台湾专利TW201321918A 用於流量控制器的原位校正的方法

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专利摘要:
在此提供一種用於流量控制器的原位校正的方法和設備。在一些實施例中，流動一氣體的方法包含以下步驟：提供流量控制器，流量控制器經組態以：基於計算出的第一關係，提供具有第一數值的流動速率的第一氣體，第一關係藉由使用標準氣體來決定；從處於流量控制器的相對應的複數個數值的設定點而決定的第一氣體的複數個數值的流動速率中，決定對於第一氣體的流動速率和設定點之間的實際的第一關係，其中複數個數值的每一數值的流動速率從將第一氣體流動經過處在複數個數值的相對應的數值的設定點的流量控制器來決定；及基於實際的第一關係，利用第一數值的流動速率流動第一氣體。
公开号:TW201321918A
申请号:TW101135954
申请日:2012-09-28
公开日:2013-06-01
发明作者:Balarabe N Mohammed；John W Lane；Mariusch J Gregor；Dan Joseph Healy
申请人:Applied Materials Inc；
IPC主号:G01F25-00

专利说明:
用於流量控制器的原位校正的方法
本發明的實施例一般性地關於：用於基材處理的方法和設備，及特定地關於用於流量控制器的原位校正的方法和設備。
流量控制器可被使用以供給製程氣體至製程腔室的處理空間。流量控制器典型地於安裝在製程腔室上之前由製造者使用標準氣體來校正。發明人提供改善的方法以用於流量控制器的原位校正(in-situ calibration)。
在此提供一種用於流量控制器的原位校正的方法和設備。在一些實施例中，耦合至製程腔室的流量控制器的原位校正的方法可包含以下步驟：提供流量控制器，流量控制器經組態以：當基於計算出的第一關係而設定為第一數值的設定點時，提供具有第一數值的流動速率的第一氣體，第一關係藉由使用不同於第一氣體的標準氣體來決定；從處於流量控制器的相對應的複數個數值的設定點而決定的第一氣體的複數個數值的流動速率中，決定對於第一氣體的流動速率和設定點之間的實際的第一關係，其中複數個數值的每一數值的流動速率從將第一氣體流動經過處在複數個數值的相對應的數值的設定點的流量控制器來決定；及基於實際的第一關係，利用第一數值的流動速率從流量控制器流動第一氣體。
在一些實施例中，一種用於處理基材的設備可包含：製程腔室，製程腔室具有：處理空間；及第一流量控制器，第一流量控制器耦合至製程腔室以提供第一氣體至處理空間，其中第一流量控制器經組態以：當基於計算出的第一關係而設定為第一數值的設定點時，提供具有第一數值的流動速率的第一氣體，第一關係藉由使用不同於第一氣體的標準氣體來決定；及控制器，控制器耦合至製程腔室，其中控制器進一步包含：電腦可讀取媒體，電腦可讀取媒體具有儲存於其上的指令，當指令由控制器執行時，使得用於將氣體流動進入處理空間的第一方法被執行，該方法包含以下步驟：從處於第一流量控制器的相對應的複數個數值的設定點而決定的第一氣體的複數個數值的流動速率中，決定對於第一氣體的流動速率和設定點之間的實際的第一關係，其中複數個數值的每一數值的流動速率從將第一氣體流動經過處在複數個數值的相對應的數值的設定點的第一流量控制器來決定；及基於實際的第一關係，利用第一數值的流動速率從第一流量控制器流動第一氣體。
在一些實施例中，監控耦合至製程腔室的流量控制器的方法包含以下步驟：在第一時間處監控流量控制器的第一零點偏移(zero offset)；在第一時間之後的第二時間處，監控流量控制器的第二零點偏移；及若累加的零點漂移(zero drift)超過：流量控制器的全部的流量範圍的大約百分之十(10 percent)，發出服務警告，其中累加的零點漂移係：第一零點偏移和第二零點偏移的總和。
在一些實施例中，監控耦合至製程腔室的流量控制器的方法包含以下步驟：監控第一時間，在第一時間期間流量控制器進行操作；監控第二時間，在第二時間期間流量控制器進行操作；及若累加的工作壽命(operating lifetime)超過第一臨界數值，發出服務警告，其中累加的工作壽命係：第一時間和第二時間的總和。
在一些實施例中，監控耦合至製程腔室的流量控制器的方法包含以下步驟：在第一時間區間(period)中於第一時間間隔(interval)處，取樣流量控制器的溫度數值；及若從取樣的溫度數值中所計算出的標準差(standard deviation)對於流量控制器的設定的溫度數值超過臨界數值，發出服務警告。
在一些實施例中，監控耦合至製程腔室的流量控制器的方法包含以下步驟：利用第一取樣率來取樣：從位置控制器至流量控制器的可調整的閥的輸出訊號之數值；及若從取樣的輸出訊號數值中計算出的標準差對於輸出訊號的穩態設定點超過臨界數值，發出服務警告。
在一些實施例中，監控耦合至製程腔室的流量控制器的方法包含以下步驟：在流量控制器處於第一流動速率的情況下，在第一時間處監控：流量控制器的第一參數或製程腔室的第二參數的至少者的一第一數值；在流量控制器處於第一流動速率的情況下，在第一時間之後的第二時間處監控：流量控制器的第一參數或製程腔室的第二參數的至少一者的一第二數值；及從第一數值和第二數值的比較中，決定流量控制器或製程腔室的元件的至少一者的狀態。
在一些實施例中，監控耦合至製程腔室的流量控制器的方法包含以下步驟：在流量控制器處於第一流動速率的情況下，在相對應的複數個時間中，監控：流量控制器的第一參數或製程腔室的第二參數的至少一者的複數個數值；從複數個數值的二或更多個數值的比較中，決定流量控制器或製程腔室的元件的至少一者的狀態；及基於該比較，設定流量控制器的第一參數或製程腔室的第二參數的至少一者為新的數值。
本發明的其它和另外的實施例於後文中描述。
在此揭示一種用於基材處理的方法和設備。本發明的方法和設備可有利地對於流量控制器提供較寬廣的流動速率的範圍，同時維持流動速率的準確性，而關於每一流量控制器的儀器校正、對於校正演算法的遠端更新的能力及流量控制器的狀況監控。本發明的方法和設備進一步有利地限制儀器的停機時間(例如藉由使用遠端更新)，及藉由使用流量控制器的狀況監控來減少由於設備故障所造成的成本。本發明的方法和設備的其它和另外的優點於後文中討論。
第1圖根據本發明的一些實施例描繪：基材處理系統100。基材處理系統100可包含：製程腔室102，製程腔室具有：處理空間104。基材支撐106可被配置在處理空間104中，以在基材處理系統100中進行處理期間支撐基材108。製程腔室102可為：用於同時地處理基材及/或多個基材的任何適當的製程腔室。舉例而言，製程腔室102可經組態以：用於化學氣相沈積(chemical vapor deposition(CVD))、原子層沈積(atomic layer deposition(ALD))、物理氣相沈積(physical vapor deposition(PVD))、金屬化學氣相沈積(MCVD)、毯覆式的深次-微米(deep sub-micron)化學氣相沈積(blanket DSM-CVD)或任何適當的電漿或非電漿(non-Plasma)的促成(enabled)或增強(enhanced)的製程的一或更多者，例如蝕刻、沈積、清洗或類似者。基材支撐106可為：任何適當的基材支撐，該基材支撐用於與製程腔室102的任何適當的組態一同使用。基材支撐106可包含：基座、真空夾具、靜電夾具或類似者的一或更多個，及可包含：元件114，例如加熱器、RF電極、升降銷組件或類似者的一或更多個。
系統100可包含一或更多個處理源以提供一或更多個製程參數至處理空間104。舉例而言，製程參數可包含：RF功率的大小、製程氣體的流動速率、腔室元件的溫度、腔室壓力、前級管線壓力(foreline pressure)、基座背部壓力、製程氣體種類、製程氣體溫度、基座溫度、基座位置、基材加熱器功率準位、排氣閥加熱器功率準位或類似者。舉例而言，一或更多個製程參數可由處理源來提供，例如一或更多個流量裝置、一或更多個射頻(RF)功率源、基材加熱器、排氣閥加熱器或類似者。
舉例而言，一或更多個流量裝置110可耦合至氣體入口116以提供一或更多個製程氣體至處理空間104。氣體入口116可為：任何適當的入口或用於利用所欲的方式(例如進入在基材108上方的處理空間104的區域、被導引朝向基材108、被導引橫越基材108的表面或類似者)提供一或更多個製程氣體至處理空間104的入口。舉例而言，氣體入口116可為：噴頭(如同所顯示者)、氣體注射器、噴嘴或類似者的一或更多個。雖然示例說明在第1圖中者為配置在基材支撐106的上方，氣體入口116可被配置(替代性地或相組合地)在製程腔室102的側壁或底部、或被配置在製程腔室內(例如相鄰於基材支撐106)。一或更多個流量裝置110的每一者可耦合至複數個氣體源118中的一或更多個。舉例而言，複數個氣體源118可為：氣體控制板(gas panel)的部分或類似者，其中每一流量裝置110控制：製程氣體從相對應的氣體源118到氣體入口116的流動。
一或更多個RF功率源可被使用以提供RF功率至處理系統100的各個部分，例如處理空間104，以從製程氣體，或一些其它的氣體，或流動進入處理空間104或流動至基材支撐106的氣體，或類似者中形成電漿。舉例而言，第一RF功率源112A和第二RF功率源112B被描繪在第1圖中。第一RF功率源112A和第二RF功率源112B共同地在此意指為：一或更多個RF功率源112、或RF功率源112。每一RF功率源一般性地包含：RF產生器和匹配電路，匹配電路被使用以將RF產生器的阻抗與電漿匹配。一或更多個RF功率源可耦合至基材處理系統100中的各種元件。
第一RF功率源112A可被利用以促進：從一或更多個製程氣體中形成電漿。在一些實施例中，第一RF功率源112A可被配置在製程腔室102的蓋或頂部的鄰近處。舉例而言，第一RF功率源112A可經組態以：將RF能量耦合至在製程腔室102內的一或更多個製程氣體以形成電漿。在一些實施例中，第一RF功率源112A可耦合至電極，例如一或更多個感應的線圈111，感應的線圈被配置在製程腔室102的頂部的上方，(舉例而言)如同由虛線113所顯示者。可替代性地或相組合地，第一RF功率源112A可耦合至被配置在製程腔室的頂部中或在製程腔室的頂部附近的電極，例如氣體入口116的傳導部分，如同由虛線115所顯示者。第一RF功率源112A亦可(或替代性地)耦合至其它的適當的元件，以在所欲的位置中提供RF能量。雖然顯示為：單一的RF源(例如112A)耦合至製程腔室102於頂部的鄰近處，多個RF功率源可耦合至頂部於相同的電極處，或耦合至不同的電極。
第二RF功率源112B可耦合至基材支撐106，舉例而言，以在處理期間提供基材偏壓控制。如同在前文中所描述的類似者，雖然顯示為：單一的RF源耦合至基材支撐106，多個RF功率源可耦合至基材支撐106於相同的電極處，或耦合至不同的電極。此外，或替代性地，其它的RF功率源112可耦合至製程腔室的其它的元件，例如被配置在製程腔室的側壁中或在製程腔室的側壁附近的電極(未顯示出)，或被配置在其它的所欲的位置的電極(未顯示出)，以將RF能量耦合至製程腔室，或耦合至被配置在製程腔室102中或流動進入製程腔室102的氣體。
一或更多個流量裝置110的每一者可為：質量流量裝置(mass flow device)，例如質量流量控制器或類似者。舉例而言，如同在第1圖中示例說明者，一或更多個流量裝置110可包含：第一流量控制器110A和第二流量控制器110B。第一流量控制器110A耦合至製程腔室102，以從第一氣體源118A提供第一氣體至處理空間104。第二流量控制器110B耦合至製程腔室102，以從第二氣體源118B提供第二氣體至處理空間104。
一或更多個流量裝置110的每一者可包含：感測器120和可調整的閥122，感測器和可調整的閥與位置控制器124相連通，以提供在感測器、可調整的閥和位置控制器之間的本地端的閉回路的控制。如同在第1圖中示例說明者，位置控制器124可傳送指令和接收來自系統控制器141的指令。舉例而言，第一流量控制器110A包含：第一位置控制器124A，第一位置控制器耦合至第一流量控制器110A的感測器120和可調整的閥122。舉例而言，第二流量控制器110B包含：第二位置控制器124B，第二位置控制器耦合至第二流量控制器110B的感測器120和可調整的閥122。感測器120可包含：壓力感測器或溫度感測器的一或更多個。每一位置控制器124A、124B可為控制器，控制器用於控制：個別的第一流量控制器110A和第二流量控制器110B的元件的每一者。舉例而言，在操作中，感測器120可提供代表第一氣體的壓力或溫度的一或更多個之訊號給控制器124A，以決定第一氣體的流動速率，及控制器124A對於可調整的閥122進行調整，以維持所欲的流動速率。舉例而言，每一位置控制器124A、124B可包含：電腦處理單元(CPU)、記憶體、輔助電路，及用於儲存及/或執行方法及/或從系統控制器141或另一來源接收遠端更新的類似者。
示例說明於第1圖中的一或更多個流量裝置110僅為示例性的，及其它的實施例係可能的，例如直接與系統控制器相連通的感測器120和可調整的閥122，例如系統控制器141，而不具有內建的位置控制器，例如位置控制器124(未顯示出)。
系統100進一步包含：排氣閥126，排氣閥被配置在處理空間104和排氣系統130的排氣空間128之間。排氣閥126可為：任何適當的閥，該任何適當的閥被使用在基材處理系統中，例如閘門閥、節流閥、蝶型閥、鐘擺閥(pendulum valve)或類似者。排氣閥126耦合至電動式驅動器(motorized drive)132，而控制排氣閥126的位置。舉例而言，排氣閥126的位置改變可導致：對於較低的壓力區域的較多或較少的曝露，例如在排氣空間128或類似者中。較低的壓力區域可藉由任何適當的真空泵或類似的泵裝置(未顯示出)來產生，該任何適當的真空泵或該類似的泵裝置耦合至排氣區域128或排氣系統130。
在處理空間104中的壓力可藉由一或更多個壓力計(pressure gauge)來監控。舉例而言，第一壓力計134可被使用以測量在處理空間104中的壓力的第一範圍。在一些實施例中，壓力的第一範圍可為：大約1托耳至大約10托耳。第二壓力計136可被使用以測量：在處理空間中的壓力的第二範圍。壓力的第二範圍不同於壓力的第一範圍，舉例而言，第一壓力計或第二壓力計中的一者可為高壓力計，及另一者可為低壓力計。在一些實施例中，壓力的第二範圍可為：大約10托耳至大約500托耳。第一壓力計134和第二壓力計136可為：用於測量所欲的壓力範圍的任何適當的壓力計，舉例而言(例如)離子計(ion gauge)、熱電偶計(thermocouple gauge)、電容表(capacitance gauge)、應變計(strain gauge)、派藍尼真空計(Pirani gauges)或類似者。亦可提供額外的壓力計(若有需要)以用於監控不同的壓力範圍。相較於在寬廣的壓力範圍中使用單一的壓力計，提供針對於特定的壓力範圍而調整(tune)的多個壓力計可有利地促進：處理系統的更為精確的控制。舉例而言，壓力計可被提供以監控：排氣空間128、基座的背部或類似者。
如同在第1圖中所示例說明者，第一壓力計134和第二壓力計136可直接地耦合至控制器141。類似地，電動式驅動器132可直接地耦合至控制器141和由控制器141所控制。如同示例說明於第1圖中的壓力計134、136和電動式驅動器132的組態係一示例性的實施例，其中系統控制器141可作用為壓力控制器(未顯示出)，及或者包含壓力控制器(未顯示出)，以控制電動式驅動器132而改變排氣閥的位置，以回應於在處理空間104中的壓力(如同經由壓力計134、136來監控)。可替代性地，可使用分離的壓力控制器(未顯示出)，其中壓力計134、136可耦合至分離的壓力控制器，而非耦合至控制器141，及其中分離的壓力控制器控制：電動式驅動器132。
控制器141包含：中央處理單元(CPU)138、記憶體140及用於CPU 138的輔助電路142，以及控制器141促進：系統100的元件的控制，及促進控制該系統的方法，例如於後文中討論的方法200。控制器141可為：任何形式的一般性目的電腦處理器的一者，該一般性目的電腦處理器可被使用於工業定型(industrial setting)中，以用於控制：各種腔室和子處理器(sub-processors)。CPU 138的記憶體或電腦可讀取媒體140可為：容易地獲得使用的記憶體(例如隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)、軟碟、硬碟，或任何其它形式的數位儲存器(本地端的或遠端的))的一或更多個。輔助電路142耦合至CPU 138以利用傳統的方式來輔助處理器。此些電路包含：快取、電源、時脈電路、輸入/輸出電路和子系統及類似者。控制器141可包含：電路及/或子系統，該電路及/或子系統用於直接地控制：流量裝置、電動式驅動器、RF功率源、基材加熱器、排氣閥加熱器、監控的壓力計，及任何適當的電路及/或子系統，以直接地控制：基材處理系統的各種元件。記憶體140儲存軟體(源代碼或目的代碼)，該軟體可被執行或調用以根據如同在此描述的本發明的實施例來控制：系統100的操作。再者，控制器141可位於系統100的遠端及/或遠端地從設備控制器或類似者接收指令。舉例而言，控制器141及/或設備控制器藉由遠端的通訊系統而遠端地通訊至控制器141及/或系統100的各種元件，例如EtherCAT(用於控制自動化技術的乙太網(Ethernet for Control Automation Technology))或類似者。
第2圖描繪：用於耦合至製程腔室的流量控制器的原位校正的方法200之流程圖。方法200(例如第一方法)可根據在前文中討論的基材處理系統100的實施例而被描述於後文中。舉例而言，用於執行方法200的指令可被儲存在系統控制器141上，例如被儲存在電腦可讀取媒體上(作為記憶體140的部分)，或被儲存在可被使用以控制基材處理系統100(本地端地或遠端地)的任何控制器上。方法200藉由提供流量控制器(例如第一流量控制器110A)而開始於202處，該流量控制器可經組態以：當基於計算出的第一關係而設定為第一數值的設定點時，提供具有第一數值的流動速率的第一氣體，該第一關係藉由使用不同於第一氣體的標準氣體來決定。如同在此所使用者，詞彙「經組態以(configured to)」意指為：如同在此說明的「意欲於(intended to)」。舉例而言，第一流量控制器110A意欲於：當基於計算出的第一關係而設定為第一數值的設定點時，提供具有第一數值的流動速率的第一氣體。然而，當基於計算出的第一關係而設定為第一數值的設定點時，第一流量控制器110A並不必然地提供：具有第一數值的流動速率的第一氣體。
舉例而言，計算出的第一關係可由第一流量控制器110A的製造者在製造第一流量控制器110A期間來決定。從而，用於執行計算出的第一關係的指令可被儲存在第一流量控制器110A上，例如被儲存在電腦可讀取媒體(該電腦可讀取媒體係位置控制器124A的部分)或類似者上。當指令(例如第二方法)由位置控制器124A執行時，第一流量控制器124A運用計算出的第一關係至輸入數值的設定點，以利用相對應的輸出數值的流動速率來流動第一氣體。
舉例而言，決定計算出的第一關係包含以下步驟：從用於標準氣體的流動速率的複數個數值與第一流量控制器的設定點的相對應的複數個數值中，決定對於標準氣體的流動速率和設定點之間的實際的第二關係。舉例而言，實際的第二關係可使用校正裝置來決定，例如質量流量校驗器或類似者。舉例而言，壓力上升的速率可針對於處於複數個數值的每一相對應的數值的設定點的標準氣體來測量，及然後標準氣體的複數個數值的每一數值的流動速率可從處於複數個數值的每一相對應的數值的設定點的壓力上升的速率來決定。舉例而言，標準氣體可為氮(N2)。典型地，製造者可針對於數個設定點來測量壓力上升的速率，大約3個設定點或更多個設定點，及從處於每一相對應的設定點的壓力上升的速率中，決定處於每一設定點的流動速率。處於相對應的複數個設定點的標準氣體的複數個被決定的流動速率可擬合至一線段，以決定對於標準氣體的實際的第二關係。氣體校正因子(例如第一氣體校正因子)然後可被使用以調整實際的第二關係以用於與第一氣體一同使用而形成計算出的第一關係。舉例而言，當運用校正因子時，氣體校正因子可為：比例因子，比例因子改變：擬合的線段的截距(intercept)。舉例而言，氣體校正因子可從第一氣體的物理常數中計算出，例如密度、比熱或類似者。
不幸地，發明人已發現到：計算出的第一關係並不對於處於第一流量控制器的第一數值的設定點的第一氣體提供(雖然經組態以如此運作)第一數值的流動速率。舉例而言，發明人已識別出：針對於計算出的第一關係的缺點可包含：對於標準氣體的實際的第二關係並不近似：在第一流量控制器的全部的設定點範圍中的線段，及另外地包含：對於標準氣體的實際的第二關係並不具有：與對於第一氣體在第一流量控制器的全部的設定點範圍中被決定的相同關係一樣的形狀。從而，計算出的第一關係並不在用於第一流量控制器的全部的設定點的範圍中，精確地提供第一氣體的流動速率。在一些實施例中，準確性可藉由使用多個流量控制器來改善，每一流量控制器經組態以提供：僅有設定點的全部範圍的一部分。舉例而言，一流量控制器可被使用以在設定點範圍的較低的部分中提供低流動速率，及另一流量控制器可被使用以在設定點範圍的較高的部分中提供高流動速率。然而，使用多個流量控制器為耗費成本的和佔用空間的(space prohibitive)。從而，發明人已設計：用以校正第一流量控制器110A的原位方法(in-situ method)200，以使得第一流量控制器110A在第一流量控制器110A的全部的設定點的範圍中，提供：具有所欲的流動速率的第一氣體。
在204處，從處於第一流量控制器110A的相對應的複數個數值的設定點而決定的複數個數值的流動速率中，決定對於第一氣體的流動速率和設定點之間的實際的第一關係。舉例而言，複數個數值的每一數值的流動速率可藉由將第一氣體流動經過處於複數個數值的相對應的數值的設定點的流量控制器來決定。舉例而言，第一氣體可由第一氣體源118A來提供，及第一氣體可流動經過第一流量控制器110A，及然後轉變流動方向至校正裝置119以用於決定每一流動速率，而非流動至氣體入口116。如同在第1圖中示例說明者，校正裝置119可耦合至在第一流量控制器110A和處理空間104之間的系統100。校正裝置119可為：任何適當的校正裝置，例如質量流量校驗器、質量流量計、molbloc^TM流量元件或類似者。再者，校正裝置119可利用任何適當的校正方法，例如原位的衰減速率(in-situ rate of decay)或類似者。
舉例而言，在一些實施例中，使用校正裝置119來決定用於第一氣體的流動速率的複數個數值包含以下步驟：對於處於第一流量控制器110A的複數個數值的每一相對應的數值的設定點的第一氣體，測量壓力上升的速率，及從處於複數個數值的每一相對應的數值的設定點的壓力上升的速率，決定對於第一氣體的複數個數值的每一數值的流動速率。舉例而言，可測量在許多設定點處的壓力上升的速率，例如10個設定點或更多個設定點，或用以決定對於第一氣體在用於第一流量控制器110A的全部的設定點的範圍中的流動速率之行為所必需的任何適當數目的設定點。
舉例而言，如同前文所討論者，一旦已對於每一相對應的數值的設定點，決定對於第一氣體的複數個數值的流動速率，則對於處於相對應的複數個設定點的第一氣體的複數個被決定的流動速率可被擬合至一曲線，以決定：對於第一氣體的實際的第一關係。舉例而言，曲線可為：任何適當的形狀，該形狀如同：從對於第一氣體在相對應的複數個數值的設定點中的複數個數值的流動速率之行為所決定者。舉例而言，曲線可為：多項式(polynomial)、二項式(binomial)、三次厄爾密(cubic hermite)或類似者。實際的第一關係可精確地決定：第一氣體在用於第一流量控制器110A的全部的設定點的範圍之流動速率。實際的第一關係由於決定在第一流量控制器110A的全部的設定點的範圍之流動速率及使用非線性曲線擬合以近似對於第一氣體在全部的設定點的範圍的流動速率之行為，有利地提供：對於第一氣體從第一流量控制器110A而具有的較為寬廣的範圍之精確的流動速率。
在206處，可基於實際的第一關係，利用第一數值的流動速率從第一流量控制器110A流動第一氣體。舉例而言，在204處決定實際的第一關係之後，第一氣體的流動(該第一氣體的流動已轉變流動方向至校正裝置119)可被導引至處理空間104。舉例而言，實際的第一關係可藉由任何數目的適當的資料傳輸架構而被運用至第一質量流量控制器110A。舉例而言，在一些實施例中，實際的第一關係可常駐於系統控制器141上，及當被執行時，饋入一輸入數值的設定點至第一流量控制器110A，以使得第一數值的流動速率從第一流量控制器110A流動。舉例而言，不同於第一數值的設定點的第二數值的設定點可從實際的第一關係中決定，該第一數值的設定點對於第一氣體產生第一數值的流動速率。然後，作為輸入數值，第二數值的設定點被運用至計算出的第一關係，以提供輸出數值，輸出數值等於：第一氣體從第一流量控制器110A所具有的流動速率之第一數值。從而，在前述的示例性方法中，系統控制器141可使用實際的第一關係以提供第二數值的設定點而作為對計算出的第一關係的一輸入，以從第一流量控制器110A產生所欲的第一數值的流動速率。
可替代性地，計算出的第一關係(該計算出的第一關係可常駐在第一流量控制器110A上)可由實際的第一關係來更新及/或替換，該實際的第一關係可常駐在系統控制器141上。舉例而言，在204處於決定實際的第一關係之後，系統控制器141可將資訊反饋至第一流量控制器110A，該資訊使得第一流量控制器110A將計算出的第一關係重新寫入至實際的第一關係。可替代性地，系統控制器141將資訊反饋至第一流量控制器110A，以利用實際的第一關係來替換計算出的第一關係。舉例而言，計算出的第一關係的更新及/或替換可作為服務常式的部分而被執行，舉例而言(例如)一服務常式，該服務常式在第一流量控制器110A上產生新的韌體。
舉例而言，一旦完成：利用實際的第一關係來更新及/或替換計算出的關係，第一流量控制器110A可基於實際的第一關係而被設定為第一數值的設定點，以利用第一數值的流動速率從第一流量控制器110A流動第一氣體。
可替代性地，計算出的第一關係可常駐在系統控制器141上及/或被下載至系統控制器141與相應地被修正。舉例而言，計算出的第一關係可初始地常駐在第一流量控制器110A上。在方法200進行期間，計算出的第一關係可被下載至系統控制器141及由系統控制器141來修正以形成實際的第一關係。然後，實際的第一關係可被上傳至第一流量控制器110A，以更新及/或替換計算出的第一關係。下載計算出的第一關係至系統控制器141的此替代性的方法不同於前文討論的替代性的方法，其中計算出的第一關係由第一流量控制器110A基於從系統控制器141接收的資訊來更新。舉例而言，在本發明的替代性的方法中，系統控制器141直接地修正計算出的第一關係。透過比較，在前述的替代性的方法中，系統控制器141提供資訊至第一流量控制器110A，及第一流量控制器110A基於由系統控制器141提供的資訊來修正計算出的第一關係。
例如可運用第二流量控制器110B或運用任何所欲數目的流量控制器來利用方法200。舉例而言，第二流量控制器110B可經組態以：當基於計算出的第二關係而設定為第二數值的設定點時，提供具有第二數值的流動速率的第二氣體，該第二關係藉由使用不同於第二氣體的標準氣體來決定。除了使用與第二氣體一同使用的第二氣體校正因子以調整實際的標準關係，計算出的第二關係可由第二流量控制器110B的製造者利用計算出的第一關係的類似方式來決定。計算出的第二關係可常駐於第二流量控制器110B上，例如在電腦可讀取媒體或類似者上。
舉例而言，用於校正第二流量控制器110B的方法包含以下步驟：從處於第二流量控制器的相對應的複數個數值的設定點而決定的第二氣體的複數個數值的流動速率中，決定對於第二氣體的流動速率和設定點之間的實際的第二關係，其中複數個數值的每一數值的流動速率從將第二氣體流動經過處於複數個數值的相對應的數值的設定點的第二流量控制器來決定；及基於實際的第二關係，利用第二數值的流動速率從第二流量控制器流動第二氣體。
實際的第二關係可利用類似於如同前文所討論的實際的第一關係的方式來決定。被使用以擬合實際的第二關係的曲線不同於被使用以擬合實際的第一關係的曲線，及被使用以擬合實際的第二關係的曲線取決於：第二氣體的行為。
本發明的方法進一步包含：用於監控流量控制器的狀況(health)的方法。舉例而言，流量控制器的狀況監控希望：避免由使用故障的及/或不當地校正的流量控制器的工具所產生的故障的產品批量。舉例而言，於後文中討論的監控方法可常駐於系統控制器141上與被上傳及/或整合至流量控制器的位置控制器，例如在提供資訊至流量控制器的服務常式期間及/或在從流量控制器下載資訊至系統控制器、更新資訊及重新載入更新的資訊至流量控制器的服務常式期間。
舉例而言，此一狀況監控的方法可為：監控在流量控制器中的累加的零點漂移。舉例而言，方法可包含以下步驟：監控流量控制器的零點偏移(例如週期性地、在維修期間或在任何所欲的時間間隔處)。可對流量控制器的累加的零點漂移進行記錄(例如從初始的校正及/或安裝日期)。舉例而言，在初始的時間，零點偏移可為：全部的流量範圍的大約1%。當在初始的時間之後的第二時間處進行測量時，零點偏移大於在初始的時間處的零點偏移大約1%(對於全部的流量範圍的大約2%的累加的零點漂移而言)。舉例而言，當在第二時間之後的第三時間處進行測量時，零點偏移小於在第二時間處的零點偏移大約1%(對於大約1%的累加的零點漂移而言)。方法可監控：在流量控制器中的累加的零點漂移，直到累加的零點漂移到達臨界數值為止，舉例而言，全部的流量範圍的大約10%。處於臨界數值時，系統控制器141發出流量控制器需要維修及/或替換的警告。舉例而言，處於累加的零點漂移超過臨界數值的情況時，舉例而言(例如)全部的流量範圍的大約20%，系統控制器141可發出命令以關閉流量控制器。
類似於前文的累加的零點漂移的實施例，狀況監控的方法的另一實施例可包含：監控流量控制器的累加的工作壽命(operating lifetime)。舉例而言，方法可包含以下步驟：監控流量控制器的工作壽命，例如流量控制器進行操作的每一時間和該流量控制器維持為操作的時間的長度。對於流量控制器的累加的工作壽命進行記錄(例如從安裝日期)。舉例而言，對於流量控制器進行操作的第一長度的時間進行記錄。流量控制器可休眠達到一時間區間，及然後再次地操作達到第二長度的時間。第一長度的時間和第二長度的時間可相加在一起，以決定流量控制器的累加的工作壽命。方法可監控：在流量控制器中的累加的工作壽命，直到累加的工作壽命到達一臨界數值為止，舉例而言，大約8760小時。處於臨界數值時，系統控制器141發出流量控制器需要維修及/或替換的警告。舉例而言，處於累加的工作壽命超過臨界數值的情況中，舉例而言(例如)大約17520小時，系統控制器141可發出命令以關閉流量控制器。
狀況監控的方法的另一實施例可包含：監控在流量控制器中的溫度的穩定度。舉例而言，流量控制器可包含：溫度感測器(作為感測器120的部分或分離的感測器)以監控和調整可調整的閥122的位置，而回應於在流量控制器中或在供應至流量控制器的氣體中的溫度變化。舉例而言，溫度變化可由開啟在系統100上的元件所造成，舉例而言(例如)氣體控制板或類似者。然而，不存在有：監控在流量控制器中的溫度的穩定度的方法。舉例而言，溫度感測器使得流量控制器改變可調整的閥的位置以回應於溫度變化，及由於缺乏存在溫度變化的指示而損失產品批量。從而，本發明的監控方法包含以下步驟：監控在啟動之前、在處理期間或在任何適當的時間的流量控制器的溫度，以決定在流量控制器中的溫度的穩定度。舉例而言，方法可包含以下步驟：等待大約30秒或更多以供溫度讀值達成穩定，例如在啟動系統100之後。可在第一時間區間的時間中(例如大約10秒)於第一時間間隔處取樣溫度數值(例如大約每100毫秒(millisecond))。此取樣過程可在第二時間區間的時間中(例如大約10分鐘)被執行數次。取樣的溫度數值的平均和標準差可被計算出。舉例而言，若標準差超過設定的溫度數值(例如超過設定的溫度數值的大約0.1%)，則標準差(作為設定的溫度數值的百分比)可與在系統控制器上尚未達成溫度的穩定度的訊息一同顯示。可替代性地，若標準差並未超過設定的溫度數值，例如若標準差小於設定的溫度數值的大約0.1%，則流量控制器繼續地正常運作及並不顯示任何的訊息。
狀況監控的方法的另一實施例可包含：監控在流量控制器中的訊號雜訊。舉例而言，可針對於輸出訊號來監控訊號雜訊，該輸出訊號可由位置控制器發出至流量控制器的可調整的閥，以改變可調整的閥的位置。舉例而言，當流量控制器隨著時間而退化時，輸出訊號變為具有雜訊的(noisy)。舉例而言，在一些實施例中，例如在蝕刻製程期間，訊號可被使用以監控邊緣深度，及當已到達蝕刻深度時告知流量控制器停止流動。舉例而言，當輸出訊號隨著流量控制器的退化而變得更具有雜訊的，流量控制器將在輸出訊號中的雜訊誤解為：已到達蝕刻深度的指示。從而，發明人已提供：針對於訊號雜訊準位而監控流量控制器的輸出訊號的方法。舉例而言，可在定義的時間區間中，監控離於輸出訊號的穩態設定點的標準差，舉例而言(例如)大約10秒的時間區間、利用任何所欲的取樣率，例如大約10 Hertz(Hz)、大約100 Hz、大約1000Hz或任何適當的取樣率。舉例而言，若標準差超過輸出訊號的穩態設定點(例如超過大約0.1%)，由系統控制器141發出警告。
狀況監控的方法的另一實施例可包含：根據數個參數來監控流量控制器的狀況，該等參數包含：在流量控制器上的參數和在系統100中的參數。舉例而言，參數可包含：流量控制器流量輸出、流量控制器壓力輸出、流量控制器溫度輸出、流量控制器閥位置、流量控制器的總氮等效流量輸出(total nitrogen equivalent flow output)、腔室壓力、排氣閥位置，或類似者。舉例而言，參數的一或更多個組合可被使用以診斷：一或更多個系統行為，例如若流量控制器為高流量或低流量、若線路壓力為增加或減少、若線路溫度為增加或減少，或類似者。舉例而言，如同前文所討論的線路壓力和線路溫度意指為：在氣體供應線路中的壓力和溫度，該氣體供應線路被配置在氣體源118A、B和流量控制器110A、B之間。
舉例而言，在啟動系統100時，例如當該系統初始裝設在線路上時或在已關閉系統100來進行維修之後，可記錄一系列的診斷測量。舉例而言，流量控制器可提供第一流動速率，及可處於第一流動速率而記錄前文所討論的參數。舉例而言，在執行製程之後，或週期性地執行製程，或在隨機的監控的時間間隔處執行製程，腔室可經測試以觀察：流量控制器是否繼續利用與初始記錄者相同的數值的參數以提供第一流動速率。舉例而言，參數的組合可被使用以診斷系統行為。舉例而言，若處於第一流動速率，流量控制器閥位置、總氮等效流量，及排氣閥位置目前高於初始的測量者，則流量控制器可為高流量的。然而，若僅有一個參數關閉，舉例而言在流量控制器閥位置上係較高的，但是總氮等效流量和排氣閥位置為相同的，則此者可表示：除了流量控制器為高流量以外的問題。舉例而言，若處於第一流動速率，流量控制器閥位置、總氮等效流量，及排氣閥位置目前低於初始的測量者，則流量控制器可為低流量的。從而，參數的其它組合可被使用以診斷：其它的系統行為，例如前文列出的彼些者。
作為如同在前面的段落中所討論的流量控制器的狀況監控的替代方式或與如同在前面的段落中所討論的流量控制器的狀況監控相組合，可利用：流量控制器的被監控的參數及/或製程腔室的參數，舉例而言，以在後續的製程步驟期間對反應時間最佳化及/或針對於其它預測性的診斷方法而對反應時間最佳化。舉例而言，流量控制器的參數(例如閥電壓或類似者)如同在前文所討論般地被監控而與其它的參數相組合，例如流量控制器及/或製程腔室的彼些參數。流量控制器的參數可產生所欲的回應，例如所欲的流動速率或類似者。舉例而言，在後續的製程步驟中，流量控制器可被設定為被監控的參數，及可選擇地與製程腔室及/或流量控制器的其它被監控的參數相組合，以對產生所欲的回應之時間最佳化。可替代性地，在後續的製程步驟中，流量控制器可對於被監控的參數而被設定為新的數值，舉例而言(例如)基於被監控的參數而被推斷(extrapolated)以對產生所欲的反應之時間進行最佳化之新的數值。
其它的實例(預測性的診斷方法)可包含：監控入口壓力，例如對於流量控制器的入口壓力。舉例而言，若被監控的入口壓力隨著時間改變，或在製程步驟之間改變，或隨類似者改變，可發出警告或啟動壓力轉換器診斷常式。
雖然前述係關於本發明的實施例，可設計本發明的其他的和另外的實施例，而不偏離其基本範疇。
100‧‧‧基材處理系統
102‧‧‧製程腔室
104‧‧‧處理空間
106‧‧‧基材支撐
108‧‧‧基材
110‧‧‧流量裝置
110A‧‧‧第一流量控制器
110B‧‧‧第二流量控制器
111‧‧‧感應的線圈
112A‧‧‧第一RF功率源
112B‧‧‧第二RF功率源
113‧‧‧虛線
114‧‧‧元件
115‧‧‧虛線
116‧‧‧氣體入口
118A‧‧‧第一氣體源
118B‧‧‧第二氣體源
119‧‧‧校正裝置
120‧‧‧感測器
122‧‧‧可調整的閥
124‧‧‧位置控制器
124A‧‧‧第一位置控制器
124B‧‧‧第二位置控制器
126‧‧‧排氣閥
128‧‧‧排氣空間
130‧‧‧排氣系統
132‧‧‧電動式驅動器
134‧‧‧第一壓力計
136‧‧‧第二壓力計
138‧‧‧中央處理單元
140‧‧‧記憶體
141‧‧‧系統控制器
142‧‧‧輔助電路
200‧‧‧方法
202‧‧‧步驟
204‧‧‧步驟
206‧‧‧步驟
本發明的實施例(簡短地於【發明內容】中概括者及於【實施方式】中更為詳細地討論者)可藉由參照描繪在隨附的圖式中的本發明的示例說明性的實施例而被理解。然而，注意到：隨附的圖式僅示例說明：此發明的典型的實施例，及因而不被認為限制其範疇，對於本發明可容許：其它的同等有效的實施例。
第1圖根據本發明的一些實施例描繪基材處理系統。
第2圖根據本發明的一些實施例描繪：用於耦合至製程腔室的流量控制器的原位校正的方法之流程圖。
為了促進理解，在可能的情況中已使用相同的元件符號，以指定給圖式共用的相同的元件。圖式並未按照尺寸來繪示，及加以簡化以為了達到清楚的目的。考慮到：一實施例的元件和特徵可被有利地併入其他的實施例中，而無需進一步的詳述。
200‧‧‧方法
202‧‧‧步驟
204‧‧‧步驟
206‧‧‧步驟

权利要求:
Claims (20)
[1] 一種對一流量控制器進行原位校正(in-situ calibration)的方法，該流量控制器耦合至一製程腔室，該方法包含以下步驟：提供一流量控制器，該流量控制器經組態以：當基於一計算出的第一關係而設定為一第一數值的一設定點時，提供具有一第一數值的一流動速率的一第一氣體，該第一關係藉由使用不同於該第一氣體的一標準氣體來決定；從處於該流量控制器的相對應的複數個數值的該設定點而決定的該第一氣體的複數個數值的該流動速率中，決定對於該第一氣體的該流動速率和該設定點之間的一實際的第一關係，其中該等複數個數值的每一數值的該流動速率從將該第一氣體流動經過處於該等複數個數值的相對應的數值的該設定點的該流量控制器來決定；及基於該實際的第一關係，利用該第一數值的該流動速率從該流量控制器流動該第一氣體。
[2] 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中用於該第一氣體的該流動速率的該等複數個數值係由耦合至該製程腔室的一校正裝置來決定。
[3] 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中使用該校正裝置來決定用於該第一氣體的該流動速率的該等複數個數值之步驟進一步包含以下步驟：對於處於該等複數個數值的每一相對應的數值的該設定點的該第一氣體，測量壓力上升的一速率；及從處於該等複數個數值的每一相對應的數值的該設定點的壓力上升的該速率，決定對於該第一氣體的該等複數個數值的每一數值的該流動速率。
[4] 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中決定該計算出的第一關係之步驟進一步包含以下步驟：從用於該標準氣體的該流動速率的複數個數值和該流量控制器的該設定點的相對應的複數個數值中，決定對於該標準氣體的一流動速率和一設定點之間的一實際的第二關係；及運用一氣體校正因子以調整該實際的第二關係而用於與該第一氣體一同使用以形成該計算出的第一關係。
[5] 如申請專利範圍第4項所述之方法，其中基於該實際的第一關係利用該第一數值的該流動速率從該流量控制器流動該第一氣體之步驟進一步包含以下步驟：決定一第二數值的該設定點，該第二數值的該設定點不同於該第一數值的該設定點，該第一數值的該設定點基於該實際的第一關係，對於該第一氣體產生該第一數值的該流動速率；及作為一輸入數值，運用該第二數值的該設定點至計算出的第一關係以提供一輸出數值，該輸出數值等於：對於該第一氣體從該流量控制器而具有的該第一數值的該流動速率。
[6] 如申請專利範圍第4項所述之方法，其中基於該實際的第一關係利用該第一數值的該流動速率從該流量控制器流動該第一氣體之步驟進一步包含以下步驟：利用在該流量控制器上的該實際的第一關係來替換該計算出的第一關係；及基於該實際的第一關係，設定該流量控制器為該第一數值的該設定點，以利用該第一數值的該流動速率從該流量控制器流動該第一氣體。
[7] 一種用於處理一基材的設備，該設備包含：一製程腔室，該製程腔室具有：一處理空間；一第一流量控制器，該第一流量控制器耦合至該製程腔室以提供一第一氣體至該處理空間，其中該第一流量控制器經組態以：當基於一計算出的第一關係而設定為一第一數值的一設定點時，提供具有一第一數值的一流動速率的該第一氣體，該第一關係藉由使用不同於該第一氣體的一標準氣體來決定；及一控制器，該控制器耦合至該製程腔室和包含一電腦可讀取媒體，該電腦可讀取媒體具有儲存於其上的指令，當該等指令由該控制器執行時，使得用於將一氣體流動進入該處理空間的一第一方法被執行，該方法包含以下步驟：從處於該第一流量控制器的相對應的複數個數值的該設定點而決定的該第一氣體的複數個數值的該流動速率，決定對於該第一氣體的該流動速率和該設定點之間的一實際的第一關係，其中該等複數個數值的每一數值的該流動速率從將該第一氣體流動經過處於該等複數個數值的相對應的數值的該設定點的該第一流量控制器來決定；及基於該實際的第一關係，利用該第一數值的該流動速率從該第一流量控制器流動該第一氣體。
[8] 如申請專利範圍第7項所述之設備，進一步包含：一校正裝置，該校正裝置耦合至在該第一流量控制器和該處理空間之間的該設備，以決定用於該第一氣體的該流動速率的該等複數個數值。
[9] 如申請專利範圍第8項所述之設備，其中在該第一方法中，使用該校正裝置來決定用於該第一氣體的該流動速率的該等複數個數值之步驟進一步包含以下步驟：對於在該校正裝置中的該第一氣體，測量壓力上升的一速率，該第一氣體處於該等複數個數值的每一相對應的數值的該設定點；及從處於該等複數個數值的每一相對應的數值的該設定點的壓力上升的該速率，決定對於該第一氣體的該等複數個數值的每一數值的該流動速率。
[10] 如申請專利範圍第7項所述之設備，其中該第一流量控制器包含：一第一位置控制器，該第一位置控制器具有：一電腦可讀取媒體，該電腦可讀取媒體具有儲存於其上的指令，當該等指令由該第一位置控制器執行時，使得該第一位置控制器執行用於將一氣體流動進入該處理空間的一第二方法，包含以下步驟：運用該計算出的第一關係至一輸入數值的該設定點，以利用一相對應的輸出數值的該流動速率將該第一氣體流動進入該處理空間，其中該設定點控制：該第一流量控制器的一可調整的閥的一位置。
[11] 如申請專利範圍第10項所述之設備，其中決定該計算出的第一關係之步驟進一步包含以下步驟：從用於該標準氣體的該流動速率的複數個數值和該流量控制器的該設定點的相對應的複數個數值中，決定對於該標準氣體的一流動速率和一設定點之間的一實際的標準關係；及運用一第一氣體校正因子以調整該實際的標準關係，而用於與該第一氣體一同使用以形成該計算出的第一關係。
[12] 如申請專利範圍第11項所述之設備，其中在該第一方法中，基於該實際的第一關係利用該第一數值的該流動速率從該流量控制器流動該第一氣體之步驟進一步包含以下步驟：決定一第二數值的該設定點，該第二數值的該設定點不同於該第一數值的該設定點，該第一數值的該設定點基於該實際的第一關係，對於該第一氣體產生該第一數值的該流動速率；及作為該輸入數值，運用該第二數值的該設定點至計算出的第一關係以產生該輸出數值，該輸出數值等於：對於該第一氣體從該第一流量控制器而具有的該第一數值的該流動速率。
[13] 如申請專利範圍第11項所述之設備，其中在該第一方法中，基於該實際的第一關係利用該第一數值的該流動速率從該流量控制器流動該第一氣體之步驟進一步包含以下步驟：利用在該第一流量控制器上的該實際的第一關係來替換該計算出的第一關係；及基於該實際的第一關係，設定該第一流量控制器為該第一數值的該設定點，以利用該第一數值的該流動速率從該第一流量控制器流動該第一氣體。
[14] 如申請專利範圍第7項所述之設備，進一步包含：一第二流量控制器，該第二流量控制器耦合至該製程腔室以提供一第二氣體至該處理空間，其中該第二流量控制器經組態以：當基於一計算出的第二關係而設定為一第二數值的一設定點時，提供具有一第二數值的一流動速率的該第二氣體，該第二關係藉由使用不同於該第二氣體的一標準氣體來決定。
[15] 如申請專利範圍第14項所述之設備，其中儲存在該控制器的該電腦可讀取媒體上的用於將一氣體流動進入該處理空間的該第一方法進一步包含以下步驟：從處於該第二流量控制器的相對應的複數個數值的該設定點而決定的該第二氣體的複數個數值的該流動速率，決定對於該第二氣體的該流動速率和該設定點之間的一實際的第二關係，其中該等複數個數值的每一數值的該流動速率從將該第二氣體流動經過處於該等複數個數值的相對應的數值的該設定點的該第二流量控制器來決定；及基於該實際的第二關係，利用該第二數值的該流動速率從該第二流量控制器流動該第二氣體。
[16] 如申請專利範圍第15項所述之設備，其中該第二流量控制器包含：一第二位置控制器，該第二位置控制器具有：一電腦可讀取媒體，該電腦可讀取媒體具有儲存於其上的指令，當該等指令由該第二位置控制器執行時，使得該第二位置控制器執行用於將一氣體流動進入該處理空間的一第二方法，包含以下步驟：運用該計算出的第二關係至一輸入數值的該設定點，以利用一相對應的輸出數值的該流動速率流動該第二氣體進入該處理空間。
[17] 如申請專利範圍第16項所述之設備，其中決定該計算出的第二關係之步驟進一步包含以下步驟：從用於該標準氣體的該流動速率的複數個數值和該流量控制器的該設定點的相對應的複數個數值中，決定對於該標準氣體的一流動速率和一設定點之間的一實際的標準關係；及運用一第二氣體校正因子以調整該實際的標準關係，而用於與該第二氣體一同使用以形成該計算出的第二關係。
[18] 如申請專利範圍第17項所述之設備，其中在該第一方法中，基於該實際的第二關係利用該第二數值的該流動速率從該第二流量控制器流動該第二氣體之步驟進一步包含以下步驟：決定一第三數值的該設定點，該第三數值的該設定點不同於該第二數值的該設定點，該第二數值的該設定點基於該實際的第二關係對於該第二氣體產生該第二數值的該流動速率；及作為該輸入數值，運用該第三數值的該設定點至計算出的第二關係以提供該輸出數值，該輸出數值等於：對於該第二氣體從該流量控制器而具有的該流動速率的該第二數值。
[19] 如申請專利範圍第17項所述之設備，其中在該第一方法中，基於該實際的第二關係利用該第二數值的該流動速率從該第二流量控制器流動該第二氣體之步驟進一步包含以下步驟：利用在該第二流量控制器上的該實際的第二關係來替換該計算出的第二關係；及基於該實際的第二關係，設定該第二流量控制器為該第二數值的該設定點，以利用該第二數值的該流動速率從該第二流量控制器流動該第二氣體。
[20] 如申請專利範圍第14項所述之設備，其中該校正裝置耦合至在該第二流量控制器和該處理空間之間的該設備，其中該校正裝置被使用以對於該第二氣體的該流動速率而決定該等複數個數值。

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法律状态:

优先权:

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