する。 [0069] 発明を実施するための最良の形態 [0070] 以下、 実施例、 試験例等によ!)本願発明を具体的に説明する。 [0071] 実施例 1 2 ジメチルァミ ノ - ό -ェチルピリ ド〔 4— , 3 - 〕 ヒ。 [0072] . リ ミ ジン - 5 _( ό iO オンの製造 [0073] Z 素化ナト リ ウム 2 4 0 ( ό 0 % 油中、 6 皿 0 I )をへキサンで 洗浄したのち、 , iV -ジメチルホルムアミ ド( D i ) 5 /^に懸濁さ せた。 次いで、 2 - ジメチル了ミ ノ - N -ェチル - 4 - メチルヒ0リ ミ ジ ン - 5 - カルボンァミ ド 1. 0 4 g ( 5 mm o I )の i 溶液 { ^ Q nd ) を加え、 1 5 0 °Cで 1. 5時間反応させた。 Fを減圧留去したのち水 0 0 を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 酢酸ェチル層を飽和食塩水で 洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥したのち酢酸ェチルを减圧留去した。 得 られた残渣を酢酸ェチル -へキサンから再結晶し、 淡黄色結晶を 0.0 0 9得た(収率 5 5 % ) 。 [0074] 5 融点: 1 3 1 〜 1 3 2 °C [0075] 赤外線吸収スペク トル ( ァ錠剤; ^—1 ) [0076] 1 6 5 5、 1 0 2 5、 1 5 8 0 [0077] 1 E -核磁気共鳴スぺク トル(重ク口口ホルム ; p pm ) [0078] ' (α) 1.3 5 ( 35"、 t、 J ^ 7. 0 H z ) ^ (6) 5.2 8 { 6 Ξ^ s )、 ( 5· ιο 9 ό ( 2 ^ヽ q、 = 7. 0 ^ ζ )、 (め ό.5 0 ( 1 丑、 d、 = 7· 45" z )、 ( 7· 2 4 ( 1 ^5"、 d、 J = 7. A H z ) ^ 009. 2 3 ( 1 5", s ) [0079] 参考伊」 1 2 - ジメチルァミ ノ - N -ェチル - 4 - メチルピリ ミ ジン [0080] - 5 -カルボンァミ ドの製造 [0081] 2 - ジメチルァミ ノ - 4 - メチルヒ。リ ミ ジン - 5 -カルボン酸メチル is エステノレ 3.9.0 g ( 2 0 mm o I )、 ェチノレ了ミ ン 9. 0 9 ( 2 0 0 mm o I ) およびナ ト リ ゥムメ トキシドの 2 ^. Q w t メタノ一ル溶液 1.0 g ( 4 m o I ) を 5 (3? ^オートクレープに入れ、 1 1 0°Cで 3.5時間反応さ ' せた。 得られた反応混合物を 2 0 0 の水に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出し た。 酢酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した [0082] 20 のち、 酢酸ェチルを减圧留去した。 得られた残渣を酢酸ェチル -へキサ ンから再結晶し、 無色結晶を 3. 4 8 fi得た(収率 8 4 % ) 。 融点: 1 3 8〜 1 5 9 °C [0083] 赤外線吸収スペク トル ( 錠剤; cm— 1 ) [0084] 3 9 2 0、 1 0 2 0、 1 5 8 8 [0085] 1 H -核磁気共 ί スぺク ト ノレ (重ク口 口ホノレム ; φτη ) [0086] (α) .2 5 ( 3 ff^ t、 J = 7. O ff z ) ^ (δ) 2.5 3 { 5 S s ) , (c) 5. 2 0 ( 05"、 s )、 (め 3.4 3 ( 2 、 )、 ( 5.8 ( 1 ^、 δ ァ)、 0 8.5 2 ( 1 、 s ) [0087] 参考伊 j 2 N -ェチル - 4 - メチル - 2 - ( 1 - ヒ0ペリジニル) ヒ。リ ミ ジン - 5 - カルボンアミ ドの製造 [0088] N - ェチノレ - 4 - メチノレ - - メチノレチ才ヒ。 リ ミ ジン - 5 - 力ノレボン アミ ド 2.1 1 ( 1 0 mm o I ) - と ヒ。ペリ ジン & 5 2 g ( Q. 1 mo I ) とを、 1 8時間加熱還流した。 過剰のピぺリ ジンを留去後、 残渣を水 2 0 の中にあけ、 酢酸ェチルで抽出した。 酢酸ェチル層を飽和食塩水 で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥したのち、 酢酸ェチルを減圧留去し た。 得られた残渣を酢酸ェチル -へキサンから再結晶し、. 黄色結晶を [0089] 1.8 5 g得た(収率 7 5 % )。 [0090] 融点: 1 0 7〜 1 0 8 °C [0091] 赤外線吸収スペク トル ( ァ錠剤; cm'— 1 ) [0092] 5 5 0 0、 1 0 3 5、 Ί 5 8 5 [0093] 1 H -核磁気共鳴スぺクトル (重ク口口ホルム ; p p ) [0094] ( ) 1.2 2 ( 5 t、 = 7. 0 ^ z )、 ) 1.4〜 1· 8 ( ό T )、 ( 2. 5 0 ( 5 ff^ s ) 、 (d) 5.4 2 H、 m ) 、 (e) 3.7〜 4.0 ( 4 T ) 、 {/) 5.8 ( 1 5"、 b r )、 ( 8.2 9 い丑、 s ) 以下の実施例 2〜 1 8に示す化合物は実施例 1 と同様の方法で製造し た。 実施例 2 ό - ェチル - 2 - ( 1 - ヒ。ペリ ジニル) ピ リ ド〔 4 , 5 - d 〕 ヒ。リ ミ ジン - 5 ( ό ) -才ン 収率: 0 7 % 融点: 1 5 1 〜 1 5 2 °C 赤外線吸収スペク トル ( Sァ錠剤; — 1 ) 1 0 5 5、 1 0 2 2、 1 5 7 5 [0095] 1 H -核磁気共鳴スぺク トル(重ク口 ホルム ; p p ) (α) 1.3 4 ( 3 ί、 / =ス 0丑 ζ )、 ) 1.5〜 2. (3 ( ό 5" )、 ( お よび (め 3.9 2 ( ό 5" ) 、 (e)または 0 ό· 2 7 ( 1 5"、 d、 J = 7. A H z ) ^ ( または ( ) 7. 2 4 ( 1 5 d、 / = 7. 4 ^ z ) 、 ( ) 9. 2 1 い 丑、 s ) 実施伊 j 5 2 — ( 4 ペンジソレ - 1 - ヒ。ペラ ジニノレ ) - ό -プロ ヒ。ノレ ビリ ド 〔 4 , 3 - d〕 ヒ。リ ミ ジン -.5 ( .0 H オン 淡黄色オイル :収率 7 4 °h [0096] 、 [0097] 赤外線吸収スペク トル ( Wa C Z ; cm - 1 ) 1 0 0 0、 1 0 2 2、 1 5 8 0 1 Ε -核磁気共鳴スぺク トル (重クロロホルム ; p pm ) [0098] (α) 0.9 ό ( 5 Ηヽ t、 J二 S H z 、 {b) 1.7 6 ( 25"、 ) 、 (c) 2.5 [0099] ( s 、5" 1· ) 2 [0100] Z "6 { ) 、 ( s 、 T S ) S 2 { z E 6 =1 、 P E i ) Z 1 (S)Vl [0101] -GO { z E 6 = f P E ) Z '9 (S)Vl^ ^G 、 、H " 2 0 · 〜 Z Z ·£ ( 、 ( s H Z ) 9 9 { z E 9 = ί 、 ? 、iT ) レ [0102] Z Z l^OO/£8df/l3d Ι0Π0/98 O 実施例 4 2 - ( 4—ペンジル一 1一ビペラジニル)一 6—イ ソブロビ ルビリ ド〔 4 , 3-d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オン 収率: 70 % [0103] 融点: 1 571: ' [0104] 赤外線吸収スぺク トル ί KB r錠剤、 cm— L ) [0105] 1 6 6 0、 1 6 1 8、 1 5 7 6 [0106] 1 H—核磁気共鳴スぺ ク ト ル (重ク ロ 口 ホルム ; ppm) [0107] (a)l.35 ( 6H , d , J = 7Hz ), (b)2.50 ( 4H , t , J = 6 Hz )、 (c) 3.55 ( 2 H, s )、 (d) 3.97 ( 4 H, t , J = 6 Hz ) N (e) 5.23 ( 1 H; s e q , J = 7 Hz ) , (f)又は (g)6.29 [0108] ( 1 H , d , J = 8 Hz ) s (f)又は (g),7.3 ( 1 H,(h)シグナルに 重復)、 (h) 7· 33 ( 5 H, s )、 (i) 9.22 ( 1 H , s ) 実施例 5 6一ェチル一2—フエ ルビリ ド〔 4 , 3— d〕 ビリ ミ ジン [0109] -5 ( 6H )—オン [0110] 収率: 20 % [0111] 融点: 143.0〜 1 43.1 °C [0112] 質量スぺク ト レ : 251 (分子イオンピーク)、 222 [0113] 赤外線吸収スペク トル( ヌジュール ; - 1 ) [0114] 1643、 1 599 [0115] 1 H—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ αホルム ; ppm) [0116] (a) δ 1.42 ί 3 Η , t , J = 7.4 )、 (b) 4.07 ( 2 Η, q , J = 7.4 )、 (c) 6.7 1 ( 1 H , dq , J = 0.9 , 7.4 )、 (d) 7.40 〜 7.70 ( 4 H , m )、 (e) 8.4 8〜 8.70 ( 2 H , m )、 (f) 9.7 0 ( 1 H , s ) [0117] 実施例 6 2—( 4—ベンジル一 1―ビぺラジニル)一 6—( 2—メ ト- キシェチル) ピリ ド〔 4 , 3 -d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) [0118] 'オン [0119] 収率: 5 6 % [0120] 質量スぺク トル : 3 7 9 (分子イオンビーク ) [0121] 赤外線吸収スペク トル( n e a t ; cm— 1 ) [0122] 3 0 40、 2 9 40、 28 2 0、 1 6 6 0 [0123] 1 H—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ口ホルム ; ρρι ) [0124] (a) 2.5 2 ( 4 H , m )、 (b) 3.3 2 ( 3 H, s )、 (c) 3.5 5 ( 3H, s )、 (d) 3.9 3 ( 4 H , m ) (e) 6.2 3 ( 1 H , d , J = 7.9 Hz ) (f ) 7.3 2 ( 5 H , s )、 (g) 7.3 4 ( l H , d } J = 7.9 Hz )、 (h) 9.2 1 ( 1 H , s ) [0125] 実施 (|7 2—( 4—ベンジル一 1—ピペラジニル)一 6—ベンジルピ リ ド〔 4 , 3— d 〕 ビリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—ォン 収率: 7 2 [0126] 融点: 1 44〜; L 45 °C [0127] 赤外線吸収ス.ぺク トル( KB r錠剤; cm -1 ) [0128] 1 6 5 5、 1 6 1 2、 1 5 70 LH—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ口ホルム ; ppm) [0129] (a) 2.50 ( 4 H , m )、 (b) 3.54 ( 2 H , s )、 (c) 3.97 ( 4 H m )、 (d) 5.09 ( 2 H , s )、 (e)又は (f) 6.25 ( 1 H , d , J = 7.4 Hz ), (e)又は (i)7.3 ( 1 H , (g) , (h)シグナルに重復 )、 (g) 又は (h)7.30 ( 5H, s )、 fe)又は (h)7.32 ( 5H , s )、 (j) [0130] 9.24 C 1 H , s ) [0131] 実施 ij8 2— ( 4—ベンジル一 1—ピペラジニル)一 6—フエ二ルビ リ ド〔 4 , 3— d〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オン 収率: 52 % [0132] 融点: 1 67〜 1 68 [0133] 赤外線吸収スペク トル(KBr錠剤; - ' ) [0134] 1 660、 1 623、 1 5 92、 1 580 [0135] 'Η—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ口ホルム ; ppm) [0136] (a) 2.5 3 ( 4 H , m )、 (b) 3.56 ( 2 H , s )、 (c) 4.01 ( 4 H m )、 (d)又は (e) 6.36 ( 1H , d , J = 7.0Hz )N (d)又は (e) 7.4 ( 1 H , (f) , (g)シグナルに重復)、 )7.33 ( 5 H, s )、 (g) 7.4 ( 5 H, m )、 (h) 9.24 ( 1 H, s ) [0137] 実施 !l 9 2 - ( 4—ベンジル一 1—ピペラジニル)一 6—〔 2— ( 2' —テ トラヒ ドロビラニルォキシ)ェチル〕一ピリ ド〔 4 , 3 [0138] - d:] ピリ ミ ジン一 5 ( 6H )—オン [0139] 収率 60 収率: 6 0 % [0140] 黄色オイル [0141] 赤外線吸収スぺク トル( n e a t ; cm~l ) [0142] 1 6 5 0、 1 6 1 5、 1 5 7 3 [0143] 1 H—核磁気共きスぺク トル(重ク口ロホソレム ; p pm) [0144] (a) 1.3〜 2.0 ( 6 H )、 (b) 2.5 2 ( 4 H , m )、 (c) 3.5 6 ( 2 H s ) N (d)3.4-4.3 ( 1 0 H )、 (e)4. δ 6 ( l H , m )、 (f)又は (h) 6.2 6 ( 1 H , d , J = 7.4 Hz ) s (g) 7.3 3 ( 5 H , s )、 (f)又は (¾ 7.4 0 ( 1 H , d , J = 7.4 Hz ) , (i) 9.2 2 ( 1 H , s ) [0145] 実施例 1 0 2— ( 4—ベンジル一 1 ーピペラジニル) ピリ ド〔 4 , 3 ·' — d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン [0146] 収率: 6 8 % [0147] 融点: 2 0 1.0匸 [0148] 質量スペク トル: 3 2 1 (分子イオンピーク ) [0149] 1 H—核磁気共鳴スぺクトノレ(重クロ口ホルム ; p pm ) [0150] (a) 2.5 4 ( 4 H , t , J = 5 Hz )、 (b) 3.5 6 ( 2 H , s )、 (c) 4.0 2 C 4 H , t , J = 5 H z )、 (d) 6.3 0 ( 1 H , d , J = 7 Hz ) , (e) ,(i) 7· 2 8〜 7.4 0 ( 6 H , m )、 (g) 9.2 0 ( 1 H , s )、 (h) l 0.8 2 ( 1 H , b r S ) [0151] 実施例 1 1 2 — ( 4—ベンジル一 1 ―ピペラジニル )一 6—ェチル一 8—メチルビリ ド 〔 4 , 3 -d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) [0152] 'オン [0153] 収率: 5 3 ^ [0154] 融点: 1 49~1 5 1 [0155] 赤外線吸収スぺク トルぐ KB r錠剤、 - 1 ) [0156] 6 58、 1 6 25、 1 5 7 5 [0157] 1 H—核磁気共鳴スぺク 卜ノレ(重クロ口ホルム ; ppm) [0158] (a) 1.3 3 ( 3 H , t , J" = 7.2 )、 (b) 2.1 5 ( 3 H , d , J = 0.9 )、 (c) 2.50 ( 4 H , m )、 (d) 3.5 6 ( 2 H , s )、 (e) [0159] 3.9 2 ぐ 2 H , q , JT = 7.2 )、 (f ) 4.00 ( 4 H , m )、 (g) [0160] 7.1 0 ( 1 H , q , J = 0.9 )、 (h).7.3 3 ( 5 H, s )、 (i) 9.23 ( 1 H , s ) [0161] 実施 !j 1 2 6—ェチル一 2— ( 4—ベンジル一 1—ホモビペラ ジニル) ピリ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6H )—オン 収率: 8 9 [0162] 1 H—核磁気共鳴スペク トル(重クロ口ホルム ; ppm) · (a) 1.37 ( 3 H , t , J = 6.8 Hz )x (b)l.7〜 2.2 ( 2 H , m )ヽ (c)2.5〜3.0 ( 4 H, m )、 (d) 3.66 ( 2 H , s ), (e)及び (i) 3.8〜 4.2 ( 6 H , m )、 (g)又は (h) 6.29 ( l H , d , J = 7.2 [0163] Hz )、 (h)又は (g) 7.26 ( 1 H , d , J = 7.2 Hz )、 (i) 7.3 3 [0164] ( 5 H , s )、 (j)9.2 6 ( 1 H, s ) 実施 1 3 6—ェチルー 2—( 4—ベンジル一 1—ピペラジニル) ビ リ ド〔 4 , 3— d〕 ピリ ミジン一 5 ( 6 H ) —オン 収率: 87 % [0165] 融点: 1 16〜 1 18 Ό [0166] 赤外吸収スぺク 卜ラム ( KB r錠剤、 cm - 1 ) [0167] 1 660、 1638 [0168] (a) 1.32 ( 3 H , t , J = 7 Hz ) , (b) 2.50 ( 4 H , t , J = 6 Hz )% (c) 3.54 ( 2 H , s )N (d) 3.76〜 4.08 ( 6 H , m ) [0169] (e) 6.24 ( 1 H , d , . J = 7 Hz )、 (f) 7.23 ( 1 H , d , J = 7 Hz )N (g)7.31 ( 5H , s )、 (h)9.20 ( lH., s ) [0170] 実施伊 J 14 6—メチル一 2—( 4—ベンジル一 1—ビぺラジニル)ピ リ ド〔 4 , 3— d〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン 収率: 96 % [0171] 粘稠液 [0172] lH—核磁気共鳴スぺク トラム(重クロ口ホルム ; Ppm) [0173] (a) 2.50 ( 4 H , m )、 (b) 3.48 ( 3 H , s )、 (c) 3.55 ( 2 H , s )、 (d)3.96 ( 4 H , m )、 (e) 6.24 ( 1 H, d , J = 8 Hz ) , [0174] (f) 7.24 ( 1 H , d , J = 8 Hz ) , (g)7.32 C 5 H , m ) , (h) 9.20 ( 1 H , s ) [0175] 実施伊 j 15 6—シクロブ口ピル一 2— ( 4—ベンジノレ一 1—ピペラジ ニル)ピリ ド〔 4 , 3-d 〕ピリ ミジン一 5 ( 6 H)-オン 収率: 71 % [0176] 融点: 1 1 3〜 1 1 4匸 [0177] 1 H—核磁気共鳴スペク トル(重クロ αホルム ; <5 : p pm ) [0178] (a) 0.8〜 1.3 ( 4 H , m )、 (b) 2. 5 1 ( H , m ) (c) 3.:!〜 3.4 ( 1 H , m )、 (d) 3.5 5 ( 2 H , s )、 (e) 3.9 7 ( 4 H , m ) [0179] (f)6.2 2 ( 1 H , d )、 (g)7.3 0 ( 1 H , d )、 (h)7. 3 3 ( 5 H , s )、 (i)9.2 0 ( 1 H , s ) [0180] 赤外吸収スペク トル( KB r錠剤; cm— 1 ) [0181] 2 8 0 0、 1 6 5 0、 1 6 1 5 [0182] 実施 (J 1 6 2— ( 4—ベンジル一 1ーピペラジニル)一 6—ェチル一 [0183] 8 —ベンジルピリ ド〔 4 , 3— d 〕一ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン -ー 収率: 6 3 % [0184] 融点: 2 1 2.5 [0185] 質量スペク トル : 4 3 ·6 (分子イオンピーク ) [0186] 1 Η—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ口ホルム ; ppm ) [0187] (a) 1.5 1 ( 3 H , t , J = 7 Hz )、 (b)2.5 1 ( 4 H , t , J = 4.5 Hz )、 (c) 3.5 6 ( 2 H , s )、 (d) 3.8 0〜 4.2 0 ( 8 H , m )、 (e) 7.0 0 ( 1 H , s ) [0188] 実施 lj 1 7 6—ェチノレー 2— ( 4—ベンジル一 1 —ビペラジニル)一 ピリ ド〔 4 , 3 — d 〕 ピリ ミジン一 5 ( 6 H )—オンの製造 2— ( 4—ベンジル一 1—ピペラジニル ) 一N—ェチル一 4ーメチノレ ピリ ミ ジン一 5—力ルボンァミ ド 2· 389- (7mmo 1 ) の N , N—ジメ チルホルムァミ ド溶液( 20 )の中に力 リ ウム t—ブトキシ ド 0.94 .^ ( 8.4 mmo 1 ) を加え、 150 で 1時間反応を行った。 実施例 1と 同様に反応混合物を処理したところ、 実施例 1 3と同じ目的物が 0.93 ^得られた ί収率 38 % )。 [0189] 実施 !j 18 6—ェチル一 2— ( 4—ベンジル一 1―ピペラジニル ) ― ピリ ド〔 4 , 3— d 〕 ビリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オンの製 水素化ナ ト リ ウム 0.10 ( 60 油中、 2.5 mmo 1 )をへキサンで 洗浄したのち、 ジメチルスルホキシド( DMS 0)2 に懸濁させた。 次 いで、 2— ( 4一べンジルー 1一ビペラジニノレ ) 一 N—ェチノレ一 4—メ チルビリ ミ ジン一 5—力ルボンァミ ド 0.68 ^ ( 2 mmo 1 )の DMSO 溶液( 3 ^ )を室温で加えて 15分間攪拌後、 ギ酸ェチル 1.48 ^ ( 20 mmo 1 )を滴下し 50 X:で 2時間反応を行った σ実施例 1と同様 に反応混合物を処理したところ、 実施例 13と同じ目的物が 0.36 ^得 られた(収率 51 % )。 [0190] 実施 ll 19 6—ェチル一 8—メチル一 2— ( 1—ピペラ'ジニル) ピリ ド〔 4 , 3— d 〕ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オンの製造 2— ( 4—ベンジル一 1—ピペラジニノレ )一 6—ェチノレ一 8—メチノレ ピリ ド〔 4 , 3— d〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン 300 M ( 0.83 mmo 1 )にェタノ一ル 6 、 酢酸 2 ^および 10 %パラジゥム炭素 30 を加え、 水素雰囲気下 45 Cで 3.5時間加温する。 反応混合物からパ ラジゥム—炭素をのぞき減圧濃縮する。 濃縮物に水 20 を加え、 発泡 しなくなるまで炭素力リゥムを加える。 クロ口ホルム 50 で 3度抽出 し、 クロ口ホルム層を硫酸ナ ト リ ウムで乾燥し、 '減 濃縮して 6—ェチ ル一8 -メチル一 2— ( 1—ビペラジニル ピリ ド〔 4 , 3-d 〕 ピリ ミジン一 5 ( 6 H )—オンを無色結晶として 200^得た(収率 88 ヽ 融点: 170〜 1 72 I: [0191] 赤外線吸収スぺク トル ( KB r錠剤; —1 ) [0192] 1 657、 1 6 18、 1578 , [0193] 1 H—核磁気共鳴スペク トル (重クロ口ホルム ; ρρπθ [0194] (a) 1.33 ( 3 Η , t , J = 7.2 ) s (b) 1.66 ( 1 H , s )、 (c) 2.17 Γ 3 H , d , J = 1.3 ) (d) 2.94 ( 4 H , m ) % (e) 3.97 ( 6 H , m ) , (f ) 7.1 0 Γ 1 H , q , J = 1.3 ) , (g) 9.24 ( 1 H , s ) [0195] 以下の実施例 20〜 28に示す化合物は実施例 19と同様の方法で製 [0196] XB.し 7こ。 [0197] 実施例 20 2— ( 1—ピペラジニル)一 6— n—プロピル一ビリ ド 〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6H)—オン 収率: 70 % [0198] 融点: 143 Ό 赤外線吸収スぺク トル( KB r錠剤; cm" 1 ) [0199] 3 3 2 5、 1 6 6 0、 1 6 2 2、 1 5 7 6 [0200] iH—核磁気共鳴スぺク トル(重ジメチルスルホキシド ; ppm) [0201] (a) 0.8 8 ( 3 H , t , J = 8 Hz )s (b) 1.6 6 ( 2 H , m 、 (c) 2.7 5 ( 4 H , t , J = 6 Hz )、 (d) 2.8 ( 1 H ,(c)と重復 )、 [0202] (e) 3.7 6〜3.9 1 Γ 6 H , m ), (i)又は (g) 6.2 2 ( 1 H , d , J = 8 Hz )、 (i)又は (g) 7.7 3 ( 1 H , d , J = 8 Hz ) . (h) 9.0 3 1 H , s [0203] 実施例 2 1 6—イ ソプロピル一 2— ( 1—ビペラジニル) 一ピリ ド [0204] C 4 , 3— d〕 ピリ ミジン一 5 ( 6 H )—オン 収率: 6 4 % [0205] 融点: 1 6 1 X: [0206] 赤外線吸収スペク トル( KB r 錠剤; cm— 1 ) [0207] 3 4 3 0、 1 6 5 2、 1 6 1 8、 1 5 8 4 ) [0208] 1 H—核磁気共鳴スぺク トル (重クロ口ホルム ; ppm) [0209] (a) 1.3 1 C 6 H , d , J = 8 Hz ) , (b) 2.9 2 ( 4 H , bs )、 (c) 3.9 2 C 4 H , bs )、 (d) 5.0 5 ( 1 H , s eq , J = 8 Hz ) (e)6.2 ( 1 H , b s )N (i)又は (g) 6.2 9 ( 1 H ,· d , J = 8 Hz) 、 (i)又は (g)7.8 3 ( l H , d , J = 8 Hz ) , (h) 9.0 8 C 1 H , s) 実施例 2 2 6—フエニル一 2— ( 1 —ピぺラジュル) ピリ ド〔 4 , 3 [0210] — d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オンの製造 収率: 9 5 ^ [0211] 融点: 1 0 0〜 1 0 5 Ό ( ェ—テルから再結晶) [0212] 赤外線吸収スぺク トル ( KB Γ錠剤; α→ ) [0213] 3 3 0 0、 1 6 5 0、 1 6 2 0、 1 5 9 0 [0214] 1 H—核磁気共鳴スぺク トノレ(重ク。口ホルム ; p pm) [0215] (a) 3.0 4 ( 4 H , m ) (b) 4.0 4 ( 4 H , m )、 (c)又は (d) 6.3 5 Γ 1 H , d , J = 7.4 Hz , (e)及び f (c)の (d) ) 7.4 〔 6 H )、 (f)9.2 2 Γ 1 H , s ^ [0216] 実施伊 j 2 3 6 —ベンジルー 2— ( 1—ビペラジニル)ビリ ド〔 4 , 3 d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン [0217] 収率: 4 1 % [0218] ra i!fi点: 1 6 0〜 1 6 3 Ό [0219] 赤外吸収スぺク トル( KB r錠剤、 —l [0220] 3 4 0 0、 1 6 6 5、 1 6 1 5、 1 5 7 0 [0221] ιΗ—核磁気共鳴スぺク トル f CDC l a 、 p pm) [0222] (a) 3.0 8 ( m , 4 H ) λ (b) 4.1 0 C m , 4 H ) (c) 5.1 2 ( s 2 H )、 (d) 6.2 8 ( d , 1 H , J = 7.2 Hz )、 (e) 7.3 2 ( d 1 H , J = 7.2 Hz )、 (f) 7.3 4 ( s , 5 H )、 (g) 9.2 8 ( s [0223] 1 H ) [0224] 実施例 2 4 2— ( 1—ピペラジニル ) ピリ ド〔 4 , 3— d 〕ピリ ミジ ンー 5 ( 6 H ) —オン 収率: 9 9 % [0225] 融点: 2 5 2.8 (ェタノ一ル再結晶) [0226] mas s. : 2 3 1 ] I厂) [0227] 謹 r : ( δ ppm , DMSO中 d— 6 ) [0228] (a) 2.8 7 C 4 H , b r . s )、 (b) 3.8 8 ( 4 H , b r . s )、 (c) [0229] 5.73 r iH , d , J = 7 Hz (d)6.9 8 ( l H , d , J = 7 Hz ) , (e) 9.0 2 C 1 H , s [0230] 実施 l!2 5 6—ェチル一 2— ( 1—ピペラジニル)一8—ベンジル一 ピリ ド〔 4 , 3 -d 〕 ピリ ミジン一 5 ( 6 H )—オン 収率: 5 6 % [0231] 融点: 2 3 1.7匸 [0232] 質量スぺク トル : 3 49 (分子イオンピーク ) [0233] 赤外吸収スペク トル( KB r錠剤、 OT一1 ) [0234] 34 0 0、 2 9 20、 1 6 5 4、 1 6 1 7、 1 5 7 4 [0235] 【11—核磁気共鳴スペク トル(重ジメチルスルホキシド ; ppm) [0236] (a) 1.24 ( 3 H , t , J = 7 Hz )、 (b) 2.9 6 ( 4 H , b r . s )、 (c) 3.8 0〜 41 2 ( 8 H , m )、 (d) 7.24 ( 5 H , s )、 (e) 7.80 ( 1 H , s )、 (f) 8. o 6. ( i H , s ) [0237] 実施例 26 6—ェチル一 2— ( 1—ビペラジニル:) ピリ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 f 6 H )—オン [0238] 収率: 7 3 % 融点: 1 49〜 1 5 2 [0239] 赤外線吸収スぺク トルぐ KBr、 CHC13 ; cnT1 ) [0240] 1 6 5 5、 1 6 4 5、 1 6 2 0、 1 5 7 5 [0241] 1 H—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ口ホルム ; p p m ) [0242] (a) 1.3 4 Γ 3 H , t , J = 7 Hz ) N (b) 1.8 7 ( 1 H , b r. s [0243] (c)2.9 4 ( 4 H , t , J = 6 Hz )x (d)及び (e) 3.9 6 ( 6 H , ) (f)又は (g) 6.27 f l H, d , J = 8Hz )、 (f)又は (g) 7.2 9 ( 1 H , d , J = 8 Hz ) (h) 9.2 2 ( 1 H , s ) [0244] 実施例 2 7 6一ェチル一 2—( 1一ホモビペラジニル ピリ ド〔 4 , [0245] 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6H )—オン [0246] 収率: 9 4 % [0247] (a) 1.34 ( 3 H , t , J = 7.2 Hz ) , (b) 1.5 9 Γ 1 H , s ) (c) 1.8〜 2· 1 ( 2 H , m )、 (d) 2.8〜 3.1 ( 4 H , m )、 ( 及び (f) 3· 8〜 4.1 f 6 H , m )、 (g)又は (h) 6.2 7 ( 1 H , d , J = 7.4 Hz ) (h)又は (g) 7.2 6 ( l H , d , J = 7.4Hz ), (i) [0248] 9.2 3 ( 1 H, s ) [0249] 実施例 2 8 6—メチル一 2— ( 1—ピペラ ジニル) ピリ ド〔 4 , 3 - d 〕 ピリ ミジン一 5 (— 6 H )—オン [0250] 収率: 8 6 % [0251] オイル状態 [0252] 1 H—核磁気共鳴スぺク トル(重クロ口ホルム ; 3 p pm ) (a) 2. 9 3 ( 4 H , m )、 (b) 3. 5 0 ( 3 H , s )、 (c) 3. 9 4 ( 4 H m )、 (d) 4. 4 0 ( 1 H , b r . s · )、 (e) 6. 2 5 ( 1 H , d , J = 8 Hz ) N (f) 7. 2 5 ( 1 H , d , J = 8 Hz ) N (g) 9. 2 3 ( 1 H , s ) [0253] 実施例 2 9 6—ェチルー 2—( 1—ピペラジニル) ピリ ド〔 4 , 3— d 〕 ビリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オンの製造 [0254] 2— C 4—ベンジロキシー 1—ピペラジニノレ ) 一 6—ェチノレピリ ド 〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オン 0. C 1. 0 mmo 1 ) にエタノール 1 5 ^と酢酸 1 を加え、 5 % P d— C 0. 2共存下、 常 圧の水素ガスを 5 0 、 2 h r接触させた。 反応混合物から 5 — Cを除去し、 溶液を ¾圧乾固した。水を加えて炭酸力リゥムで中和後、 クロ口ホルム抽出した。 クロ口ホルム層を常法に従って処理すると実施 例 2 6で示した化合物と同じ 6—ェチル一 2— ( 1—ピペラジニル :)ピ リ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5— ( 6 H )—オンを 0. 0 8 ^ f収率 3 1 )得た。 [0255] 実施例 3 0 6 —ェチル一 2—( 1—ビペラジニル) ビリ ド〔 4 , 3— d 〕 ビリ ミジン一 5 ( 6 H ) —オンの i¾ [0256] 2— ( 4 —ベンジロキシカノレボニノレ一 1―ビぺラジニノレ )— 6—ェチ ルピリ ド!: 4 , 3 - d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オン 0. 4 5 ^ ( 1. 1 mmo 1 )を 2 5 臭化水素酢酸溶液 1 0 中、 室温で 2. 0 hr 反応させ た。 反応混合物を減圧乾固後、 水を加えて炭酸カリウムで中和した。 ク ロロホルムで抽出後、 常法に従って処理すると実施例 26で示した化合 物と同じ 6—ェチル一 2— ( 1—ビペラジニル) ビリ ド〔 4 , 3— d〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オンを 0.17 ( 59 % )得た。 [0257] 参考実施例 2— ( 4—ホルミル一 1—ピペラジニル) 一 6—ィソプロ ビルピリ ド 〔 4 , ' 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン [0258] 6—イソプロピル一 2—〔 1—ビペラ ジニル) ビリ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミジン一 5 ( 6H )—オン 0.273 ( lmmol )とギ酸 2.39- ( 50 mmol:)を 80 で 1時間反応させた。 ギ酸を減 E下に留去し、 残渣を塩化メチレン一へキサンよ 再結晶して白色結晶を 0.253 ^を 得た(収率 80 % )。 [0259] 融点: 1 92 [0260] 赤外線吸収スぺク ト ル ( KB r錠剤; of 1 ) [0261] 16 58、 1616、 1 576 [0262] Ή—核 気共鳴スペク トル(重クロ口ホルム : ppm) [0263] (a) 1.38 ( 6 H , d , J = 8 Hz )、 (b) 3.41〜 3.73 ( 4 H , m ) (c) 3.93〜 4.10 ( 4 H , m )、 (d) 5.26 ( 1 H , s e q、 J = 8Hz ) (e)又は (f) 6.35 ( lH , d , J = 9Hz ), (e)又 は ) 7.40 ( 1 H , d , J = 9 Hz ) , (g) 8.1 6 ( 1 H , s )、 () 9.27 ( 1 H , s ) [0264] 実施例 31 2— ( 4—エ トキシカルボ二ルー 1—ピペラジニル)一 6 [0265] —フエニルピリ 'ド〔 4 , 3 -d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オンの製造 [0266] 2— C 4—ベンジル一 1―ビぺラジニノレ)一 6——フエ二ノレピリ ド〔 4 , 3 - d 〕ピリ ミジン一 5 ( 6 H ) —オン 3 0 0 ^ ( 0.7 8 mmo 1 )とク n o炭酸ェチル 1 3 0 ( 1.2 mmo l )をテトラヒ ドロフラン 1 0 に 加え.て 6 0 Όで 3時間反応させた。 溶媒を減圧留去し、 残渣を n—へキ サンで洗浄して淡黄色結晶 2 9 0 を得た(収率 9 2 。 [0267] 融点: 1 9 2.3匸 [0268] 質量スぺク トル : 3 7 9 (分子ィオンビーク ) [0269] 赤外線吸収スペク トル( KBr di sk ; cirT1 [0270] 1 6 9 5、 1 6 6 1、 1 6 2 4、 1 5 8 8 [0271] tH—核磁気共 スぺク トル(CDC1 3; ppm) [0272] (a) 1.2 9 Γ 3 H , t , J = 7 )、 (b) 3.5 5 ( 4 H , m )、 (c) 3.9 9 ( 4 H , m )、 (d) 4.1 7 ( 2H , q , J = 7 ) , (e) 6.3 4 ( 1 H , d , J = 6 )N (f ) 7.4 1 ( 6 H , m ) (g) 9.2 4 ( 1 H , s . [0273] 実施伊 j 3 2 2— ( 4—ベンジルォキシカルボニル一 1 —ピペラジニル) [0274] - 6—フエ二ルビリ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オンの製造 [0275] 2— ( 4—ベンジル一 1 —ピペラジニル)一 6—フエニルピリ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H ) —オン 1 0 0^ ( 0.2 6 mmo 1 )とべ ンジノレォキシカルボニノレクロ リ ド 9 0 Offl ( 5.7 7 mmo 1 )をテ 卜ラヒ ド oフラン 5 に加えて、 60 X:で 3時間加熱した。 溶媒を減圧留去し、 残渣を n ^キサンで洗浄し、 淡黄色結晶 1 0 0^を得た(収率 8 2 融点: 1 7 3.3 C [0276] 質量スぺク トル : 44 1 [0277] 赤外線吸収スペク トル( ヌジュール ; cm一1 ) [0278] 1 69 8、 1 6 60、 1 62 3 [0279] 1H—核磁気共鳴スペク トル (CDC 13 ; ppm) [0280] (a) 3.6 1 ( 4 H , m ) (b) 4.0 0 ( 4 H , m:)、 (c) 5.1 8 ( 2 H , s )、 (d) 6.3 6 ( 1 H , d , J = 7 )、 (e) 7.3 7 " 1 H, m )、 (f ) 9.25 ( 1 H , m ) [0281] 実施伊 j 3 3 2 - C 一ベンジロキシカルボニル一 1―ピペラジニル) [0282] 6—ェチルピリ ド〔 4 , 3— d 〕 ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H [0283] —オンの製造 [0284] 2— ( 4—ベンジル一 1―ピペラジニル)一 6—フエニルビリ ド〔4 , 3 - d 〕ピリ ミ ジン一 5 ( 6 H )—オンとクロ口炭酸ェチルの代])にそ れぞれ 2— ( 4—ベンジル一 1―ビペラジニル)一 6—ェチルビリ ド 〔 4 , 3- d 〕 ピリ ミジン一 5 ( 6 H )—オンとクロ口炭酸ベンジルを 用いて実施例 31と同様の方法で合成した。 [0285] 収率: 8 3 % [0286] 赤外線吸収スぺク トル ( KB r錠剤、 cm— 1 [0287] 170 9、 1 6 60、 1 638 核磁気共鳴スぺク トノレ( C DC 1 3 ; p p m ) [0288] (a) 1. 3 5 ( 3 H , t ) x (b) 3. 6 2 C 4 H , m ) (c) 3. 7 6〜 4. 0 8 ( 6 H , m )、 (d) 5. 2 0 C 2 H , s ) (e) 6. 2 5 ( 1 H d , J = 7 Hz ) (f) 7. 2 5 C 1 H , d , J = 7 Hz (g) . 7. 3 6 ( 5 H , s , (h) 9. 2 3 Γ 1 H , s ^ [0289] 除草剤としての配合例 [0290] 次に、 太発明の配合例について説明する。 なお、 数字は重量百分率を [0291] 7 丁。 [0292] 配合例(水和剤) [0293] '本発明の化合物 1 0 ^ 高級アルコニル硫酸エステルナ ト リゥム塩 3 力オリン 8 7 ^ 以上を均一に混合粉碎して水和剤とする ( [0294] 発芽前処理試験 [0295] 内径 9 cmの磁製ポッ トに畑土壌を詰め、 ァオビュ、 コゴメ、 力ャッリ を播種した。 ただちに 1アールあた 所定化合物を含む水和剤 3 0 0 g を 2 0 リットルの水に分散させ、 ポットの上方から小型噴霧器で土壌全 面にスプレー処理した。 処理後 2 1日間温室に置き、 除草効力を調べた c 評価基準は以下の通 ] である。 [0296] 除草効果 [0297] 5 完全枯死 4 除草効果 大 [0298] 3 除草効果 中 [0299] 2 除草効果 小 [0300] 1 除草効果 微小 [0301] 0 無効(正常) [0302] 結果を表 2に示す。 [0303] 産業上の利用可能性 [0304] 以上のように、 本発明の新規化合物は除草剤として有用である c
权利要求:
Claims 請 求 の 範 囲 ω —般式〔ι〕 〔I〕 〔式中、 は低級アルキル基で置換されていてもよいフエニル基、 一般式〔Π〕 〔n〕 、hj 6 ( ここで R 5 、 · R8 は各々水素、 低級アルキル基又はフエニル基置換 メチル基であるか、 あるいは R 5 と R6 が結合して炭素数 4ないし 6 のアルキレン基を示す。 )で表わされる基又は一般式〔 〕 ■Ν Ν— R 7 〕 / (CH2)n ( ここで nは 2又は 3であ])、 R7 は水素、 低級アルキル基、 ァラル キル基、 低級アルコキシカルボニル基、 ァラルキルォキシカルボニル 基又はァシル基を示す。 )で表わされる基であ]、 R2 は水素又は低 級アルキル基であ R 3 は水素、 低級アルキル基、 ァラルキル基、 ァリール基、 水酸基置換低級アルキル '基、 低級アルコキシ基置換低級 アルキル基又はテ トラヒ ド口ビラノォキシ基置換低級アルキル基であ ]9、 R4 は水素、 低級アルキル基又はァラルキル基である。 〕で表わ されるピリ ドピリ ミジン誘導体。 (2) 一般式〔m 〔m Γ式中、 Rt は低級アルキル基で置換されていてもよいフエニル基、 一般式〔Π〕 〔H〕 ' ( ここで R 5 、 R6 は各々水素、 低級アルキル基又はフエニル基置換 メチル基であるか、 あるいは R 5 と R6 が結合して炭素数 4ないし 6 のアルキレン基を示す。 )で表わされる基又は一般式〔I〕 N R / 〔I〕 CCH,) n ( ここで nは 2又は 3であ ]9、 R7 は水素、 低級アルキル基、 了ラル キノレ基、 低及アルコキシカルボニル基、 ァラルキルォキシカルボ二ノレ 基又はァシル基を示す 3 )で表わされる基であ R 2 は水素又は低 級アルキル基であ ]9、 R 3 は水素、 低級アルキル基、 ァラルキル基、 ァリール基、 水酸基置換低級アルキル基、 低級アルコキシ基置換低級 アルキル基又はテ卜ラヒ ドロビラノォキシ基置換低級アルキル基であ ]、 R4 は水素、 低級了ルキル基又はァラルキル基である。 〕で表わ されるピリ ミジンカルボン酸アミ ド誘導体とホルミル化剤とを塩基の 存在下に反応させることを特徴とする一般式〔 I〕 〔 I〕 式中、 ないし R4 は前記と同じ。 )で表わされるピリ ドピリ ミ ジン誘導体の製造方法。 (3) ~¾式〔 I一 Π 〕 R 7 - 〔 I— Π 〕 o (式中、 nは 2又は.3であ])、 R7 はァラルキル基、 ベンジルォキシ カルボニル基であ ]9、 R2 は水素又は低級アルキル基であ 、 R 3 は - 7km, 低級アルキル基、 了ラルキル基、 ァリ 一ル基、 水酸基置換低級 アルキル基、 低級アルコキシ基置換低級アルキル基又はテ 卜ラヒ ドロ ピラノォキシ基置換低級アルキル基であ])、 ¾ 4 は水素、 低級アルキ5 ル基又はァラルキル基である。 )で表わされるピリ ドピリ ミ ジン誘導 体を水素化分解することを特徴とする一般式〔 I— K 〕 (式中、 R2 ないし R4 は前記と同じ。 )で表わされるピリ ドピリ ミ ジン誘導体の製造方法 c (4) 一般式〔 I 一 IV〕 - R 〔 I — m ( 式中、 nは 又は 3であ])、 はァラルキルォキシカルボニル基 又はァシル基であ ]9、 R2 は水素又は低級アルキル基であ]、 R3 は 水素、 低級アルキル基、 ァラルキル ¾、 ァリール基、 水酸基置換低級 アルキル基、 低級アルコキシ基置換低級アルキル基又はテ トラヒ ドロ ピラゾォキシ基置換低級アルキル基であ ]9、 R4 は水素、 低級アルキ ル基又はァラルキル基である。 )で表わされるピリ ドビリ ミジン誘導 体を酸分解することを特徴とする一般式〔 1—1 〕 〔 I — m (式中、 R 2 ¾いし R4 は前記と同じ。 )で表わされるピリ ドビリ ジン誘導体の製造方法 c (5) 〔V〕 ί式中、 ηは 2又は 3であ ]9、 Β8 はハロゲン、 アルコキシ基および 二ト口基の群から選ばれる基によ 核置換されていてもよ フエニル 基によ] 置換されたメチル基又は水素であ ]、 R2 は水素又は低級ァ ルキル基であ] 、 R 3 は水素、 低級アルキル基、 ァラルキル基、 ァリ —ル基、 水素塞置換低級アルキル基、 低級アルコキシ基置換低級アル キル基又はテ トラ ヒ ドロビラノォキシ基置換低級アルキル基であ ]9、 R4 は水素、 低級アルキル基又はァラル.キル基である。 〕で表わされ るピリ ドビリ ミジン誘導体と一般式〔VI〕 η - Q an (式中、 は低級アルコキシカルボニル基、 ァラルキルォキシカル ボニル基であ]、 Qは塩素又は臭素である。 )で示される化合物を反 応させることを特徵とする一般式〔 I— V〕 f' 一 〔 I一 V〕 (式中、 n、 R2 、 R3 、 R4 および HZ"は前記と同じ。 )で表わさ れるピリ ドビリ ミジン誘導体の製造方法 c
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同族专利:
公开号 | 公开日 JPH0339508B2|1991-06-14| JPS6143190A|1986-03-01|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
1986-02-27| AK| Designated states|Designated state(s): US | 1986-02-27| AL| Designated countries for regional patents|Designated state(s): DE FR GB IT |
优先权:
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