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    • 专利摘要:
    本發明係關於永久環氧光阻組合物，其可用於在低表面能聚合物基板上製造負型永久光阻起伏圖樣，該永久環氧光阻組合物包含(A)如式I至VI之一或多種環氧樹脂，(B)一或多種陽離子光引發劑；(C)一或多種膜澆鑄溶劑；及(D)一或多種氟化化合物。本發明亦係關於在低表面能聚合物基板上利用所揭示之組合物形成永久光阻起伏圖樣之方法。
    公开号:TW201319159A
    申请号:TW101132606
    申请日:2012-09-06
    公开日:2013-05-16
    发明作者:Daniel J Nawrocki；Jeremy V Golden；William D Weber
    申请人:Microchem Corp；
    IPC主号:G03F7-00
    专利说明:
    用於在低表面能基板上製造起伏圖樣之環氧調配物及方法
    本發明係關於永久光陽離子可聚合環氧膜組合物及其等用於在低表面能基板上製造起伏結構之方法。
    可光成像塗層當今正用於各種不同的微電子機械系統(MEM)技術及應用中。微流體係MEM技術之分支，其負責幾何上約束在約10-9至10-15升之小體積元件中之小體積流體之行為、準確控制及操縱。微流體作為一種技術規則出現在20世紀80年代早期並用於製造噴墨印刷頭、DNA測序晶片、晶片實驗室技術、微推進、自適應透鏡、像素化濾光片及在最近，針對電腦及行動裝置應用之顯示技術。
    電潤濕作用為數種微流體裝置設計及概念提供基礎。電潤濕作用定義為由於在固體與電解質之間施加所施加之電位或電壓而導致之固體-電解質溶液接觸角之變化。於一實例中，停留在疏水絕緣膜上之水滴因表面張力不相配而展現大接觸角。若將疏水絕緣膜置於電極頂部並與之接觸及隨後使水滴與另一電極接觸，則當在兩電極之間施加電位時水滴與疏水表面之接觸角將減小，及水滴蔓延以覆蓋較大面積之疏水膜表面。電潤濕作用可逆及因此當移除所施加之電位時，水滴接觸角變回無偏值。
    電潤濕作用已充分用於微流體光切換器中，形成電潤濕顯示裝置之操作基礎，如美國專利案7,813,030、7,359,108、7,359,108及7,800,816中所揭示。此等先前技藝顯示裝置之像素元件各包含如圖1a及1b(依美國專利案7,800,816中之圖1a及1b重繪)建造之微流體光切換器。
    圖1顯示顯示裝置像素元件1之概略橫截面，其展示電潤濕顯示器所基於之原理。於兩透明基板或支撐平板3與4(可為玻璃或塑膠)之間，提供第一流體5及第二流體6，其等彼此不相容。例如，第一流體5可為類似於十六烷之烷烴或有色油。第二流體6導電或呈極性及可為水或鹽溶液。於裝置關閉狀態時，不施加外部電壓(圖1a)，流體5及6鄰接第一及第二透明支撐平板3及4。於第一支撐平板3上，提供透明電極7，例如，氧化銦(錫)及提供中間較不可潤濕(疏水)層8，例如，非晶形氟聚合物作為透明電極7上之塗層。
    當經由互連20及21施加電壓(電壓源9)時，流體層5移動至旁邊或破碎成小液滴(圖1b，啟動狀態)。此係當由於彎曲表面建立而導致靜電能增益大於表面能損失時發生。作為極其重要態樣，發現藉由電切換構件(電壓源9)達成覆蓋支撐平板3之連續流體膜5與鄰接像素壁2之流體膜5之間之可逆切換。
    光切換係當於根據圖1之裝置上之入射光自圖1b中之反射器10反射時獲得以提供反射光12。於根據圖1b之裝置關閉狀態中，入射光不被反射及像素對觀察者展示為黑色。
    已發現負型光敏環氧塗層組合物，如SU-8(MicroChem Corp.之產品)可用作製造可電潤濕顯示器像素側壁(圖1a中之2)之材料，如Heikenfeld,J.等人，J.Micromech.Microeng.,19(2009)pp 1-12中所描述。為了製造像素側壁，需將光敏環氧組合物塗覆在疏水層(圖1b中之8)上。於大部分可電潤濕顯示器實現中，疏水層係低表面能聚合物及常用氟聚合物。因此，難以在此類低表面能基板上形成溶劑-澆鑄光敏環氧組合物塗層，係因環氧組合物與疏水基板之間之巨大表面能失配會導致塗層缺陷及不良塗層黏著。此問題已藉由處理疏水層減輕，該處理利用諸如電暈放電、UV-臭氧或氧反應性離子蝕刻之方法，增大疏水層之表面能及藉此提供活化表面以促進光環氧組合物之潤濕及黏著。此類處理之結果係活化疏水層之表面能需降低以使疏水層之表面能恢復至容許電潤濕裝置正常工作之值。此可透過在高溫下烘烤疏水層達成。應注意，烘烤溫度可受透明支撐平板3之特性約束，在諸如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯之塑膠之情況中，將烘烤溫度約束至低於此類塑膠支撐平板材料之變形溫度之值。
    疏水層活化之加工步驟及後續退火導致方法複雜性及費用增加。因此，需要一種負型光敏環氧組合物，其中對疏水層之加工不需要使用疏水層表面活化方法。因此本發明之目的係提供負型光敏環氧組合物及其等用於消除對疏水層活化之需求之方法。
    本發明係關於永久環氧光阻組合物及其永久固化產物，其等可用於製造MEMS(微電子機械系統)部件、微機械部件、μ-TAS(微-總分析系統)部件、微反應器部件、介電層、電潤濕微流體裝置及可利用紫外光微影方法圖案化之類似物，其中光阻起伏結構形成在低表面能聚合物基板上。本發明進一步係關於永久環氧光阻組合物及其固化產物，其中固化產物具有高強度、優異黏著、抗破裂及裂紋、優異酸、鹼及溶劑化學抗性、良好耐熱性及良好電學性質。
    因此，本發明之一態樣係關於提供永久環氧光阻組合物，其可用於在低表面能聚合物基板上製造負型永久光阻起伏圖樣，包含：(A)一或多種環氧樹脂；及(B)一或多種陽離子光引發劑；及(C)一或多種膜澆鑄溶劑；及(D)一或多種氟化化合物。
    除組分(A)至(D)外，根據本發明之組合物可視需要包含以下添加劑材料中之一或多者：(E)一或多種表面活性劑，(F)一或多種視需要環氧樹脂；(G)一或多種反應性單體；(H)一或多種光敏化劑；(I)一或多種黏著增進劑；及(J)一或多種光吸收化合物，包括染料及顏料。除組分(A)至(J)外，根據本發明之組合物亦可視需要包含其他材料，包括但不限於，熱酸產生化合物流動控制劑、熱塑性及熱固性有機聚合物及樹脂、無機填充材料及自由基光引發劑。
    環氧樹脂(A)可，例如，包含如式I至式VI之一或多種環氧樹脂： 其中於式I中之各基團R獨立地選自縮水甘油基或氫及於式I中之k係0至約30範圍內之實數； 其中於式II中之各R1、R2及R3獨立地選自由氫或具有1至4個碳原子之烷基組成之群，及於式II中之p值係1至約30範圍內之實數； 其中於式III中之各R4及R5獨立地選自由氫、具有1至4個碳原子之烷基或三氟甲基組成之群及於式III中之n及m值獨立地係1至約30範圍內之實數； 其中於式IV中之x係1至約30範圍內之實數； 其中於式V中之R1表示具有z個活性氫原子之有機化合物之殘基，n1至nz各表示0或1至100之整數，由n1至nz表示之整數之和為1至100，z表示1至100之整數及E分別表示基團E1或E2；及 其中於式VI中之各基團R獨立地選自縮水甘油基或氫及於式VI中之x係0至約30範圍內之實數。
    本發明之另一態樣係關於一種在低表面能聚合物基板上形成永久光阻起伏圖樣之方法，包含加工步驟：(1)藉由將低表面能聚合物溶液塗覆於基板上在基板上提供低表面能聚合物層，(2)於該低表面能聚合物基板上形成根據本發明之任何光阻組合物層；(3)藉由加熱經塗覆之基板自該光阻層蒸發大部分溶劑以於該基板上形成光阻組合物膜；(4)透過遮罩以活性射線照射光阻膜；(5)藉由加熱使經照射之光阻膜區段交聯；(6)藉由溶劑使光阻膜之遮罩影像顯影以於光阻膜中形成遮罩之負型起伏影像；及(7)熱處理該光阻起伏結構以使光阻及低表面能聚合物層進一步固化。
    本發明之另一態樣係關於在低表面能聚合物基板上提供光阻起伏結構，其中未由光阻起伏圖樣覆蓋之基板區域保留用於成功操作電潤濕裝置所需之疏水表面活性。
    當結合以下附圖時，將更佳地理解本發明之以上敘述。
    於與光可成像組合物相關之技藝中，光阻一般視為暫時塗層，用於選擇性保護表面之某一部分區域，以使隨後加工操作僅在未由光阻覆蓋之基板區域中進行。在完成此隨後操作後，便移除該光阻。因此，此類暫時光阻塗層之性質僅需滿足獲得所需影像輪廓及耐後續加工步驟之作用的要求。然而，本發明提供其中光阻層不移除並用作所製造裝置之永久結構部件之應用。於將光阻用作永久層之情況中，光阻膜之材料性質需與裝置之預期功能及最終用途相容。因此，留下作為裝置之永久零件之光可成像層在本文中稱為永久光阻。
    本發明之永久光阻組合物由以下組成：一或多種環氧樹脂，如由式I至VI所描述之樹脂(A)；一或多種陽離子光引發劑(B)；一或多種膜澆鑄溶劑(C)；及一或多種氟化化合物(D)及視需要添加劑。
    於一實施例中，環氧樹脂(A)可具有式I中所顯示之結構： 其中於式I中之各基團R獨立地選自縮水甘油基或氫及於式I中之k係0至約30範圍內之實數；適用於本發明之如式I之環氧樹脂(A)係雙酚A酚醛環氧樹脂，其可藉由使雙酚A酚醛樹脂與表氯醇反應獲得。以具有2000至11000之重量平均分子量之樹脂較佳及以具有4000至7000之重量平均分子量之樹脂特佳。Epicoat® 157(環氧當量重量為180至250及軟化點為80至90℃，由Japan Epoxy Resin Co.,Ltd.Tokyo,Japan製造)及由Momentive Specialty Chemicals,Columbus,Ohio製造之EPON® SU-8樹脂(環氧當量重量為195至230 g/eq及軟化點為80至90℃)及類似者被視為適用於本發明之雙酚A酚醛環氧樹脂之較佳實例。
    於另一實施例中，環氧樹脂(A)可具有式II及III中所顯示之結構： 其中於式II中之各R1、R2及R3獨立地選自由氫或具有1至4個碳原子之烷基組成之群及於式II中之p值係1至約30範圍內之實數； 其中於式III中之各R4及R5獨立地選自由氫、具有1至4個碳原子之烷基或三氟甲基組成之群及於式III中之n及m值獨立地係1至約30範圍內之實數；如式II及III之環氧樹脂(A)可撓及堅固且可將此等相同性質提供給圖樣化光阻膜。可用於本發明中之如式II之環氧樹脂之實例係根據Japanese Kokai Patent No.Hei 9(1997)-169,834之環氧樹脂，其等可藉由使二(甲氧基甲苯基)及酚反應及隨後使表氯醇與所獲得之樹脂反應而獲得。如式II之市售環氧樹脂之實例係環氧樹脂NC-300(環氧當量重量為270至300 g/eq及軟化點為55至75℃)，由Nippon Kayaku Co.,Ltd.Tokyo,Japan製造及類似者引述為實例。應注意，於式II中之n值係藉由自樹脂環氧當量之反運算計得，及平均值為1或更大之數值，較佳為1至10之數值。應理解可使用多於一種如式II之環氧樹脂。
    如式III之環氧樹脂可藉由雙酚-表氯醇縮聚物之醇類羥基與表氯醇反應獲得。可用於本發明中之環氧樹脂III之具體實例係Nippon-Kayaku Co.Ltd,Tokyo,Japan製造之NER-7604、NER-7403、NER-1302及NER 7516樹脂及Epoxonics,GmbH製造之EX 2177。如式III之環氧樹脂之環氧當量重量較佳為200至約600及其等軟化點為較佳40至90℃。應理解，可使用多於一種如式III之環氧樹脂。
    於另一實施例中，環氧樹脂(A)可具有式IV中所顯示之結構： 其中於IV中之x係1至約30範圍內之實數；如式IV之環氧樹脂包括Nippon-Kayaku Co.,Ltd,Tokyo,Japan所製造之XD-1000樹脂。XD-1000具有約252之環氧當量重量及74℃之軟化點。
    於另一實施例中，環氧樹脂(A)可具有式V中所顯示之結構： 其中於式V中之R1表示具有z個活性氫原子之有機化合物之殘基，n1至nz各表示0或1至100之整數，由n1至nz表示之整數之和為1至100，z表示1至100之整數及E分別表示基團E1或E2；如式V之環氧樹脂係如美國專利案4,565,859及4,841,017中所揭示之環脂族環氧樹脂，其中乙烯基取代之脂環族環氧單體與含有至少一個活性氫原子之化合物共聚合以產生乙烯基取代之聚醚，其隨後藉由過酸氧化以產生脂環族環氧樹脂。較佳市售實例係EHPE 3150環氧樹脂，其具有170至190 g/eq之環氧當量重量及由Daicel Chemical Industries,Ltd.,Osaka,Japan製造。
    於另一實施例中，環氧樹脂(A)可具有式VI中所顯示之結構： 其中於式VI中之各基團R獨立地選自縮水甘油基或氫及於式VI中之x係0至約30範圍內之實數。
    如式VI之環氧樹脂可用於需改良之氧化穩定性之組合物中。較佳市售實例係Nippon-Kayaku Co.,Ltd,Tokyo,Japan製造之NC 6300H。
    由式I至VI描述之環氧樹脂(A)可單獨或以兩或更多者組合之方式使用。
    當由活性射線(如紫外輻射、X-射線、光及類似者)照射時產生酸性物質之化合物適宜作為用於本發明中之陽離子光引發劑(B)。陽離子光引發劑化合物(B)在調配技藝中亦稱為光酸產生劑或PAG。將芳族碘鎓絡鹽及芳族鋶絡鹽引述為實例。將三氟甲磺酸二-(第三丁基苯基)碘鎓、四(五氟苯基)硼酸二苯基碘鎓、六氟磷酸二苯基碘鎓、六氟銻酸二苯基碘鎓、六氟磷酸二(4-壬基苯基)碘鎓、六氟銻酸[4-(辛氧基)苯基]苯基碘鎓及類似者引述為可使用之芳族碘鎓絡鹽之具體實例。此外，三氟甲磺酸三苯基鋶、六氟磷酸三苯基鋶、六氟銻酸三苯基鋶、四(五氟苯基)硼酸三苯基鋶、雙-六氟磷酸4,4'-雙[二苯基鋶]二苯硫醚、雙-六氟銻酸4,4'-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶]二苯硫醚、雙六氟磷酸4,4'-雙[二(β-羥基乙氧基)(苯基鋶)二苯硫醚、六氟磷酸7-[二(對甲苯基)鋶]-2-異丙基噻噸酮、六氟銻酸7-[二(對甲苯基)磺基-2-異丙基噻噸酮、硼酸7-[二(對甲苯基)鋶]-2-異丙基四(五氟苯基)、六氟磷酸苯基羰基-4'-二苯基鋶二苯硫醚、六氟銻酸苯基羰基-4'-二苯基鋶二苯硫醚、六氟磷酸4-第三丁基苯基羰基-4'-二苯基鋶二苯硫醚、六氟銻酸4-第三丁基苯基羰基-4'-二苯基鋶二苯硫醚、硼酸4-第三丁基苯基羰基-4'-二苯基鋶二苯硫醚四(五氟苯基)、六氟銻酸二苯基[4-(苯硫基)苯基]鋶及類似者可引述為可使用之芳族鋶絡鹽之具體實例。獲自Dow之CYRACURE 6976(混合芳族六氟銻酸鋶鹽)係有用光酸產生劑之實例。獲自BASF之Irgacure PAG 290及GSID26-1係不含有銻之有用光酸產生劑之實例。其他合適光陽離子引發劑包括磺化酯及亦可使用磺醯氧基酮。參見J.Photopolymer Science and Technology,4(3)：337-340(1991)關於合適磺酸鹽PAGS之公開內容，包括甲苯磺酸安息香酯、α-(對甲苯磺醯氧基)-乙酸第三丁基苯基酯及α-(對甲苯磺醯氧基)-乙酸第三丁酯。較佳磺化陽離子光引發劑亦揭示於美國專利案5,344,742中。
    其他有用酸產生劑包括硝基苄基酯及均三嗪衍生物。合適均三嗪酸產生劑揭示於例如美國專利案4,189,323中。鹵化非離子性光酸產生化合物亦適宜，如，例如，1,1-雙[對氯苯基]-2,2,2-三氯乙烷(DDT)；1,1-雙[對甲氧苯基]-2,2,2-三氯乙烷；1,2,5,6,9,10-六溴環癸烷；1,10-二溴癸烷；1,1-雙[對氯苯基]-2,2-二氯乙烷；4,4-二氯-2-(三氯甲基)二苯基甲醇(開樂散(Kelthane))；六氯二甲基碸；2-氯-6-(三氯甲基)吡啶；o,o-二乙基-o-(3,5,6-三氯-2-吡啶基)硫代磷酸酯；1,2,3,4,5,6-六氯環己烷；N-(1,1-雙[對氯苯基]-2,2,2-三氯乙基)乙醯胺、三[2,3-二溴丙基]異氰尿酸酯；2,2-雙[對氯苯基]1,1-二氯乙烯；三[三氯甲基]-均三嗪；及其等異構體、類似物、同系物及殘餘化合物。合適光酸產生劑亦揭示於歐洲專利申請案0164248及0232972中。
    陽離子光引發劑(B)可單獨或以兩或更多種化合物之混合物之形式使用。
    將膜澆鑄溶劑(C)用於本發明中及可使用任何溶劑，條件係其係可溶解組合物中其他組分以使塗層在基板上形成及乾燥之有機溶劑。可使用之酮溶劑之實例包括丙酮、2-丁酮、2-戊酮、3-戊酮、甲基異丁基酮、甲基第三丁基酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮及類似者。可使用之醚溶劑之實例包括二丙二醇二甲基醚、四氫呋喃、1,3-二氧雜環戊烷、1,4-二氧雜環己烷、1,2-二甲氧基乙烷及二乙二醇二甲醚。可使用之酯溶劑之實例包括乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、γ-丁內酯及類似者。可使用之碳酸酯溶劑之實例包括碳酸二甲酯及碳酸丙二酯。於含有大量選自包含酮、酯或醚溶劑之群之一或多種溶劑之溶劑混合物中可以少量使用之芳族及脂族烴溶劑之實例包括甲苯、二甲苯、1,2,4,5-四甲基苯、辛烷、癸烷、石油蒸餾物及類似者。當與酮、酯或醚溶劑組合使用時，此等烴溶劑可單獨或以兩或更多種烴溶劑之混合物之形式使用。
    溶劑及溶劑混合物係依照特定應用及可利用加工設備之工程化要求選擇，以獲得所需之組合物黏度及乾燥特性。
    將氟化化合物(D)用於本發明中。適用之氟化化合物一般係其中所有或大部分不包含碳碳鍵之碳價係碳-氟鍵之有機化合物。氟化化合物一般係具有小於20 dyn/cm之表面張力之液體，其可藉由其等漢森(Hansen)溶解度參數進一步表徵，其中氟化化合物之分散溶解度參數(δ D )係於8至約15之範圍內，氟化化合物之極性溶解度參數(δ P )係於0至約2之範圍內，及氟化化合物之氫鍵結溶解度參數(δ D )係於0至約2之範圍內。合適氟化化合物包括，但不限於，全氟己烷、全氟辛烷、全氟萘烷、2,3-二氫氟戊烷、六氟苯、HFC 338pcc(八氟丁烷)、HFC-365mfc(五氟丁烷)、全氟二甲基環己烷、全氟庚烷、全氟甲基環己烷、全氟戊烷、呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟四氫-3-(五氟乙基)-5-(三氟甲基)-順式-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟四氫-3-(五氟乙基)-5-(三氟甲基)-反式-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟四氫-5-(五氟乙基)-3-(三氟甲基)-反式-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟四氫-5-(五氟乙基)-3-(三氟甲基)-順式-呋喃、2,3,3,4,4,5-六氟四氫-2-(五氟乙基)-5-(三氟甲基)-2h-環戊[b]呋喃、2,2,3,3a,4,4,5,5,6,6,6a-十一氟六氫-3-(三氟甲基)-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟四氫-3,5-雙(五氟乙基)-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟-3-(七氟丙基)四氫-5-(三氟甲基)-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟-5-(七氟丙基)四氫-3-(三氟甲基)-反式-呋喃、2,2,3,4,4,5-六氟-5-(七氟丙基)四氫-3-(三氟甲基)-順式-呋喃、2,3,3,4,4,5-六氟-2-(七氟丙基)四氫-5-(三氟甲基)-、1,1,1,2,2,3,3,4,4-九氟己烷、全氟甲基環戊烷、十二氟二甲基環丁烷、1h,1h,2h-全氟-1-癸烯、全氟-1,3-二甲基環己烷、1h-全氟庚烷、全氟庚烯-1、6h-全氟己烷、全氟甲基萘烷、全氟辛烯-1、1h,1h,2h-全氟-1-辛烯、全氟壬烷、全氟癸烷、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-十三氟-6-甲氧基-己烷、2-二氟甲基全氟氧戊環、及氟化液體，如在商標名FC-40、FC-43、FC-72、FC-77、FC-84下販售之四氟化碳液體；Novec® HFE-7100、Novec® HFE-7200及Novec® HFE-7300(甲基九氟異丁醚與甲基九氟丁醚之混合物)，由3M Company製造。根據本發明之氟化化合物可以兩或更多種化合物之混合物之形式使用。
    視需要，於特定實施例中，組合物宜包含表面活性劑(E)以改良塗覆均一性及表面粗糙度。合適表面活性劑之實例包括來自Omnova Solutions之氟化聚(氧雜環丁烷)聚合物及具體實例包括在商標名PF-6320、PF-6520及PF 7002下販售之氟化聚(氧雜環丁烷)聚合物。其他合適材料係在商標名FS-22、FS-65及FS-83下販售之Capstone®氟表面活性劑；在商標名FSA、FSJ、FSN、FSO及FSP下販售，由Dupont Company製造之Zonyl®氟表面活性劑；及在商標名Disparlon® 1970及230下販售及由Kusumoto Chemicals,Ltd.,Tokyo,Japan製造之丙烯酸系表面整平劑。
    視需要，於特定實施例中，組合物中宜使用額外環氧樹脂(F)，其中視需要環氧樹脂(F)係不同於由式I至VI描述之樹脂之環氧樹脂。視其化學結構，視需要環氧樹脂F可用於調節光阻之微影對比度或改質光阻膜之吸光度。視需要環氧樹脂F可具有在160至800克樹脂/當量環氧範圍內之環氧當量重量。適宜使用之視需要環氧樹脂之實例包括EOCN 4400，其係具有約195 g/eq之環氧當量重量之環氧甲酚酚醛樹脂，由Nippon Kayaku Co.,Ltd.,Tokyo,Japan製造。
    視需要，於特定實施例中，本發明之組合物中宜使用反應性單體化合物(G)。組合物包含反應性單體有助於增大未固化膜之可撓性。含有兩或更多個縮水甘油醚基團之縮水甘油醚係可使用之反應性單體(G)之實例。以具有兩或更多個縮水甘油基之化合物較佳及將二乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、異戊四醇四縮水甘油醚及類似者引述為實例。縮水甘油醚可單獨或以兩或更多者之混合物之形式使用。三羥甲基丙烷三縮水甘油醚及丙二醇二縮水甘油醚係可用於本發明中之反應性單體(H)之較佳實例。
    特定縮水甘油化聚矽倍半氧烷，如由Hybrid Plastics Inc.製造，於商標名EP0435下販售之八縮水甘油基二甲基甲矽烷基多面體寡聚矽倍半氧烷係可用於本發明中之另一組反應性單體(G)。
    脂族及芳族單官能及/或多官能氧雜環丁烷化合物係可用於本發明中之另一組視需要反應性單體(G)。可使用之脂族或芳族氧雜環丁烷反應性單體之具體實例包括3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧雜環丁烷、亞二甲苯基二氧雜環丁烷、雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲基)醚、由Toa Gosei Co.Ltd製造之OXT 221及類似者。此等單官能及/或多官能氧雜環丁烷化合物可單獨或以兩或更多者之混合物之形式使用。
    脂環族環氧化合物亦可用作本發明中之反應性單體(G)及甲基丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯及甲酸3,4-環氧基環己基甲基-3',4'-環氧基環己烷酯可引述為實例。
    視需要反應性單體化合物(G)可單獨或以兩或更多種化合物之混合物之形式使用。
    視需要，組合物中可包含光敏化劑化合物(H)，以吸收更多紫外射線及將所吸收之能量轉移至陽離子光聚合引發劑(PAG)。因此，減少曝光之加工時間。蒽、N-烷基咔唑及鹵-熒光酮化合物係可用於本發明中之光敏劑之實例。
    於位置9及10具有烷氧基之蒽化合物(9,10-二烷氧基蒽)係較佳光敏劑(H)。C1至C4烷氧基，如甲氧基、乙氧基、丙氧基及丁氧基引述為較佳烷氧基。9,10-二烷氧基蒽亦可具有取代基。鹵原子，如氟原子、氯原子、溴原子及碘原子；C1至C4烷基，如甲基、乙基及丙基；磺酸基團、磺酸酯基團、羧酸烷基酯基團及類似者引述為取代基之實例。C1至C4烷基，如甲基、乙基及丙基視為在磺酸烷基酯基團及羧酸烷基酯基團中之烷基部分之實例。此等取代基之取代位置較佳係於蒽環系統之位置2。9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丙氧基蒽、9,10-二甲氧基-2-乙基蒽、9,10-二乙氧基-2-乙基蒽、9,10-二丙氧基-2-乙基蒽、9,10-二甲氧基-2-氯蒽、9,10-二甲氧基蒽-2-磺酸、9,10-二甲氧基蒽-2-磺酸甲酯、9,10-二乙氧基蒽-2-磺酸甲酯、9,10-二甲氧基蒽-2-羧酸、9,10-二甲氧基蒽-2-羧酸甲酯及類似者可引述為可用於本發明中之9,10-二烷氧基蒽之具體實例。
    名為AN910E之光敏劑(Spectra Group Limited產品)係合適光敏劑之另一實例。
    可用於本發明中之N-烷基咔唑之實例包括N-乙基咔唑、N-乙基-3-甲醯基-咔唑、1,4,5,8,9-五甲基-咔唑、N-乙基-3,6-二苯甲醯基-9-乙基咔唑及9,9'-二乙基-3,3'-雙咔唑。鹵-熒光酮光敏劑之實例包括-5,7-二碘-3-丁氧基-6-熒光酮、3-羥基-2,4,5,7-四碘-6-熒光酮及9-氰基-3-羥基-2,3,5,7-四碘-6-熒光酮及其他熒光酮化合物揭示於美國專利案5,395,862及5,451,343中，該等案係以引用之形式併入本文。敏化劑化合物(H)可單獨或以兩或更多者之混合物之形式使用。
    可用於本發明中之視需要黏著增進化合物(I)之實例包括：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷及類似者。
    視需要，可包含吸收光化射線之化合物(J)。此類化合物可用於提供起伏影像橫截面，該橫截面具有倒錐形以使影像頂部之成像材料比影像底部之成像材料更寬。二苯甲酮化合物，如2,4-二羥基二苯甲酮及2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮；水楊酸化合物，如水楊酸苯基酯及水楊酸4-第三丁基苯基酯；苯基丙烯酸酯化合物，如乙基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯及2'-乙基己基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯；苯并三唑化合物，如2-(2-羥基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑及2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑；偶氮染料，如對苯基偶氮間苯二酚及4,4-[氧基雙(對-亞苯酚偶氮)]二苯酚；香豆素化合物，如4-甲基-7-二乙基胺基-1-苯并哌喃-2-酮；噻噸酮化合物，如二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮及4-異丙基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、根據以引用方式併入本文之美國專利案4,585,876及4,681,959之噻噸酮化合物；二苯乙烯化合物、萘二甲酸化合物及類似者引述為可單獨或以混合物形式用於本發明中之化合物(J)之具體實例。
    於特定實施例中，宜包含將渾濁度添加至由本發明組合物所製成之最終結構之視需要染料組分(J)。用於此目的之染料組分J呈離子性及具有基本機構C+D-，其中C+係陽離子物質及D-係陰離子物質。用於染料之合適陽離子物質包括花青素陽離子、胺基蒽酮陽離子、吖嗪陽離子、若丹明(rhodamine)陽離子、福星(fushin)陽離子、二苯并哌喃陽離子及其等組合。視技術應用將光吸收染料併入圖樣化調配物中，視膜之光阻擋需求，在較佳最大波長下或於寬波長最大範圍內，光密度(O.D.)為0.05/微米高至4/微米。
    有用陽離子染料物質之實例包括如式VII及式VIII之陽離子花青素染料：
    於式VII及VIII中，R1及R2可獨立地係H或任何烷基或異烷基，如甲基、乙基、丙基、異丁基、第二丁基及類似者。R3、R4、R5、R6及R7可獨立地係H或任何C1至C18烷基或異烷基、芳族(例如，C6H5)基團或經一或多個C1至C18烷基取代基及/或一或多個鹵取代基取代之芳族基團。
    於以上式VII及VIII之兩芳族環結構之間之橋結構可具有不同長度，如式IX、式X及式XI中所顯示。此類橋結構之長度可作為合成之函數變化，及提供需來自染料結構之所需波長吸收。橋結構越長，染料結構之吸收波長(λmax)越長。
    其他有用陽離子染料物質包括如式XII之陽離子三苯基甲烷花青素、如式XIII之陽離子噻嗪花青素及如式XIV之陽離子噁嗪花青素
    於上式XII至XIV中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中之各者獨立地選自H、C1至C12烷基、烷芳基、鹵烷基、硫代烷基、硫代烷芳基、鹵烷芳基、羥烷基、羥烷芳基、烷氧基、烷氧芳基、支化C1至C12聚烷氧基及支化C1至C12聚烷氧芳基。
    染料組分之陰離子物質D-可選自，例如，SbF6 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、(CF3SO2)3C-、(CF3CF2)3PF3 -、(C6F5)4B-及其等組合。熟習本項技術者亦將瞭解，兩、三、四或更多種染料之組合亦可用於本發明中。
    根據本發明，染料組分之陰離子物質(D-)應與PAG組分之陰離子物質(B-)結構上一致，或具有等效鹼度，以使在光解期間產生之酸不受染料之較強鹼性抗衡離子折損。如本文中所定義，「等效鹼度」意指所使用之染料陰離子不會令微影膜感光速度減慢至超出在365 nm下之增大膜吸光度的預期。因此，例如，若將六氟銻酸陰離子選為光酸產生劑之陰離子物質，則染料組分亦應具有六氟銻酸根作為陰離子物質，或其鹼性等效物。染料較佳具有290至1500 nm之吸光度範圍及對應計劃吸收之光之波長。染料亦對應用要求所對應之選擇波長範圍透明。如本文中所定義，「透明」意指>70% UV-可見光透射率。於本發明組合物中之離子性染料組分之有用量較佳基於環氧-酚醛樹脂總重量之0.25至50重量%，及更佳0.5至20重量%。
    合適陽離子染料之市售實例係Fabricolor Holding International,LLC製造之FHI 5482。
    此外及於特定實施例中，組合物宜包含熱酸產生化合物或TAG作為視需要組分。
    可將不同的已知TAG化合物用於此目的及實例包括CXC 1612、2,4,4,6-四溴環己二烯酮、甲苯磺酸安息香酯、甲苯磺酸2-硝基苄基酯及有機磺酸之其他烷基酯。當熱活化時產生磺酸之化合物基本上合適。
    可使用之環氧樹脂(A)之量為組分A及B及，當存在時，視需要環氧樹脂F、視需要反應性單體G及視需要黏著增進劑I之總重量之5至99.9重量%，及更佳為20至99.9重量%及最佳40至99.9%。以如式I至IV之環氧樹脂特佳，但應理解，不同於式I至IV所描述之彼等樹脂之環氧樹脂可用於本發明之組合物中。
    可使用之光酸產生劑化合物(B)之量為環氧樹脂組分(A)，及當存在時，視需要環氧樹脂F、視需要反應性單體G及視需要黏著增進劑I之總重量之0.1至10重量%。更佳使用1至8重量%之B及最佳使用2至8重量%。
    可使用之溶劑組分C之量為總組合物之5至99重量%。更佳使用5至90重量%溶劑及最佳使用10至85重量%溶劑。可使用之溶劑之準確量係視所需塗層厚度而定。含有較低量溶劑之組合物提供較高固體濃度及可用於製備厚膜，較大量溶劑降低固體含量及此類組合物可用於製備薄膜。
    溶劑組分C可包含兩或更多種溶劑之混合物。溶劑混合物可用於改質組合物之黏度及乾燥特性。以溶劑混合物較佳及最佳係丙酮、乙酸甲酯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮及碳酸二甲酯與其他溶劑之混合物，其中該混合物含有共1至25重量%之非丙酮、乙酸甲酯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮及碳酸二甲酯之溶劑。
    可使用之氟化化合物(D)之總量為環氧樹脂組分A及陽離子光引發劑B及當存在時，視需要環氧樹脂F、視需要反應性單體G及視需要黏著增進劑I之和之0.01至10重量%。更佳使用3至8重量%之D及最佳使用3至5%。
    可使用之視需要表面活性劑(E)之總量為環氧樹脂組分A及陽離子光引發劑B及，當存在時，視需要環氧樹脂F、視需要反應性單體G及視需要黏著增進劑I之和之0.001至5重量%。較佳使用0.01至1重量%之E及最佳使用0.05至0.5%。
    當使用視需要環氧樹脂F時，可使用之樹脂F之量為組分A及B，及當存在時，視需要環氧樹脂F、視需要反應性單體G及視需要黏著增進劑I之總重量之5至40重量%，及更佳為10至30重量%及最佳15至30重量%。
    當使用視需要反應性單體G時，可使用之G之量為組分A及B，及當存在時，視需要環氧樹脂F、反應性單體G及黏著增進劑I之總重量之1至20%，及更佳2至15重量%及最佳4至10重量%。
    當使用時，視需要光敏劑組分H可以相對於光引發劑組分B之0.05至50重量%之量存在及更佳使用0.5至50重量%及最佳使用1至25重量%。
    當使用視需要黏著增進劑I時，可使用之I之量為組分A及B，及當存在時，視需要環氧樹脂F、反應性單體G及黏著增進劑I之總重量之0.1至3重量%及更佳0.5至2.5重量%及最佳1至2.5重量%。
    當使用視需要光吸收化合物J時，可使用之J之量為組分A之重量之0.05至15重量%及更佳0.05至10重量%。
    視需要，可將不同於組分A及G之環氧樹脂、環氧丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯樹脂，及丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯均聚物及共聚物用於本發明中。苯酚-酚醛環氧樹脂、三苯酚甲烷環氧樹脂及類似者引述為此類額外環氧樹脂之實例，及甲基丙烯酸酯單體，如四甲基丙烯酸異戊四醇酯及五-及六-甲基丙烯酸二異戊四醇酯；甲基丙烯酸酯寡聚物，如環氧基甲基丙烯酸酯、胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯、聚酯聚甲基丙烯酸酯及類似者引述為甲基丙烯酸酯化合物之實例。用量較佳為組分A、B及F之總重量之0至50重量%。
    此外，可將視需要無機填充劑用於本發明中，如硫酸鋇、鈦酸鋇、氧化矽、非晶形矽石、滑石、黏土、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鋁、氫氧化鋁、蒙脫石黏土、單壁化碳奈米管、多壁化碳奈米管、石墨烯奈米粒子及雲母粉及各種金屬粉末，如銀、鋁、金、鐵、CuBiSr合金及類似者。無機填充劑之含量可為組合物之0.1至80重量%。類似地，可依類似方式合併有機填充劑，如聚甲基丙烯酸甲酯、橡膠、氟聚合物、交聯環氧樹脂、聚胺基甲酸酯粉末及類似者。當使用時，有機填充劑材料不溶於溶劑組分C中。
    當需要時，可將各種材料，如交聯劑、熱塑性樹脂、著色劑及增稠劑用於本發明中。交聯劑可包括，例如，甲氧基化三聚氰胺、丁氧基化三聚氰胺及烷氧基化乙炔脲化合物。來自Cytec Industries,Woodland Park,New Jersey之Cymel® 303係合適甲氧基化三聚氰胺化合物之具體實例。來自Cytec Industries,Woodland Park,New Jersey之Powderlink® 1174係烷氧基化乙炔脲化合物之具體實例。聚醚碸、聚苯乙烯、聚碳酸酯及類似者引述為熱塑性樹脂之實例；酞菁藍、酞菁綠、碘綠、結晶紫、氧化鈦、碳黑、萘黑及類似者引述為著色劑之實例；石棉、偶本(orben)、膨潤土及蒙脫石引述為增稠劑之實例。當使用此等添加劑及類似者時，其等於本發明組合物中之一般含量各為0.05至10重量%，但此含量可依據應用目的之需求而增大或減小。
    本發明之樹脂組合物可藉由組合組分A至D及視需要組分E至J及當需要時，無機填充劑及其他添加劑，較佳使用上述比，藉由滾軋機、槳式混合器或在化合技藝中已知之類似裝置均勻混合、溶解、分散及類似做法製備。特佳藉由溶劑組分C稀釋不包含溶劑組分C之組分A至J及調節至適合組合物預期用途之黏度。
    當使用本發明之光敏環氧組合物時，該組合物可利用諸如狹縫塗覆、調節桿塗覆、滾塗、蘸塗、凹板印刷、網印、旋塗及類似者之塗覆方法施用至低表面能基板。對乾燥烘烤條件進行選擇以形成光阻膜及可包含對載體溶劑(組分C)、基板溫度、排氣速度、調配溫度及熟習塗覆技藝者已知的相關因素之修改。隨後可使固體光阻塗層光微影圖樣化或利用提供呈UV、e束及x-射線輻射形式之光化射線之曝光工具曝光。較佳使用曝光工具讓來自中等或高壓汞燈或UV二極體之300至500 nm UV輻射通過含有不透明及透明區域圖樣之遮光罩。可使用接觸、接近或投射曝光模式。於曝光後，進行曝光後烘烤以加速塗層之曝光區域之陽離子聚合反應。於塗層中之遮光罩之起伏影像係藉由顯影方法形成，其中將經塗覆基板浸於有機溶劑顯影劑中以溶解塗層之未聚合區域。常見浸沒條件係於室內環境溫度下與顯影劑溶液在攪拌下接觸2至5分鐘。與顯影劑溶劑之接觸時間將視塗層厚度、顯影劑溶劑之溶劑強度及起伏圖樣之幾何特性而變化。應用漂洗溶劑漂洗顯影影像以移除殘留顯影劑。必須移除殘留顯影劑，係因殘留顯影劑含有溶解之光阻組分，若使基板上之殘留顯影劑乾燥，則會在起伏影像中形成沈積物。
    視需要，顯影劑溶劑可透過使用霧化噴嘴或精細蓮蓬頭型噴嘴噴灑之方式施用。顯影影像之另一方法包含利用光阻技藝中稱為浸置式顯影法之方法施用顯影劑，其中將計劃顯影之基板置於旋轉刀架上及隨後將足以在整個基板面積上形成駐留層或浸置層之量之顯影劑分散於基板上及靜置確定時間。經過此時間後，使基板旋轉加速以旋去使用過之顯影劑及隨後減速直至旋轉停止。重複此順序，若需要，直至獲得清晰起伏影像及常使用形成兩至四個溶劑浸置層之方法。
    合適顯影劑溶劑包括，但不限於，丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)、γ-丁內酯、丙酮、環戊酮、二丙酮醇、四氫糠醇、N-甲基吡咯啶酮、苯甲醚、乳酸乙酯及類似者。顯影劑溶劑可單獨或以混合物形式使用。丙二醇甲基醚乙酸酯特佳，係因其具有針對未曝光光阻組分之良好溶解能力及成本相對低。
    合適漂洗溶劑包括上述顯影劑溶劑中之任一者，及甲醇、乙醇、異丙醇及乙酸正丁酯。漂洗溶劑宜快速乾燥及就此而言，丙酮、甲醇、乙醇及異丙醇特佳。
    視需要，可對所獲得之影像進行顯影後烘烤以藉由使聚合反應達到較高轉化度而更全面硬化材料。
    可用於電潤濕裝置應用之基板材料係疏水聚合物及氟聚合物，如Teflon® AF(DuPont Company)、Cytop®(Asahi Glass Company)及FluoropelTM 1601 V(Cytonix Corp.)特佳。然而，亦可使用半導體及MEM製造中常見之其他基板及實例包括，但不限於，矽、二氧化矽、氮化矽、氧化鋁、玻璃、玻璃-陶瓷、砷化鎵、磷化銦、銅、鋁、鎳、鐵、鋼、銅-矽合金、氧化銦錫塗覆玻璃、有機膜(如聚醯亞胺、聚酯)及包含金屬、半導體及絕緣材料圖樣化區域之任何基板，及類似者。視需要，可對基板進行烘烤步驟以移除所吸收之水分，然後施用光阻塗料。
    當將本發明之組合物直接施用至氟聚合物層時，宜避免在施用光阻組合物前在高於氟聚合物之玻璃轉變溫度之溫度下加熱氟聚合物層。
    本發明之組合物亦可利用壓電、熱或雷射噴墨印刷機施用。為了將組合物用於壓電印刷機中，實施以下步驟：藉由將裝有約1.5 ml組合物之注射器之針頭小心插入入埠中以填充壓電印刷機墨盒，例如，Dimatix材料墨盒型號#DMC-11610。緩慢注入材料，填充流體模組。將流體模組之壓力孔與噴射模組之開口對準及鉚合一起。隨後使經填充之墨盒靜置30分鐘以使任何殘存空氣自噴嘴排出。
    選擇用於溶液之合適波形，及亦選擇用於各印刷頭之合適電壓設定以在噴射時使指定油墨組合物達成最優液滴速度。
    用於噴墨印刷之基板依所需應用而不同，但可包括常見半導體基板，如矽、砷化鎵、其他III-IV族及III-V族半導體、金屬、玻璃及陶瓷。亦可使用可撓性基板及實例包括各種塑膠，如PET、PETG、PEN、Kapton及Mylar。此等基板可藉由各種金屬(如金、銀及銅)或各種金屬氧化物化合物(如氧化銦錫、氧化銻錫及二氧化鈦)再次塗覆。
    於聚合物組合物之噴墨沈積後，塗層可透過曝光於紫外輻射固化(UV固化)。視組合物中之溶劑系統之組成及/或蒸發速率，UV固化油墨可需額外熱烘烤以使系統在初次曝光後完全固化。於某些情況中，高溫(>120℃)固化亦增大塗層之固化速率或化學抗性。
    於其他實施例中，使用本發明組合物進行噴墨印刷所形成之起伏圖樣可進一步經歷稱為光微調之製程。此製程涉及經由高解析微影遮罩將噴墨圖樣化基板曝光於UV光。光微調製程可用於改良噴墨印刷特徵件之圖樣邊緣銳度及亦可用於在事先已藉由噴墨製程圖樣化之基板上選擇圖樣化高解析特徵件。
    本發明之組合物亦可用作基板黏合黏著劑，其中使塗覆有組合物之基板與第二基板接觸，以在合適熱及壓力條件下，在兩基板之間形成黏著結合。視所使用之熱及壓力條件，此黏著結合可為暫時性或永久性。於此用途中，暫時性黏著結合係可透過以溶劑處理結合基板而斷開之黏著結合，而永久結合係溶劑處理無法弱化之黏著結合。
    起伏圖樣可利用壓印方法形成於所塗覆之組合物層中。壓印係藉由物理接觸將圖樣自模板轉移至基板之方法。本發明之組合物可透過將組合物塗覆於表面上及隨後烘烤濕塗層以乾燥膜之方式用於壓印及提供壓印基板。然後，使具有凸特徵件(可具有微米或次微米大小之特徵件)之模板與壓印基板物理接觸。隨後依導致模板之凸特徵件穿入永久光阻塗覆組合物塊體中之方式將壓力施加至模板或壓印基板或模板與壓印基板兩者。可藉由將熱施加至壓印基板以使永久阻性塗層軟化來提高壓印方法之效率。隨後將模板自壓印基板分離以提供圖樣化基板，其中模板之凸特徵件在永久光阻塗層中變為凹影像。當特徵件尺寸在微米範圍內此方法稱為微壓印而當特徵件尺寸小於一微米時稱為奈米壓印。可藉由將圖樣曝光於UV輻射以引發光阻組合物之陽離子聚合及隨後實施後續烘烤步驟以使膜完全聚合及交聯而將轉移之圖樣固定至基板膜中。或者不使用紫外線或其他活性射線，在將模板自壓印基板分離之前或之後，可將圖樣化基板加熱至足以激活PAG分解及後續陽離子聚合之溫度及藉此提供永久光阻層。可將上述成影像的紫外微影方法與成影像的壓印微影法組合以於基板上提供圖樣化永久光阻塗層，其中一部分起伏圖樣係藉由光微影法形成及一部分係藉由壓印法形成。
    本發明之光阻組合物可用於製造乾膜光阻。為了製備乾膜光阻，利用諸如滾塗、調節桿塗覆、狹縫塗覆、蘸塗、旋塗、凹板塗覆及類似者之塗覆方法將本發明之光阻組合物施用至基膜材料。隨後於設定在60至160℃下之乾燥爐中將經塗覆之基膜乾燥足以移除所需量之溶劑之時間。隨後將覆蓋膜施用至塗覆膜之光阻側以保護膜免受破壞及防止塗覆材料片黏連在一起。可藉由恰當選擇溶劑、光阻固體含量及塗覆參數將基膜上之光阻之厚度調節為約1至約100 μm。有機聚合物膜材料，如聚對苯二甲酸乙二酯、聚丙烯及聚醯亞胺可用作基膜。及有機聚合物，如聚乙烯、聚丙烯及聚對苯二甲酸乙二酯可用作覆蓋片材。
    乾膜光阻使用如下，首先自光阻層剝離保護覆蓋片，將乾膜放置於基板上，使光阻側與基板接觸，透過使用層壓裝置施加熱及壓力將光阻層壓至基板及隨後將基膜自光阻剝離。此等操作導致在基板上形成光阻層，其隨後可利用本文中所描述之方法進行影像加工。
    根據本發明之光阻組合物具有優異成像特性及固化產物具有優異溶劑、鹼及酸化學抗性及展示良好熱穩定性及電學性質。 實例
    本發明藉由以下實例及對照例進行進一步詳細描述。除非另外說明，否則所有份數及百分比係以重量計及所有溫度係攝氏度。 製備及測試調配組合物之基本實驗步驟組合物實例1至21及對照實例1及2之基本調配方法
    根據本發明之所有組合物係藉由個別稱重組合物組分至4盎司廣口琥珀玻璃瓶中製備。緊密蓋封該瓶及隨後在輥磨機上滾動4至8小時直至所有組分完全溶解。使樣品平衡至室溫及評價但不進一步操作。
    用於製備本發明組合物之物質之化學或商標名、來源、功能及組分類型出示於表1中。 製備氟聚合物基板之方法
    藉由將Teflon AF 1600溶液(DuPont Company)旋塗於<100>矽晶圓上及隨後於加熱板上在135℃下烘烤濕塗層30秒製備Teflon® AF塗覆氟聚合物基板。所獲得之塗層具有0.5 μm之厚度及120至125°之水接觸角(停滴法)。
    藉由將Cytop CTX-809SP2溶液(Asahi Glass Company)旋塗於<100>矽晶圓上及隨後於加熱板上在90℃下烘烤濕塗層60秒或180秒製備Cytop®塗覆氟聚合物基板。所獲得之塗層具有1.3 μm之厚度及116°之水接觸角(停滴法)。 黏著評價之方法及等級
    利用本發明組合物製造之微影圖樣之黏著係利用如下數字分類等級評價： 測量接觸角之方法
    停滴接觸角測量係利用Biolin Scientific Attension Theta測角器實施。將水用作測量流體。使用以5 μL/s之速率分散之5 μL液滴量。使四滴分散於整個測試基板及以1秒間隔對各液滴進行10次測量。對各液滴之測量取平均及隨後計算所有液滴之平均及作為結果報告。 測量膜厚度之方法
    利用FilmTek光學膜厚度測量儀或利用掃描式電子顯微鏡進行之校準線測量實施膜厚度測量。
    實例1
    光敏環氧組合物，含有61.54% BNER(組分A)、0.462% Irgacure 290(組分B)、36.10%丙酮(組分C)、0.57%碳酸丙二酯(組分C)、1.33% DPF(組分D)及0.0615% PF 7002(組分E)，依照基本調配方法製備。
    利用馬達驅動之調節桿裝置於約20 mm/秒之塗覆棒速度下將組合物塗覆於Teflon® AF 1600氟聚合物基板(利用製備氟聚合物基板之基本方法製備)上。使濕塗層靜置15分鐘及隨後藉由在對流式乾燥爐中於65℃下烘烤塗覆基板3分鐘乾燥，接著在15分鐘內冷卻至室溫。組合物膜厚度為7至8微米。利用365 nm輻射於80 mJ/cm2之劑量下透過像素壁圖樣遮罩曝光該膜。將經基板在135℃下於對流式乾燥爐中曝光後烘烤3分鐘。藉由在PGMEA溶劑中，於室內環境溫度下浸漬基板2分鐘，接著以新鮮PGMEA溶劑流漂洗，然後在緩慢流動空氣流下最終乾燥約1分鐘，以顯影潛伏的起伏影像。在加熱板上，於175℃下烘烤圖樣化基板5分鐘後完成加工。
    顯影圖樣展示優異微影清晰度，如圖2a及圖2b中所示之掃描式電子顯微影像所證實，具有黏著等級分類值5。於圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係122°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例2
    光敏環氧組合物，含有60.40% SU-8(組分A)、3.02% Cyracure 6976(組分B)、32.53%丙酮(組分C)、3.02%碳酸丙二酯(組分C)、1.01% DPF(組分D)及0.030% PF 7002(組分E)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是曝光劑量係100 mJ/cm2及曝光後烘烤係於95℃下在對流式乾燥爐中進行15分鐘。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係122°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例3
    光敏環氧組合物，含有59.8% BNER(組分A)、2.09% OPPI(組分B)、35.52%丙酮(組分C)、0.57%碳酸丙二酯(組分C)、1.65% DPF(組分D)、0.060% PF 7002(組分E)及0.31% AN910E(組分H)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是曝光劑量係150 mJ/cm2。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係121°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例4
    光敏環氧組合物，含有30.63% BNER(組分A)、13.50% N7604(組分A)、13.50% E3150(組分A)、0.61% Irgacure 290(組分B)、35.84%丙酮(組分C)、0.57%碳酸丙二酯(組分C)、1.33% DPF(組分D)、0.0615% PF 7002(組分E)、2.46% ED 506(組分G)及1.23% Z6040(組分I)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層烘烤條件係於對流式乾燥爐中，75℃維持3分鐘，曝光劑量係100 mJ/cm2，及曝光後烘烤條件係於對流式乾燥爐中，135℃維持4分鐘。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例5
    光敏環氧組合物，含有64.47% BNER(組分A)、1.10% Irgacure 290(組分B)、33.35%丙酮(組分C)、1.05% DPF(組分D)及0.030% PF 7002(組分E)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層烘烤條件係於對流式乾燥爐中，65℃維持30分鐘，曝光劑量係150 mJ/cm2，及曝光後烘烤條件係於對流式乾燥爐中，65℃維持30分鐘。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係122°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例6
    利用實例1中所描述之加工條件將實例1之組合物加工至Cytop塗覆基板上，不同的是濕塗層烘烤條件係65℃維持4分鐘及曝光劑量係100 mJ/cm2。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係116°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而明顯改變。 實例7
    光敏環氧調配物，含有60.0% SU-8(組分A)、3.0% Cyracure 6976(組分B)、32.5%乙酸甲酯(組分C)、3.0%碳酸丙二酯(組分C)、1.5% Novec 7200(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是使濕塗層在室內環境條件下靜置10分鐘及隨後在對流式乾燥爐中於75℃下乾燥4分鐘以形成7至8微米厚乾膜及將乾膜在200 mJ/cm2之劑量下曝光。所獲得膜展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123.1°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例8
    光敏環氧調配物，含有60.0% SU-8(組分A)、3.0% Cyracure 6976(組分B)、32.5%乙酸甲酯(組分C)、3.0%碳酸丙二酯(組分C)及1.5% Novec 7300(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是使濕塗層在室內環境條件下靜置10分鐘及隨後在對流式乾燥爐中於75℃下乾燥4分鐘以形成7至8微米厚乾膜及將乾膜在200 mJ/cm2之劑量下曝光。所獲得膜展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123.4°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例9
    光敏環氧調配物，含有60.0% SU-8(組分A)、3.0% Cyracure 6976(組分B)、32.5%乙酸甲酯(組分C)、3.0%碳酸丙二酯(組分C)、0.75% Novec 7200(組分D)及0.75% Novec 7300(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是使濕塗層在室內環境條件下靜置10分鐘及隨後於對流式乾燥爐中，於75℃下乾燥4分鐘以形成7至8微米厚乾膜及將乾燥在200 mJ/cm2之劑量下曝光。所獲得膜展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係124.1°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例10
    光敏環氧組合物，含有61.90% BNER(組分A)、3.09% Cyracure 6976(組分B)、30.51%乙酸甲酯(組分C)、3.09%碳酸丙二酯(組分C)及1.41% DPF(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層係於對流式乾燥爐中於65℃下乾燥4分鐘及曝光劑量係200 mJ/cm2。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係122.7°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例11
    光敏環氧組合物，含有66.66% BNER(組分A)、3.33% Cyracure 6976(組分B)、25.47%乙酸乙酯(組分C)、3.33%碳酸丙二酯(組分C)及1.19% DPF(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層係於對流式乾燥爐中於80℃下乾燥4分鐘及曝光劑量係200 mJ/cm2。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值4。 實例12
    光敏環氧組合物，含有66.66% BNER(組分A)、3.33% Cyracure 6976(組分B)、25.47%碳酸二甲酯(組分C)、3.33%碳酸丙二酯(組分C)及1.19% DPF(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層係於對流式乾燥爐中於80℃下乾燥4分鐘及曝光劑量係200 mJ/cm2。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值4。 實例13
    光敏環氧組合物，含有57.15% NC6300H(組分A)、2.86% Cyracure 6976(組分B)、35.72%乙酸甲酯(組分C)、2.86%碳酸丙二酯(組分C)、1.40% Novec HFC-7200(組分D)及0.01% PF 6320(組分E)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層係於加熱板上於70℃下乾燥1.5分鐘，曝光劑量係175 mJ/cm2，及顯影圖樣係於加熱板上於200℃下烘烤10分鐘。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。氟聚合物表面之停滴水接觸角在塗覆組合物前係122.7°及於加工完成後為122.7°。 實例14
    利用實例1中所描述之加工條件將實例1之組合物加工至塗覆Teflon AF 1600之玻璃基板上，不同的是曝光劑量係200 mJ/cm2。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值3至4。氟聚合物表面之停滴水接觸角在塗覆組合物前係122.9°及在加工完成後係122.4°。此結果說明黏著性能不受塗覆氟聚合物之基板之屬性(玻璃對矽)或用於印刷圖樣之曝光劑量影響。 實例15
    光敏環氧組合物，含有30.71% BNER(組分A)、13.54% N7604(組分A)、13.54% NC-3000H(組分A)、0.61% Irgacure 290(組分B)、35.94%丙酮(組分C)、0.57%碳酸丙二酯(組分C)、1.33% Novec 7200(組分D)、0.061% PF 7002(組分E)、2.47% ED506(組分G)及1.23% Z6040(組分I)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是使濕塗層靜置5分鐘，在加熱板上於75℃下乾燥5分鐘，將乾塗層在150 mJ/cm2下曝光，及曝光後烘烤條件係135℃維持30秒。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例16
    光敏環氧調配物，含有57.14% SU-8(組分A)、2.86% Cyracure 6976(組分B)、35.73%乙酸甲酯(組分C)、2.86%碳酸丙二酯(組分C)及1.41% Novec 7200(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是：在塗覆該光敏環氧調配物前，將Teflon AF塗層在175℃下烘烤60秒；使濕光敏環氧塗層在室內環境條件下靜置5分鐘及隨後在加熱板上於75℃下乾燥4分鐘以形成7至8微米厚乾膜，將乾膜在150 mJ/cm2之劑量下曝光，及曝光後烘烤係於加熱板上於135℃下進行30秒。所獲得之膜展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類4.5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123.1°，證實當在高於約150至160℃之氟聚合物玻璃轉變溫度的溫度x下加工氟聚合物時可獲得環氧塗層對氟聚合物之有效黏著。 實例17
    光敏環氧調配物，含有57.14% SU-8(組分A)、2.86% Cyracure 6976(組分B)、35.73%乙酸甲酯(組分C)、2.86%碳酸丙二酯(組分C)、1.41% Novec 7200(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是：使濕光敏環氧塗層在室內環境條件下靜置5分鐘及隨後在加熱板上於75℃下乾燥4分鐘以形成7至8微米厚乾膜，將乾膜在150 mJ/cm2之劑量下曝光，及曝光後烘烤係於加熱板上於135℃下進行30秒。所獲得之膜展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類5。於圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123.88°，證實相較於實例16，當在低於約150至160℃之氟聚合物玻璃轉變溫度之溫度下加工氟聚合物時，獲得環氧塗層對氟聚合物之改良黏著。 實例18
    光敏環氧組合物，含有30.71% BNER(組分A)、13.54% N7604(組分A)、13.54% NC-300H(組分A)、0.61% Irgacure 290(組分B)、35.94%丙酮(組分C)、0.57%碳酸丙二酯(組分C)、1.33% Novec 7200(組分D)、0.06% PF 7002(組分E)、2.47% OXT 221(組分G)及1.23% Z6040(組分I)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是，濕塗層靜置時間係5分鐘，濕塗層烘烤條件係在加熱板上，於75℃下維持5分鐘，曝光劑量係150 mJ/cm2，及曝光後烘烤條件係於加熱板上，於135℃下維持30秒。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係124.4°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例19
    光敏環氧調配物，含有57.01% SU-8(組分A)、2.85% Cyracure 6976(組分B)、35.86%乙酸甲酯(組分C)、2.85%碳酸丙二酯(組分C)、1.14% Novec 7200(組分D)及0.285% Darocur ITX(組分H)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層靜置時間係5分鐘，濕塗層烘烤條件係於加熱板上於75℃下維持5分鐘，曝光劑量係80 mJ/cm2，及曝光後烘烤條件係於135℃下維持30秒。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係124.1°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例20
    光敏環氧組合物，含有57.13% SU-8(組分A)、2.86% Cyracure 6976(組分B)、35.93%乙酸甲酯(組分C)、2.86%碳酸丙二酯(組分C)及1.14% Novec 7200(組分D)及0.095% 4,4'[氧基雙(對伸苯酚偶氮)]二苯酚(組分H)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層靜置時間係5分鐘，濕塗層烘烤條件係在加熱板上於75℃下維持4分鐘，曝光劑量係400 mJ/cm2，及曝光後烘烤條件係135℃維持30秒。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值4.5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123.4°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 實例21
    光敏環氧組合物，含有57.00% EX2177(組分A)、2.85% Cyracure 6976(組分B)、35.92%乙酸甲酯(組分C)、2.85%碳酸丙二酯(組分C)及1.38% Novec 7200(組分D)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之加工條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上，不同的是濕塗層靜置時間係5分鐘，濕塗層烘烤條件係在加熱板上於75℃下維持4分鐘，曝光劑量係300 mJ/cm2，及曝光後烘烤條件係135℃維持30秒。所獲得之起伏圖樣展示優異微影清晰度，具有黏著等級分類值4.5。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係123.8°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。 對照實例1
    光敏環氧組合物，含有61.5% BNER(組分A)、0.462% Irgacure 290(組分B)，37.36%丙酮(組分C)、0.57%碳酸丙二酯(組分C)及0.06% PF 7002(組分E)，依照基本調配方法製備。
    利用實例1中所描述之條件將組合物加工至Teflon® AF塗覆基板上。所獲得之起伏圖樣展示良好微影清晰度，但具有黏著分類值1，說明黏著不良，此在圖3a及圖3b中所示之SEM影像中進一步說明。圖樣化製程完成後之氟聚合物表面之停滴水接觸角係122°，證實氟聚合物表面之潤濕特性不因用於圖樣化組合物之製程方案而改變。此等對比證實在組合物中包含氟化化合物組分D以獲得根據本發明之良好黏著之必要性。 對照實例2
    光敏環氧組合物，含有42.78% SU-8(組分A)、2.14% Cyracure 6976(組分B)、52.86%環戊酮(組分C)、2.14%碳酸丙二酯(組分C)及0.08% Baysilone 3739(組分E)，狹縫塗覆至Teflon AF塗覆矽晶圓上，該矽晶圓係依照製備氟聚合物基板之方法所描述之製程製備。該組合物無法形成均勻塗層及觀察到嚴重不潤濕行為。
    1‧‧‧顯示裝置像素元件
    2‧‧‧像素壁
    3‧‧‧支撐平板
    4‧‧‧支撐平板
    5‧‧‧流體
    6‧‧‧流體
    7‧‧‧透明電極
    8‧‧‧不可潤濕層
    9‧‧‧電壓源
    10‧‧‧反射器
    12‧‧‧反射光
    20‧‧‧互連
    21‧‧‧互連
    圖1a顯示處於關閉狀態之先前技藝之可電潤濕顯示器像素元件之示意性橫截面；圖1b顯示處於啟動狀態之先前技藝之可電潤濕顯示器像素元件之示意性橫截面；圖2a顯示利用組合物及使用根據本發明之組合物之方法在Teflon® AF表面上形成之像素壁圖樣之SEM影像；圖2b顯示圖2a中所顯示之像素壁圖樣之較高倍放大視圖；圖3a顯示利用對照組合物在Teflon® AF表面上形成之像素壁圖樣之SEM影像，其中組合物對Teflon AF表面之黏力大部分損失；圖3b顯示圖3a中所顯示之像素壁圖樣之較高倍放大視圖。
    权利要求:
    Claims (15)
    [1] 一種永久環氧光阻組合物，可用於在低表面能聚合物基板上製造負型永久光阻起伏圖樣，其包含：(A)一或多種環氧樹脂；(B)一或多種陽離子光引發劑；(C)一或多種膜澆鑄溶劑；及(D)一或多種氟化化合物。
    [2] 如請求項1之組合物，其進一步包含以下添加劑材料中之一或多者：(E)一或多種表面活性劑，(F)一或多種視需要環氧樹脂；(G)一或多種反應性單體；(H)一或多種光敏劑；(I)一或多種黏著增進劑；及(J)一或多種光吸收化合物，包括染料及顏料。
    [3] 如請求項1之組合物，其中該環氧樹脂(A)包含如式I至式VI之一或多種環氧樹脂： 其中於式I中之各基團R獨立地選自縮水甘油基或氫及於式I中之k係0至約30範圍內之實數； 其中於式II中之各R1、R2及R3獨立地選自由氫或具有1至4個碳原子之烷基組成之群及於式II中之p值係1至約30範圍內之實數； 其中於式III中之各R4及R5獨立地選自由氫、具有1至4個碳原子之烷基或三氟甲基組成之群，及於式III中之n及m值獨立地係1至約30範圍內之實數； 其中於式IV中之x係1至約30範圍內之實數； 其中於式V中之R1表示具有z個活性氫原子之有機化合物之殘基，n1至nz各表示0或1至100之整數，由n1至nz表示之整數之和為1至100，z表示1至100之整數及E分別表示基團E1或E2；及 其中於式VI中之各基團R獨立地選自縮水甘油基或氫及於式VI中之x係0至約30範圍內之實數。
    [4] 如請求項1之組合物，其進一步包含一或多種額外材料，包括但不限制於，熱酸產生劑化合物、流動控制劑、熱塑性及熱固性有機或有機金屬聚合物及樹脂、無機填充劑材料及自由基光引發劑。
    [5] 如請求項1之組合物，其中該環氧樹脂(A)中之一或多者係雙酚A酚醛環氧樹脂。
    [6] 如請求項1之組合物，其中該溶劑組分(C)係選自由乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮及碳酸二甲酯組成之群之溶劑中之一者或混合物。
    [7] 如請求項1之組合物，其中該氟化化合物(D)係選自包括2,3-二氫全氟戊烷、Novec 7200及Novec 7300之群之一或多種化合物。
    [8] 一種在低表面能聚合物基板上形成永久光阻起伏圖樣之方法，包含步驟：(1)藉由將低表面能聚合物溶液塗覆在基板上而在該基板上提供低表面能聚合物層；(2)在該低表面能聚合物基板上形成如請求項1至7中任一項之任何光阻組合物層；(3)藉由加熱該塗覆基板而將大部分溶劑自該光阻層蒸發以在該基板上形成光阻組合物膜；(4)透過遮罩以活性射線照射該光阻膜；(5)藉由加熱使經照射之光阻膜區段交聯；(6)藉由溶劑使該光阻膜之遮罩影像顯影以於該光阻膜中形成該遮罩之負型起伏影像；及(7)熱處理該光阻起伏結構以使該光阻及低表面能聚合物層進一步固化。
    [9] 如請求項8之方法，其中利用狹縫塗覆方法將如請求項1至7中任一項之組合物之層施用至基板。
    [10] 如請求項8之方法，其中利用壓電噴墨印刷裝置將如請求項1至7中任一項之組合物之圖樣化層施用至基板。
    [11] 如請求項8之方法，其中將如請求項1至7中任一項之組合物之層施用至低表面能基板。
    [12] 如請求項8之方法，其中該等活性射線係由具有約200至約450奈米範圍內之波長之紫外射線組成。
    [13] 一種藉由如請求項8之方法製成之永久光阻起伏圖樣，其係用於顯示裝置中。
    [14] 如請求項13之永久光阻起伏圖樣，其中該顯示裝置包括智慧型電話顯示器、電腦顯示器及主動型標籤(active signage)。
    [15] 一種藉由如請求項8之方法製造之永久光阻起伏圖樣，其係用於微流體裝置中。
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    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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    US61/573,491||2011-09-07||
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