台湾专利TW201312677A 基板處理裝置及處理液賦予方法

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专利摘要:
本發明提供一種可抑制自移動之噴嘴吐出之處理液之流量變動之技術。本發明之基板處理裝置20係包括：基板保持部30，其大致水平地保持基板200；主掃描機構40，其包含沿相對於基板200大致平行之主掃描方向延伸之主掃描機構導引部42、及由主掃描機構導引部42以沿主掃描方向可移動地支持之滑件44；吐出部50，其由滑件44以沿主掃描方向可移動地支持，並向基板200吐出塗佈液；可撓性之塗佈液配管80b，其連接於吐出部50上並且向吐出部50導引塗佈液；及可動配管支持部100，其支持塗佈液配管80b之中途之部分，並且其朝向追隨藉由主掃描之反覆進行引起之滑件44之週期性動作而週期地變化。
公开号:TW201312677A
申请号:TW101113401
申请日:2012-04-13
公开日:2013-03-16
发明作者:Muneaki Oe；Yukihiro Takamura；Shuichi Sagara；Ryusuke Ito
申请人:Dainippon Screen Mfg；
IPC主号:H01L21-00

专利说明:
基板處理裝置及處理液賦予方法
本發明係關於一種保持半導體晶圓、液晶顯示裝置用玻璃基板、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示面板)用玻璃基板、有機EL(Electro-Luminescence，電致發光)顯示面板用玻璃基板、太陽電池用基板、磁碟或光碟用玻璃或陶瓷基板等各種被處理基板上所塗佈之處理液之流量的固定性之技術。
已知有一種技術，吐出噴嘴一面掃描於表面形成有間隔壁之排列之基板之表面，一面塗佈如有機EL般之像素形成材料作為塗佈液。於該情形時，具有可撓性之配管係連接於進行掃描移動之吐出噴嘴，流過配管之塗佈液係自吐出噴嘴吐出。
作為此種技術，例如，於專利文獻1中揭示有一種塗佈裝置，其包含：導引部，其沿主掃描方向延伸；滑件，其於與導引部之間介有空氣層之狀態下由導引部以沿主掃描方向可移動地支持；噴嘴，其由滑件支持，並吐出塗佈液；及配管支持構件，其支持連接於滑件及噴嘴上之配管之中途部分。
又，於專利文獻2中揭示有一種塗佈裝置，其包含卡合於導引部並沿主掃描方向可移動地支持之滑件、及由滑件支持之噴嘴，且構成為向滑件及噴嘴導引流體之複數個配管係夾持導引部之軸而分別於兩側固定於噴嘴及滑件上。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-072974號公報[專利文獻2]日本專利特開2011-072975號公報
然而，由於專利文獻1或專利文獻2中所揭示之該等配管係具有可撓性，因此藉由滑件之移動或振動而導致於配管之一部分易發生扭曲等變形。由於根據變形後之配管之形狀，於滑件之掃描移動時塗佈液在配管內會流向與本來之流動方向相反之方向，因此有時自吐出噴嘴吐出之塗佈液之流量會變動。
本發明係鑒於上述問題而完成者，目的在於提供一種可抑制自移動之噴嘴吐出之處理液之流量的變動之技術。
第1發明係一種基板處理裝置，其包括：基板保持部，其大致水平地保持基板；主掃描機構，其包含沿相對於上述基板大致平行之主掃描方向延伸之導引部、及由上述導引部以沿上述主掃描方向可移動地支持之移動部；吐出部，其由上述移動部以沿上述主掃描方向可移動地支持，並向上述基板吐出處理液；可撓性配管，其連接於上述吐出部並且向上述吐出部導引處理液；及可動配管支持部，其支持上述配管之中途之部分，且其朝向係追隨藉由主掃描之反覆進行引起之上述移動部之週期性之動作而週期性地變化。
第2發明係如第1發明之基板處理裝置，其中上述配管之中利用上述可動配管支持部之支持部位、與向上述吐出部之連接部位之間之區間係於鉛垂面內形成為拱形狀。
第3發明係如第2發明之基板處理裝置，其中上述配管之上述區間係成為向上凸起之拱形狀。
第4發明係如第1發明之基板處理裝置，其進而包括輔助掃描機構，該輔助掃描機構包含沿上述導引部延伸之輔助導引部、及由上述輔助導引部以沿上述主掃描方向可移動地支持之輔助移動部；上述配管之中利用上述可動配管支持部之支持部位、與向上述吐出部之連接部位之間之特定部分係由上述輔助移動部支持。
第5發明係如第4發明之基板處理裝置，其特徵在於上述可動配管支持部係連結於上述輔助移動部上。
第6發明係如第4發明之基板處理裝置，其中上述配管之中利用上述可動配管支持部之支持部位、與向上述吐出部之連接部位之間之區間係於鉛垂面內形成為拱形狀。
第7發明係如第4發明之基板處理裝置，其特徵在於上述主掃描機構較上述輔助掃描機構配置於更下方。
第8發明係如第1發明至第7發明中任一發明之基板處理裝置，其進而包含調節上述可動配管支持部之朝向之驅動部。
第9發明係一種處理液賦予方法，其包含如下步驟：大致水平地保持基板；一面自吐出部吐出處理液，一面使支持上述吐出部之移動部沿主掃描方向在基板上週期性地進行掃描移動；使支持向上述吐出部導引上述處理液之可撓性配管之中途部分的可動配管支持部之朝向追隨進行掃描移動之上述移動部而週期性地變化。
於第1發明至第9發明中，可動配管支持部係支持配管之中途之部分，且其朝向追隨移動部之週期性動作而週期性地變化。因此，即便移動部移動，可動配管支持部之朝向亦追隨其而變化，故而可抑制於由可動配管支持部支持之配管之部分中發生扭曲。其結果為，可抑制自吐出部吐出之處理液之流量之變動。
尤其係，於第2發明中，利用可動配管支持部之支持部位、與向吐出部之連接部位之間之區間係於鉛垂面內形成為拱形狀。因此配管變長，故而配管之失控或搖晃係由整個配管平滑化，從而可使其影響變小。藉此，可抑制自吐出部吐出之處理液之流量之變動。
尤其係，於第3發明中，配管之區間係成為向上凸起之拱形狀。因此，自連接於主掃描機構之吐出部延伸出之配管之末端向上方上升，故而即便移動部移動，亦難以於處理液在配管內逆流之方向上產生力。藉此，可抑制自吐出部吐出之處理液之流量變動。
尤其係，於第4發明中，利用可動配管支持部之支持部位、與向吐出部之連接部位之間之特定部分係由輔助移動部支持。因此，即便發生配管之搖晃或失控亦難以向吐出部傳遞，因而可抑制自吐出部吐出之塗佈液之流量之變動。
尤其係，於第5發明中，可動配管支持部係連結於輔助移動部。因此，藉由輔助移動部之驅動，可確實地使可動配管支持部之朝向變化。
尤其係，於第6發明中，利用可動配管支持部之支持部位、與向吐出部之連接部位之間之區間係於鉛垂面內形成為拱形狀。因此，配管變長，故而配管之失控或搖晃係由整個配管平滑化，從而可使其影響變小。
尤其係，於第7發明中，主掃描機構較輔助掃描機構配置於更下方。因此，連接於吐出部之配管之末端易於維持向上方上升之狀態。因此，即便移動部移動，亦難以於處理液逆流之方向上產生力，故而可抑制處理液之流量之變動。
尤其係，於第8發明中，藉由調節可動配管支持部之方向之驅動部，可動配管支持部係確實地追隨移動部而調節其朝向。
以下，一面參照隨附圖式，一面說明本發明之實施形態。以下之實施形態係將本發明具體化之一例，而非限定本發明之技術性範圍之示例。
圖1係表示本實施形態之基板處理裝置20之概略平面圖。圖2係表示基板處理裝置20之概略前視圖。圖3係圖2所示之基板處理裝置20之I-I線概略剖面圖。又，圖4係概略地記載基板處理裝置20之主要部分之配置關係之概略立體圖。
再者，於以下之說明中，表示方向及朝向時，適宜使用圖中所示之XYZ正交座標。此處，X軸及Y軸方向係表示水平方向，Z軸方向係表示鉛垂方向(+Z側為上側、-Z側為下側)。又，為便於說明，將Y軸方向設為基板之搬送方向(+Y側為下游側、-Y側為上游側)，將X軸方向設為移動部之主掃描方向(+X側、-X側)。
基板處理裝置20係相對於基板200塗佈塗佈液作為處理液之裝置。作為基板200，可想到方形之基板，例如平面顯示裝置用玻璃基板等。又，作為塗佈液，可想到能形成於基板200上之圖案等之形成材料，例如於想到有機EL顯示裝置之製造之情形時，可想到包含有機EL材料及其溶劑等之液體等。
該基板處理裝置20係主要包括：保持基板200之基板保持部30、主掃描機構40、吐出塗佈液之吐出部50、輔助掃描機構60、及支持包含可撓性樹脂管等之塗佈液配管80b之可動配管支持部100。
基板保持部30構成為能夠以大致水平姿勢保持基板200。此處，基板保持部30係包含載台32，其於特定高度位置且以朝上大致水平姿勢配設其主表面。並且，以使基板200之主表面抵接於載台32之朝上主表面之方式將基板200載置於載台32上，藉此構成為基板200能夠以固定位置及姿勢被保持。除此以外，基板保持部亦可構成為藉由固持基板周圍而保持該基板。
又，於基板保持部30之下方，設置有使基板200相對於吐出部50沿Y方向(副掃描方向)進行相對移動之基板移動機構34。此處，基板移動機構34係包含於上方支持載台32之台部36、與一對滑動支持通孔37。滑動支持通孔37構成為設置於台部36之下端部，且於沿Y方向延伸之一對副掃描方向導引部39上可滑動移動。並且，構成為藉由接受來自線性馬達等基板移動驅動部(圖示省略)之驅動力，使基板移動機構34與上述載台32及基板200一併沿Y方向移動。再者，亦可構成為代替使基板200沿Y方向移動而使主掃描機構40及吐出部50相對於基板20沿Y方向移動。再者，亦可構成為上述載台32相對於基板移動機構34而繞鉛垂軸可旋轉地驅動。
主掃描機構40係包含主掃描機構導引部42、及沿主掃描機構導引部42移動之滑件44。主掃描機構導引部42係形成為於基板200之上方位置，沿相對於基板200大致平行之主掃描方向(X方向)延伸之長條狀構件。滑件44係包含可插通配置主掃描機構導引部42之內部空間之構件，且由該主掃描機構導引部42以沿X方向可移動地支持。再者，於本實施形態中，滑件44相當於移動部。移動部並不限於滑件，僅需為可沿主掃描機構導引部42移動之構件即可。
更具體而言，主掃描機構導引部42係形成為大致方棒狀構件。滑件44之外形狀係如圖4所示，形成為大致長方體狀。又，於滑件44之內部，形成有可包含間隔而包圍主掃描機構導引部42之外周面之內部空間44S。自下述之空氣供給源86經由空氣配管80a所供給之空氣之一部分係朝向滑件44之內周面吐出。藉此，滑件44係於與主掃描機構導引部42之外周面之間介有空氣層之狀態下變成沿X方向可移動地支持之狀態。其結果為，滑件44係以可高速高加速移動地、且耐久性優異之態樣被支持。
再者，此處，如圖3所示，於主掃描機構導引部42之上表面，形成有向上方開口且沿X方向延伸之凹槽43，於滑件44之上部寬度方向(Y方向)中間部，形成有與上述凹槽43相對應之寬度之狹縫45a。並且，於該狹縫45a部分，安裝有皮帶安裝托架45，於上述凹槽43內，用於驅動滑件44之驅動皮帶74係安裝於皮帶安裝托架45上。
然而，該等構成並非必需。例如，主掃描機構導引部亦可為單純之方棒狀或圓棒狀、且於滑件內形成有比該單純之方棒狀或圓棒狀大一圈之內部空間之構成。又，主掃描機構導引部亦可包含複數個棒狀構件。再者，滑件無須於相對於主掃描機構導引部而介有空氣層之狀態下自由移動地被支持。例如，滑件亦可構成為於相對於長條狀之主掃描機構導引部介隔其他低摩擦構件、滾動體等接觸之狀態下自由移動地被支持。
又，此處，於主掃描機構導引部42之上方，設置有計數器用導引部46及計數器用滑件48。
計數器用導引部46係形成為沿X方向延伸之長條棒狀構件。計數器用滑件48係包含可插通配置計數器用導引部46之內部空間之構件，且由該計數器用導引部46以沿X方向可移動地支持。
此處，計數器用導引部46係形成為大致圓棒狀，且於上述主掃描機構導引部42之上方以大致平行狀態設置有2根。又，於計數器用滑件48之內部，形成有可包含間隔而包圍各計數器用導引部46之外周面之圓孔狀內部空間48S。自下述之空氣供給源86經由空氣配管80a所供給之空氣之一部分係朝向計數器用滑件48之內周面吐出。藉此，計數器用滑件48係以使空氣層介於其與計數器用導引部46之外周面之間之狀態，成為沿X方向可移動地支持之狀態。
再者，此處，計數器用滑件相對於計數器用導引部可移動地支持之構成係與關於上述主掃描機構40所述者同樣地，可以採用各種構成。即，計數器用滑件無須如上述般於相對於計數器用導引部而介有空氣層之狀態下可自由移動地被支持。例如，計數器用滑件亦可構成為於相對於長條狀計數器用導引部介隔其他低摩擦構件、滾動體等接觸之狀態下可自由移動地被支持。
吐出部50係由上述滑件44以沿X方向可移動地支持，並且相對於基板200可吐出塗佈液地構成。此處，吐出部50係包含噴嘴支持部52與至少一個噴嘴54。於本實施形態中為便於圖示，設為設置有3個噴嘴54者。
噴嘴支持部52係包含安裝於滑件44之一側面之基端部52a、與自基端部52a之下端部朝向外方延出之噴嘴安裝板部52b。並且，複數個噴嘴54係向X方向及Y方向錯開位置，並且安裝固定於噴嘴安裝板部52b上。各噴嘴54係分別包含可吐出塗佈液之吐出口，並將該吐出口以噴嘴安裝板部52b朝下之姿勢固定於噴嘴安裝板部52b上。並且，一面使上述滑件44向X方向移動，一面自各噴嘴54吐出塗佈液，藉此將該塗佈液塗佈在載置於載台32上之基板200上。
再者，於上述滑件44之中相對於吐出部50為相反側之側部上，設置有噴嘴計數器44C。
輔助掃描機構60係包含輔助掃描機構導引部62、及沿輔助掃描機構導引部62移動之輔助滑件65。輔助掃描機構60之輔助滑件65係可追隨滑件44沿X方向移動地構成。此處，該輔助掃描機構60係較主掃描機構40設置於更上方、且較主掃描機構40設置於基板200之搬送方向更下游側。再者，輔助滑件65相當於本實施形態中之輔助移動部。輔助移動部係可沿輔助掃描機構導引部移動之構件。
輔助掃描機構導引部62係形成為於基板200之上方位置、沿X方向延伸之長條狀構件。即，輔助掃描機構導引部62係沿主掃描機構導引部42之延伸方向形成。又，輔助滑件65係包含可插通配置輔助掃描機構導引部62之內部空間之構件，且由該輔助掃描機構導引部62以沿X方向可移動地支持。雖該輔助掃描機構60係與主掃描機構40同步驅動，但關於此於下文詳述。
更具體而言，輔助掃描機構導引部62係形成為大致方棒狀之構件。輔助滑件65之外形狀係形成為大致長方體狀，於輔助滑件65內，形成有可包含間隔而包圍輔助掃描機構導引部62之外周面之內部空間64S。自下述之空氣供給源86經由空氣配管80a所供給之空氣之一部分係朝向輔助滑件65之內周面吐出。藉此，輔助滑件65係於與輔助掃描機構導引部62之外周面之間介有空氣層之狀態下變成沿X方向可移動地被支持的狀態。
再者，此處，輔助滑件65相對於輔助掃描機構導引部62可移動地支持之構成係與關於上述主掃描機構40所述者同樣地，可採用各種構成。然而，該輔助滑件無須如上述般於相對於配管支持用導引部而介有空氣層之狀態下可自由移動地被支持。例如，輔助滑件亦可構成為於相對於長條狀輔助掃描機構導引部介隔其他低摩擦構件、滾動體等接觸之狀態下可自由移動地被支持。
可動配管支持部100係設置於載台32之上方、且可根據沿X方向移動之滑件44及輔助滑件65之位置而使其方向變化之可動構件。該可動配管支持部100係包含：擺動軸61，其一端之部分61a係固定於以橫跨搬送基板200之路徑之方式設置之台部69上，並且另一端之部分61b係作為自由端自由旋轉；板狀之平板部63，其連接於擺動軸61上；支臂構件67，其自平板部63沿大致水平方向延伸出並且連接於輔助滑件65上。
平板部63係於其主表面包含下述之支持塗佈液配管80b之部分之支持機構630。該支持機構630係例如相對於平板部63套結塗佈液配管80b之帶狀套結構件、或夾子狀之夾持構件等，只要不對塗佈液配管80b之口徑產生影響，則可採用各種形態。
該平板部63之一端係連接於沿鉛垂方向配置軸心方向之擺動軸61之可動部分61b之外周面上。即，平板部63係根據擺動軸61之動作可擺動地配置，於X方向及Y方向所規定之面內可自由地使其方向變化。
支臂構件67係使與向擺動軸61之連接部分63a為相反側之平板部63之端部63b與輔助滑件65連接且具有剛性之構件。因此，當輔助滑件65沿輔助掃描機構導引部62往復移動時，平板部63及擺動軸61係經由支臂構件67而從動，且平板部63係以擺動軸61為中心繞其擺動。即，輔助掃描機構60發揮作為平板部63之驅動源之功能。
更具體而言，根據輔助掃描機構60之輔助滑件65之移動，支臂構件67係自輔助滑件65受到拉伸力或按壓力。藉由該等力之中沿X方向作用之力之成分，平板部63之朝向係追隨輔助滑件65而週期性地變化。
再者，亦可使用其他形狀之構件代替板狀之平板部63。例如棒狀之構件等，只要可支持塗佈液配管80b則關於其形狀可採用各種形態。又，平板部63與支臂構件67亦可作為具有剛性之一體物而構成。
又，根據輔助滑件65之位置，更具體而言，當輔助滑件65位於輔助掃描機構導引部62之中間部時、與當其位於輔助掃描機構導引部62之兩端部時，輔助滑件65與可動配管支持部100之距離發生變動。因此，作為支臂構件67，例如可採用自由伸縮地組合具有相互不同直徑之一對筒狀構件67a、67b之套筒構造，亦可利用縮放儀構造等。又，作為該等之替代，亦可採用於支臂構件67與輔助滑件65之連接部分、或支臂構件67與平板部63之連接部分等，可調節輔助滑件65與可動配管支持部100之間之距離之構造。藉此，根據直線移動之輔助滑件65之位置調節支臂構件67之長度。
配管80係包含空氣配管80a、及塗佈液配管80b。各配管80a、80b係於空氣或塗佈液之輸送方向上游側連接於空氣供給源86或塗佈液供給源88，並且以懸吊於本基板處理裝置20之上方之方式支持。於以下之說明中，於區別兩配管之情形時，稱為空氣配管80a或塗佈液配管80b，而於統稱之情形時有時稱為配管80。再者，於圖3中，省略空氣配管80a之記載。
空氣配管80a係導引來自空氣供給源86之空氣，且包含由具有可撓性之樹脂等之管，此處，包含2根空氣配管80a。2根空氣配管80a之一端部係分別連接於空氣供給源86上。一根空氣配管80a之另一端部係可供給空氣地連接於滑件44上，另一根空氣配管80a之另一端部係可供給空氣地連接於輔助滑件65上。一根空氣配管80a之另一端部亦可直接地固定於滑件44上，亦可經由吐出部50之固定部位而連接於滑件44上。
塗佈液配管80b係導引來自塗佈液供給源88之塗佈液，且包含具有可撓性之樹脂等之管，並設置有與噴嘴54相同數量根。各塗佈液配管80b之一端部係分別連接於塗佈液供給源88，另一端部係可供給塗佈液地分別連接於噴嘴54上。塗佈液配管80b之另一端部亦可直接地固定於吐出部50上，亦可經由向滑件44或噴嘴支持部52之固定部位而連接於噴嘴54上。
此種塗佈液配管80b係以捆紮複數根之狀態收容於塗佈液配管保護構件85中。該塗佈液配管保護構件85係包含樹脂等具有可撓性之材料，且複數根塗佈液配管80b係總括地被保持。此處，如圖3所示，塗佈液配管保護構件85係經由噴嘴支持部52之固定部位，而使各塗佈液配管80b連接於各個噴嘴54上。關於在噴嘴支持部52中固定該塗佈液配管保護構件85之機構，亦可採用與上述之平板部63中之支持機構630相同之各種形態。
較吐出部50中之固定部位或滑件44或噴嘴支持部52中之固定部位更靠塗佈液之流動方向上游側之塗佈液配管80b之一部分係由輔助滑件65之輔助滑件保持部621支持。關於該輔助滑件保持部621所包含之支持塗佈液配管80b之機構，亦可採用與上述之平板部63中之支持機構630相同之各種形態。
此處，輔助掃描機構60係較主掃描機構40位於更上方。因此，關於塗佈液配管80b係易於維持自吐出部50中之固定部位或滑件44或噴嘴支持部52中之固定部位向上方上升之狀態。
並且，較該輔助滑件65中之固定部位更靠塗佈液之流動方向上游側之塗佈液配管80b之一部分係如上所述由平板部63固定。如此，於本實施形態中，塗佈液配管80b之中途之部分係由輔助滑件65與平板部63之2個部位支持。
此處，位於由輔助滑件65支持之部分與由平板部63支持之部分之間的塗佈液配管80b之部分係保持於塗佈液配管保護構件85中，並且如圖3所示般形成為向上方凸起之拱形狀。因此，該部分中之塗佈液配管80b之長度長於輔助滑件65與平板部63之間之長度。再者，塗佈液配管80b亦可形成為向下方凸起之拱形狀。即，較理想為塗佈液配管80b之中利用可動配管支持部100之支持部位、與向吐出部50之連接部位之間之區間於鉛垂面內形成為拱形狀。
該基板處理裝置20係包含沿X方向週期性地同步驅動滑件44與輔助滑件65之掃描驅動機構70。此處，同步驅動滑件44與輔助滑件65係指，以大致相同速度及大致相同移動範圍移動驅動滑件44與輔助滑件65。此處，掃描驅動機構70係包含驅動滑件44之滑件驅動機構72、與驅動輔助滑件65之輔助滑件驅動機構76。
滑件驅動機構72係包含設置於主掃描機構導引部42之兩端部之一對滑輪體73、73、捲掛於一對滑輪體73、73上之驅動皮帶74、及可向正反兩方向旋轉驅動一個滑輪體73之馬達75。於在一對滑輪體73、73之間移動之2條路徑之驅動皮帶74之中一側(下側)，連結固定有上述滑件44之皮帶安裝托架45。又，於在一對滑輪體73、73之間移動之2條路徑之驅動皮帶74之中另一側(上側)，連結固定上述計數器用滑件48。再者，計數器用滑件48係以夾持滑件44之往復移動範圍之中央位置(通常為一對滑輪體73、73之中央位置)而配置於與滑件44大致對稱位置之方式，連結固定於驅動皮帶74上。並且，一面控制旋轉方向及旋轉速度、旋轉量等，一面旋轉驅動馬達75，藉此驅動滑件44及吐出部50沿X方向往復移動。又，此時，計數器用滑件48係一面相對於滑件44夾持一對滑輪體73、73之中央位置而保持對稱位置，一面沿X方向往復移動。
輔助滑件驅動機構76係包含設置於輔助掃描機構導引部62之兩端部之一對滑輪體77、77、捲掛於一對滑輪體77、77上之驅動皮帶78、及可向正反兩方向旋轉驅動一個滑輪體77之馬達79。於在一對滑輪體77、77之間移動之2條路徑之驅動皮帶78之中一側(下側)，連結固定有上述輔助滑件65。並且，以同步驅動上述滑件44與輔助滑件65之方式，即一面控制旋轉方向及旋轉速度、旋轉量等，一面旋轉驅動馬達79，藉此驅動輔助滑件65沿X方向往復移動。然而，於可抑制作用於通過滑件44與輔助滑件65之間之配管80的較大之拉伸力之範圍內，輔助滑件65與滑件44亦可沿X方向稍微錯開。
再者，此處，雖以藉由個別之馬達75、79驅動滑件44與輔助滑件65之例進行說明，但亦可將來自共同之馬達之旋轉驅動力藉由使用齒輪或滑輪及皮帶等之傳遞機構一分為二進行傳遞，藉此進行驅動。又，亦可藉由將滑件44與輔助滑件65連接於共同之驅動皮帶上進行同步驅動。又，驅動滑件44或輔助滑件65之機構，尤其是驅動輔助滑件65之機構並不限於上述例，除此以外，亦可使用線性馬達等各種線性致動器。
作為控制部90之硬體之構成係與一般之電腦相同。即，控制部90係將進行各種運算處理之CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)、記憶基本程式之讀出專用記憶體即ROM(Read-Only Memory，唯讀記憶體)、記憶各種資訊之自由讀寫之記憶體即RAM(random access memory，隨機存取記憶體)及控制用軟體、或記憶有資料等之磁碟、鍵盤及滑鼠等輸入部連接於匯流排線而構成。根據預先儲存於此種控制部90中之軟體程序進行基板處理裝置20之動作控制。於匯流排線中，連接有塗佈液供給源88、空氣供給源86、馬達75、79。控制部90係以自空氣供給源86供給空氣，同時開始來自塗佈液供給源88之塗佈液供給而使塗佈液自各噴嘴54吐出之狀態，以同步驅動滑件44與輔助滑件65之方式，且以進行驅動控制各馬達75、79之處理之方式構成。
於以此種方式構成之基板處理裝置20中，當滑件44及輔助滑件65沿X方向週期性地往復移動時，經由支臂構件67連結於輔助滑件65上之平板部63繞擺動軸61週期性地往復擺動。即，追隨與輔助滑件65同步驅動之滑件44而使平板部63之朝向週期性地變化。於圖1中，此時之支臂構件67之水平擺動係例示為箭頭SW及支臂構件67之另一狀態67m。
於下文中，使用圖5所示之流程圖說明使用此種基板處理裝置20之處理之流程。
首先，將於前步驟中實施處理之基板200以保持在基板保持部30之載台32上之狀態，以特定速度向基板處理裝置20搬送(步驟S1)。控制部90係用例如感測器等檢測基板200之搬送，且亦向塗佈液供給源88傳送信號，使塗佈液之供給開始(步驟S2)。
進而，控制部90係向作為主掃描機構40之驅動機構之馬達75、及作為輔助掃描機構60之驅動機構之馬達79傳送信號。接收到該信號，主掃描機構40之滑件44及輔助掃描機構60之輔助滑件65係一面沿X方向同步移動一面進行掃描移動(步驟S3)。藉由反覆週期性地進行該掃描移動，於基板200之表面上形成塗佈液之區域。
藉由該輔助掃描機構60之輔助滑件65進行掃描移動，經由連接於輔助滑件65上之支臂構件67使可動配管支持部100之平板部63擺動。即，可動配管支持部100之平板部63之朝向係追隨輔助滑件65、並且追隨與輔助滑件65同步驅動之滑件44而變化(步驟S4)。
如此，以自噴嘴54吐出塗佈液之狀態，反覆進行藉由主掃描機構40之X軸方向之主掃描與基板200之向Y軸方向之移動，藉此塗佈液向基板200之整個表面吐出。
控制部90判斷塗佈液是否塗佈於基板200之整個面上(步驟S5)，塗佈有塗佈液之基板200係藉由基板保持部30向下游步驟搬送。
如上所述，基板處理裝置20係包含可動配管支持部100，其支持塗佈液配管80b之中途之部分，並且追隨藉由主掃描之反覆進行引起之滑件44之週期性動作而使其朝向週期性地變化。即，可動配管支持部100之朝向並不維持在固定方向，而追隨滑件44之動作週期性地變化。因此，於由可動配管支持部100所支持之塗佈液配管80b之部分中可抑制扭曲發生。又，由於難以自外部向由可動配管支持部100所支持之塗佈液配管80b之部分施加力，因此易於維持初始狀態中之塗佈液配管80b之姿勢。即，難以發生塗佈液配管80b之失控。該等之結果為，可抑制自吐出部50吐出之塗佈液之流量之變動。
尤其係，於伴隨製品所使用之基板之大型化而引起基板處理裝置大型化之情形時，由於噴嘴之根數增加從而塗佈液配管之根數增加，因此可認為塗佈液配管之失控進一步增大。因此，將本發明應用於較先前更大型之基板處理裝置係更加有效。
又，基板處理裝置20係進而包含輔助掃描機構60，塗佈液配管80b之部分係由輔助掃描機構60之輔助滑件65所支持。因此，塗佈液配管80b之搖晃或失控難以向直接吐出部50傳遞。又，由於支持塗佈液配管80b之部位增加，因此塗佈液配管80b之姿勢係更加穩定。藉由該等，可抑制自吐出部50吐出之塗佈液之流量之變動。
又，可動配管支持部100係經由支臂構件67而連結於輔助滑件65。可動配管支持部100可藉由支臂構件67之驅動，確實地使其朝向變化。
又，塗佈液配管80b係於利用可動配管支持部100之支持部位、與向輔助滑件65之連接部位之間形成為向上凸起之拱形狀。因此，該部位中之塗佈液配管80b變長，故而輔助掃描機構60之搖晃係由拱形狀之塗佈液配管80b整體平滑化，從而可使其影響變小。又，由於自輔助滑件65之連接部位延伸出之塗佈液配管80b之部分801向上方上升，因此即便輔助掃描機構60之滑件44進行往復移動，亦難以於塗佈液在塗佈液配管80b內逆流之方向上產生力。藉由此等，自吐出部50吐出之塗佈液之流量之變動得以抑制。
關於塗佈液配管80b之搖晃之平滑化效果，即便利用可動配管支持部100之支持部位、與向輔助滑件65之連接部位之間之塗佈液配管80b之區間形成為向下凸起之拱形狀亦可達成。因此，於著眼於此種平滑化效果之情形時，一般而言，較佳為塗佈液配管80b(可撓性之處理液配管)中之上述區間於鉛垂面內設置為拱形狀。此處所說之拱形狀係指塗佈液配管80b長於所需最小長度(即，考慮最小之主掃描之振幅而利用可動配管支持部100之支持部分與向輔助滑件65之連接部分之間所需之最小距離)，而具有冗餘度。
又，主掃描機構40係較輔助掃描機構60配置於更下方。因此，主掃描機構40所包含之連接於吐出部50之塗佈液配管80b之末端802係易於維持向上方上升之狀態。因此，即便主掃描機構40所包含之滑件44進行往復移動塗佈液亦難以於逆流方向上產生力，從而可抑制塗佈液之流量變動。 <變形例>
以下，說明各種變形例。
首先，於上述實施形態中，塗佈液配管80b中由可動配管支持部100支持之部位、與向吐出部50之連接部位之間之區間形成為向上凸起拱形狀，但並不限定於此種形態。於圖6中表示由可動配管支持部100支持之部位、與向吐出部50之連接部位之間之區間沿支臂構件67配設之形態。如圖6所示，該區間中之塗佈液配管80b亦可沿支臂構件67之延出方向，以與支臂構件67相接之方式配設。又，除此以外，塗佈液配管80b亦可為纏繞於支臂構件67周圍之構成。於該等情形時，因上述區間中之塗佈液配管80b係由支臂構件67確實地得到支持，故該區間中之塗佈液配管80b之搖晃或失控係確實地得以抑制。藉此，可抑制自吐出部50吐出之塗佈液之流量變動。
又，於上述實施形態中，雖輔助掃描機構60係包含驅動機構，但未必限定於此種形態。輔助掃描機構60之輔助滑件65亦可為藉由主掃描機構40之滑件44利用驅動機構驅動而進行動作、往復移動之機構。即，主掃描機構40亦可為使輔助掃描機構60與可動配管支持部100從動之形態。
又，可動配管支持部100並不限於從動於輔助掃描機構60或主掃描機構40之形態。可動配管支持部100亦可包含例如馬達等驅動機構。於可動配管支持部100本身包含調節其朝向之驅動機構之情形時，可動配管支持部100之朝向可確實地追隨滑件44及輔助滑件65而週期性地變化。
又，於可動配管支持部包含驅動機構之情形時，可動配管支持部亦可為以旋轉馬達、與包含連接於旋轉馬達上之連桿機構之支臂構件構成之形態。於該情形時，包含連桿機構之支臂構件自旋轉馬達受到旋轉驅動力，從而使連接於包含連桿機構之支臂構件上之輔助滑件及滑件進行直線運動。
又，於圖7中，表示有於平板部63與輔助滑件65之間未設置支臂構件67之狀態之基板處理裝置的主要部分之配置關係。圖7中所示之可動配管支持部100b不包含支臂構件67。亦可為此種形態。於該情形時，較理想為設置有用於使可動配管支持部100b之平板部63之朝向變化之驅動機構，例如馬達68。馬達68係藉由控制部90控制，控制部90係以平板部63之朝向追隨往復移動之滑件44及輔助滑件65而週期性地變化之方式，使馬達68驅動而使擺動軸61之可動部分61b擺動。
如此，於可動配管支持部100本身包含調節其方向之驅動機構之情形時，可確實地使可動配管支持部100之朝向追隨滑件44及輔助滑件65而週期性地變化。
再者，可動配管支持部100b並非必須包含驅動機構。亦可為根據輔助滑件65之移動，藉由塗佈液配管80b拉伸可動配管支持部100b而使可動配管支持部100b之朝向變化之形態。
又，基板處理裝置20並非必須包含輔助掃描機構60。即，亦可為將主掃描機構40、可動配管支持部100c設為主要構成之基板處理裝置。
於圖8中，概略地記載有於該情形時之主要部分之配置關係。平板部63之朝向係追隨主掃描機構40之滑件44之往復移動而週期性地變化。此處，可動配管支持部100c係包含馬達68作為驅動機構。再者，較理想為如上所述塗佈液配管80b係於可動配管支持部100c、與吐出部50之間之區間形成為拱形狀。更理想為，該區間係設為向上凸起之拱形狀。其原因與圖1~圖4中所示之關於實施形態所述之原因相同。又，可動配管支持部100c亦可為包含支臂構件之形態。即，可動配管支持部100c亦可連接於滑件44上。
一般而言，本發明可應用於不僅賦予塗佈液、且向大致水平姿勢之基板供給處理液之基板處理裝置及處理液賦予方法。
20‧‧‧基板處理裝置
30‧‧‧基板保持部
32‧‧‧載台
34‧‧‧移動機構
36‧‧‧台部
37‧‧‧滑動支持通孔
39‧‧‧導引部
40‧‧‧主掃描機構
42‧‧‧主掃描機構導引部
43‧‧‧凹槽
44‧‧‧滑件
44C‧‧‧噴嘴計數器
44S‧‧‧滑件之內部空間
45‧‧‧皮帶安裝托架
45a‧‧‧狹縫
46‧‧‧計數器用導引部
48‧‧‧計數器用滑件
48S‧‧‧計數器用滑件之內部空間
50‧‧‧吐出部
52‧‧‧噴嘴支持部
52a‧‧‧基端部
52b‧‧‧噴嘴安裝板部
54‧‧‧噴嘴
60‧‧‧輔助掃描機構
61‧‧‧擺動軸
61a‧‧‧擺動軸固定端
61b‧‧‧擺動軸自由端
62‧‧‧輔助掃描機構導引部
63‧‧‧平板部
63a‧‧‧與擺動軸之連接部分
63b‧‧‧平板部之端部
64S‧‧‧輔助滑件之內部空間
65‧‧‧輔助滑件
67‧‧‧支臂構件
67a‧‧‧筒狀構件
67b‧‧‧筒狀構件
67m‧‧‧支臂構件之另一狀態
68‧‧‧馬達
69‧‧‧台部
70‧‧‧掃描驅動機構
72‧‧‧滑件驅動機構
73‧‧‧滑輪體
74‧‧‧驅動皮帶
75‧‧‧馬達
76‧‧‧輔助滑件驅動機構
77‧‧‧滑輪體
78‧‧‧驅動皮帶
79‧‧‧馬達
80‧‧‧配管
80a‧‧‧空氣配管
80b‧‧‧塗佈液配管
85‧‧‧塗佈液配管保護構件
86‧‧‧空氣供給源
88‧‧‧塗佈液供給源
90‧‧‧控制部
100‧‧‧可動配管支持部
100c‧‧‧可動配管支持部
200‧‧‧基板
621‧‧‧輔助滑件保持部
630‧‧‧支持機構
801‧‧‧塗佈液配管之中途部分
802‧‧‧塗佈液配管之末端
圖1係表示實施形態之基板處理裝置之概略平面圖。
圖2係表示同上之基板處理裝置之概略前視圖。
圖3係圖2中之I-I線概略剖面圖。
圖4係表示實施形態之基板處理裝置之主要構成要素之配置關係之概略立體圖。
圖5係表示處理之流程之流程圖。
圖6係表示變形例之基板處理裝置之主要構成要素之配置關係的概略立體圖。
圖7係表示變形例之基板處理裝置之主要構成要素之配置關係的概略立體圖。
圖8係表示變形例之基板處理裝置之主要構成要素之配置關係的概略立體圖。
20‧‧‧基板處理裝置
32‧‧‧載台
40‧‧‧主掃描機構
42‧‧‧主掃描機構導引部
43‧‧‧凹槽
44‧‧‧滑件
44C‧‧‧噴嘴計數器
44S‧‧‧滑件之內部空間
45‧‧‧皮帶安裝托架
45a‧‧‧狹縫
46‧‧‧計數器用導引部
48‧‧‧計數器用滑件
48S‧‧‧計數器用滑件之內部空間
50‧‧‧吐出部
52‧‧‧噴嘴支持部
52a‧‧‧基端部
52b‧‧‧噴嘴安裝板部
54‧‧‧噴嘴
60‧‧‧輔助掃描機構
61‧‧‧擺動軸
61a‧‧‧擺動軸固定端
61b‧‧‧擺動軸自由端
62‧‧‧輔助掃描機構導引部
63‧‧‧平板部
63a‧‧‧與擺動軸之連接部分
63b‧‧‧平板部之端部
64S‧‧‧輔助滑件之內部空間
65‧‧‧輔助滑件
67‧‧‧支臂構件
67a‧‧‧筒狀構件
67b‧‧‧筒狀構件
69‧‧‧台部
74‧‧‧驅動皮帶
78‧‧‧驅動皮帶
80b‧‧‧塗佈液配管
85‧‧‧塗佈液配管保護構件
100‧‧‧可動配管支持部
200‧‧‧基板
621‧‧‧輔助滑件保持部
630‧‧‧支持機構
801‧‧‧塗佈液配管之中途部分
802‧‧‧塗佈液配管之末端

权利要求:
Claims (9)
[1] 一種基板處理裝置，其包含：基板保持部，其大致水平地保持基板；主掃描機構，其包含沿相對於上述基板大致平行之主掃描方向延伸之導引部、及由上述導引部以沿上述主掃描方向可移動地支持之移動部；吐出部，其由上述移動部以沿上述主掃描方向可移動地支持，並向上述基板吐出處理液；可撓性之配管，其連接於上述吐出部並且向上述吐出部導引處理液；及可動配管支持部，其支持上述配管之中途之部分，且其朝向追隨藉由主掃描之反覆進行引起之上述移動部之週期性動作而週期性地變化。
[2] 如請求項1之基板處理裝置，其中上述配管中由上述可動配管支持部支持之部位、與向上述吐出部之連接部位之間之區間係於鉛垂面內形成為拱形狀。
[3] 如請求項2之基板處理裝置，其中上述配管之上述區間係成為向上凸起之拱形狀。
[4] 如請求項1之基板處理裝置，其進而包括輔助掃描機構，該輔助掃描機構包含沿上述導引部延伸之輔助導引部、及由上述輔助導引部以沿上述主掃描方向可移動地支持之輔助移動部；上述配管中由上述可動配管支持部支持之部位、與向上述吐出部之連接部位之間之特定部分係由上述輔助移動部支持。
[5] 如請求項4之基板處理裝置，其中上述可動配管支持部係連結於上述輔助移動部。
[6] 如請求項4之基板處理裝置，其中上述配管中由上述可動配管支持部支持之部位、與向上述吐出部之連接部位之間之區間係於鉛垂面內形成為拱形狀。
[7] 如請求項4之基板處理裝置，其中上述主掃描機構係較上述輔助掃描機構配置於更下方。
[8] 如請求項1至7中任一項之基板處理裝置，其進而包含調節上述可動配管支持部之朝向之驅動部。
[9] 一種處理液賦予方法，其包含如下步驟：大致水平地保持基板；一面自吐出部吐出處理液，一面使支持上述吐出部之移動部沿主掃描方向於基板上週期性地進行掃描移動；使支持向上述吐出部導引上述處理液之可撓性配管之中途部分的可動配管支持部之朝向追隨進行掃描移動之上述移動部而週期性地變化。

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2019-08-21| MM4A| Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees|

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