• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    本發明係有關於一種抗反射塗膜組成物，該組成物可經由單一塗佈程序形成至少兩膜層，且可提供一種於形成的薄膜之間具有更佳之界面黏著性及抗刮性之抗反射塗膜，以及關於一種使用該抗反射塗膜組成物所製造之抗反射塗膜。
    公开号:TW201311836A
    申请号:TW101121789
    申请日:2012-06-18
    公开日:2013-03-16
    发明作者:Heon Kim；Yeong-Rae Chang；Joon-Koo Kang；Jae-Pil Koo
    申请人:Lg Chemical Ltd；
    IPC主号:C09D5-00
    专利说明:
    抗反射塗膜組成物及抗反射塗膜
    本發明係關於一種抗反射塗膜組成物，以及使用其所製造之一種抗反射塗膜。
    一般而言，抗反射塗膜(抗眩光膜)係設置以減少於顯示器(如平面電漿顯示器(PDP)、陰極射線管(CRT)與液晶顯示器(LCD))螢幕上之外部光源之反射。
    通常以設置一抗反射層於一透明基板上而形成習知抗反射塗膜。於此，最為廣泛使用之抗反射塗膜具有一三層硬塗層結構，與高折射率及低折射率層依序堆疊於透明基板上。近來，為了簡化製程，從抗反射塗膜中省略硬塗層或高折射率層之雙層結構係已開始商業化。為了提供抗眩光以及抗刮性，亦開始採用具有抗反射塗膜之抗眩光硬塗層。
    同時，該抗反射塗膜通常係使用乾式法或濕式法製造，該方法中，乾式法係為利用沉積或濺鍍方式堆疊複數個薄層。此方法於膜界面間提供較佳之黏著性，但需要較高的生產成本，限制了在商業上的利用性。
    相反的，濕式法係為將一含有黏著劑以及溶劑等等的組成物塗佈於一基材上，再乾燥以及固化形成，此法的成本較乾式法便宜，因此在商業上廣泛的被應用。然而，在溼式法中，形成硬塗層、高折射率層及低折射率層所需之組成物應各自獨立製備，且利用該組成物依序形成各個膜層，因此，生產的過程變得複雜，薄膜介面間的貼附性質也較弱。
    基於這個原因，許多研究皆積極的發展抗反射塗膜組成物，係可於單一濕式塗佈過程中形成二層或以上的薄膜。然而，使用該組成物的生產過程中，仍然具有相分離等等的問題存在，從而使各個層的功能劣化。
    另外，硬塗層或具高折射率之薄膜通常做為黏著劑或是包含黏著劑以及無機奈米顆粒之分隔膜，而形成於基材上，且具分散中空粒子之低折射率薄膜在形成於其上。然而，具有此種結構之抗反射塗膜，由於薄膜介面的貼附力較弱，因此仍然具有低耐久性的問題。
    本發明提供了一種組成物，該組成物可提供一種具有提高介面貼附性質以及抗刮性之抗反射塗膜，而該組成物可經由單一塗佈程序形成至少兩層薄膜。
    此外，本發明提供了使用該組成物製造之抗反射塗膜。
    根據本發明之一實施例，其提供一種抗反射塗膜組成物，包括：具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物；具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物，第二分子量係高於第一分子量；無機奈米顆粒；以及中空粒子。
    其中，第一分子量係約小於600，且第二分子量係約為600至100,000。此抗反射塗膜組成物可更包括光起始劑以及/或溶劑。
    例如，以100重量份之該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物為計，上述之組成物可包括：約5至30重量份之具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物；約5至30重量份之無機奈米顆粒；約1至30重量份之中空粒子；約5至25重量份之光起始劑；以及約100至500重量份之溶劑。
    其中，具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可為一或以上之化合物，係選自季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三亞甲基丙基三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、9,9-雙[4-(2-丙稀醯氧基乙氧基)苯基]芴、雙(4-甲基丙烯酰基硫代苯基)硫醚、以及雙(4-乙烯噻吩基)硫醚所組成之群組。
    實施例之一之抗反射塗膜組成物，更包括一氟類(甲基)丙烯酸酯化合物，其係被一或以上之氟原子取代。
    具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可包括藉由交聯劑連結二或以上之具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物分子，且交聯劑可包括聚氨酯鍵、硫醚鍵、醚鍵、或酯鍵。此外，具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可包含一或以上之取代基，該取代基係選自由環氧基、羥基、羧基、硫醇基、芳香基、或具有六個或以上碳原子之脂肪羥基、以及異氰酸酯基所組成之群組。
    實施例之一組成物中，溶劑係具有20至30之介電常數(25℃)，以及1.7至2.8之偶極矩。
    此外，無機奈米顆粒可具有5至50 nm之平均直徑，且可例如為矽無機奈米顆粒。
    另外，中空粒子中空粒子可具有5至80 nm之平均直徑，且可例如為矽中空粒子。
    同時，根據本發明之另一實施例，係提供一種抗反射塗膜，包括：第一膜層，其包括具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物以及無機奈米顆粒之交聯聚合物，且滲入於基材中；以及第二膜層，其包括具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物與具有一第二分子量一(甲基)丙烯酸酯類化合物之交聯共聚物，第二分子量係大於第一分子量；以及中空粒子於交聯共聚物中，且第二膜層覆蓋第一膜層。
    在此方面，該第一膜層更包括該具有該第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物與該具有該第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之該交聯共聚物，且第二膜層更包括無機奈米顆粒。
    根據本發明之抗反射塗膜組成物，可經由單一塗佈程序，同時形成至少兩層薄膜，從而提供具有較佳介面貼附性質以及抗刮性之抗反射塗膜。
    根據下列本發明實施例之抗反射塗膜組成物，將參照附圖來描述。
    再者，除非另有說明，此處所使用之若干用語定義如下。
    首先，該用語「無機奈米顆粒」係指由各種無機材料產生的顆粒，且包括具有100 nm或以下之平均粒徑。這些無機奈米顆粒可為實質上非晶相之顆粒，且其中不具有孔洞。例如，「矽膠奈米顆粒」為由一矽化物或有機矽化物所產生之顆粒，且所指之矽化物顆粒或有機矽化物顆粒具有100奈米或以下之數目平均粒徑，並且其中並無孔洞。
    此外，該用語「中空粒子」係指一有機或無機顆粒於其表面上及/或其中具有一孔洞。舉例來說，該用語「中空矽粒子」係指一矽膠顆粒，其係由一矽化物或有機矽化物所產生，且於該矽膠顆粒之表面上及/或內部具有一孔洞。
    另外，其用語「(甲基)丙烯酸酯」係被定義為包括丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯。用語「(甲基)丙烯酸酯」也可被定義為不具有含氟取代基之化合物，並且，為了區別兩者，具有含氟取代基之化合物係被稱作氟類(甲基)丙烯酸酯。
    此外，該用語「塗層」係指經由於一預定之基材膜上施加(塗佈)後述之抗反射塗膜組成物後形成之組成物薄膜。
    再者，「相分離」之用語係指因該組成物之密度、表面張力、或其他物理性質之差異，於包含於組成中之特定成分之分佈中形成差異。於此，當該塗層之相分離發生時，根據一特定成分之分佈，如中空顆粒之分佈，可區分成至少兩層。
    另外，「滲入基板」之用語係指用以形成抗反射塗膜之任何一膜層之成分(例如，用來形成對應層之黏著劑，以及無機奈米顆粒等之(甲基)丙烯酸酯類化合物)滲入基板，以形成對應層。舉例來說，滲入基板內的成分於基板內進行乾燥以及固化，以於對應基板之區域形成一特定的層。相反的，「任何形成於基板上之膜層」之用語係指形成相對應層之成分基本上不滲入於基板中，而是在基板上乾燥以及固化，並形成與基板間的介面，從而形成與基板不具有重疊區域之一特定的膜層。
    此外，「任何膜層(例如後述一實施例中之第二膜層)覆蓋其他膜層(例如後述一實施例中之第一膜層)」之用語係指兩層之間基本上並無明顯的膜層。例如，後述一實施例中之抗反射塗膜，「該包含中空粒子之第二膜層覆蓋滲入基板之第一膜層」係指滲入基板之第一膜層以及包含中空粒子之第二膜層之間沒有分離層，例如，並無不滲入基板且不含有中空顆粒之分離層。舉例來說，在一實施例中，一分離層僅包含黏著劑(例如，由(甲基)丙烯酸酯類化合物交聯後的聚合物)和/或無機奈米顆粒，且無滲入基板中，並不存在滲入基板之第一膜層以及包含中空粒子之第二膜層。
    同時，發明人研究了抗反射塗膜組成物，結果發現當至少兩種具有不同分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物，經互相混合，且作為黏著劑組成物使用時，可適當的誘導該組成物自發的相分離現象，且可製造出具有較佳表面貼附性質、抗刮性、以及抗反射效果之該抗反射塗膜，從而完成本發明。
    根據本發明之實施例，係提供一抗反射塗膜組成物包括具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物、具有大於第一分子量之第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物、無機奈米顆粒、以及中空粒子。
    在下文中，上述所包括的組成物將被更詳細的描述。
    具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物
    首先，實施例中之組成物可包括具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物，若實施例中之該組成物係應用於任一基板上，至少一部分之該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可滲入至基板內。
    滲入至基板內之該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物係單獨聚合或是與後述之具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物共聚合，而形成對應該滲入區域之第一膜層之黏著劑。
    具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之一部分可能會滲入至基板內，與後述之具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物共聚合以形成其他覆蓋該滲入之區域之第一膜層之黏著劑。
    為了充分將該第一(甲基)丙烯酸酯類之化合物滲入該基板中，並且形成該第一膜層之黏著劑，以做為該抗反射塗膜之硬塗層，該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之分子量可為約600或以下、約500或以下、或約400或以下，並且於其他實施例中，其分子量可為約50或以上、或約100或以上。
    於實施例中，為了形成該滲入基板之第一膜層並且呈現較高的折射率(如：硬塗層及/或高折射率層)，該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可具有如硫、氯或金屬、或一苯基等的取代基。
    該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可包括一化合物係選自由季戊四醇三甲基丙烯酸酯(pentaerythritol tri(meth)acrylate)、季戊四醇四甲基丙烯酸酯(pentaerythritol tetra(meth)acrylate)、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯(dipentaerythritol hexa(meth)acrylate)、三甲醇基丙烷三甲基丙稀酸脂(trimethylenepropane tri(meth)acrylate)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(ethylene glycol di(meth)acrylate)、9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴(9,9-bis[4-(2-acryloxyethoxy)phenyl]fluorene，折射率：1.62)、雙(4-甲基丙烯醯基硫代苯基)硫醚(bis(4-methacryloxythiophenyl)sulfide，折射率：1.689)、雙(4-(乙烯基硫基)苯基)硫烷(bis(4-vinylthiophenyl)sulfide，折射率：1.695)，或其兩個或以上之混合物所組成之群組。
    具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物
    同時，於一實施例中之組成物可包括具有該第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物，其分子量係高於第一分子量。當塗佈包括此具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之組成物於基板上時，相較於前述之具有第一分子量之化合物，其可滲入該基板之含量係相對較小，且因其高分子量及整體化學結構，其剩餘部分可留在基板上。
    因此，該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物滲入該基板之深度並不會相同於前述具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物。因此，該基板之滲入區域可分為下列兩個區域。首先，於僅有具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物滲入之區域中或於其滲入深度之區域中，可存在由該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之交聯聚合物所形成之一黏著劑。於被具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物滲入之其他區域中，可存在該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物及具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之交聯聚合物以作為該黏著劑。
    剩餘不滲入該基板之具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可與前述之具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物共聚合，以形成其他膜層(如：抗反射塗膜之低折射率層)之黏著劑，且覆蓋於作為基板內之滲入層。因此，作為抗反射塗膜之硬塗層，以及覆蓋於其上之低折射率層兩者之間的界面黏著性得以增加，低折射率層之抗刮性亦得以提高，且可更緊密地分散包含於低折射率層中的中空粒子。
    該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物係為一其具有高於前述之具有第一分子量化合物之分子量，以及一龐大的結構之化合物。例如，其可具有一分子量約為400或以上、約為500或以上、或約為600或以上。於其他實施例中，其可具有分子量約為100,000或以下、約為80,000或以下、或約為50,000或以下。
    對於其高分子量及龐大的結構，該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可包括一化合物，其具有藉由一交聯劑連接而具有二或多個該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物之結構。於此，該交聯劑可為任何已知用以連接該(甲基)丙烯酸酯類化合物之化學鍵結，且例如，二價或高價數之自由基，包括氨基甲酸乙酯(urethane)鍵、硫醚(thioether)鍵、醚(ether)鍵，或酯(ester)鍵。
    關於較龐大的結構，該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物也可具有一或多個取代基，其係選自由環氧基(epoxy group)、羥基(hydroxyl group)、羧基(carboxyl group)、硫醇基(thiol group)、具有6個或以上碳原子之芳香族(aromatic)或脂肪族(aliphatic)羥基，以及異氰酸酯基(isocyanate)所組成之群組。
    該具有第二(甲基)丙烯酸酯類化合物可為一滿足前述條件之市售產品或直接合成。市售產品的例子可包括UA-306T、UA-306I、UA-306H、UA-510T、UA-510I，及UA-510H(KYOEISHA公司產品)；BPZA-66及BPZA-100(KYOEISHA公司產品)；EB9260及EB9970(BAEYER公司產品)；以及Miramer SP1107與Miramer SP1114(MIWON公司產品)。
    上述之具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可包含於該抗反射塗膜組成物中，以該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物為100重量份計，其係約為5至30重量份，或約為5至25重量份，或約為5至20重量份。考量該膜層之物理性質之最佳化或中空粒子分佈之改變，並根據其過量添加，以及藉由使用該含有黏著劑組成物以達到最小的效果，可決定該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之含量。
    氟類(甲基)丙烯酸酯化合物
    與此同時，前述抗反射塗膜組成物可更包括以一個或多個氟原子取代之氟類(甲基)丙烯酸酯化合物作為黏著劑組成物。由於含有包含氟之取代基之氟類(甲基)丙烯酸酯化合物的存在，當將該組成物塗佈於基板時，氟類(甲基)丙烯酸酯化合物不會滲入基板。由於含有包含氟之取代基之氟類(甲基)丙烯酸酯化合物的存在，於一實施例中，當將該組成物塗佈於基板射，氟類(甲基)丙烯酸酯化合物不會滲入基板。因此，該氟類(甲基)丙烯酸酯化合物可與前述之具有第一及第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物一同形成作為抗反射塗膜低折射率層之黏著劑。該氟類(甲基)丙烯酸酯化合物呈現一較低的折射率，從而降低低折射率層之折射率，且因極性官能基而與後述中空粒子呈現優異的相容性，並且也提高該低折射率層之抗刮性。
    該氟類(甲基)丙烯酸酯化合物具有一結構，該結構係將一個或多個含氟之取代基連接至任何(甲基)丙烯酸酯類化合物，且該氟類(甲基)丙烯酸酯化合物之例子可為一個或多個選自由下列化學式1至5之化合物所組成之群組：
    其中，R1係為一氫基或一具有1至6個碳原子之烷基，a係為一介於0至7之整數，以及b係為一介於1至3之整數；
    其中，c係為一介於1至10之整數；
    其中，d係為一介於1至11之整數；
    其中，e係為一介於1至5之整數；
    其中，f係為一介於4至10之整數。
    在此，該氟類(甲基)丙基酸酯化合物可包括於該抗反射塗膜組成物中，以前述具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物為100重量份計，其含量係約為0.5至20重量份、約為5至18重量份、或約為10至16重量份。
    該氟類(甲基)丙烯酸酯化合物可為滿足上述條件之市售產品。市售產品的例子可包括OPTOOL AR110(DAIKIN公司製造)、LINC-3A與LINC-102A(KYOEISHA製造)、PFOA(Exfluor製造)，以及OP-38Z(DIC製造)。
    無機奈米顆粒
    於此同時，無機奈米顆粒可包括於該抗反射塗膜組成物中。
    當將該組成物塗佈於基板上時，一部分的無機奈米顆粒可與前述兩個或多個黏著劑組成物一同滲入並分散於基板中。未滲入基板中之其剩餘部分係分散於低折射率層中，並有助於改善抗刮性與抗反射效果。
    於一實施例中，該無機奈米顆粒可為由各種無機材料產生之顆粒，且具有奈米尺寸之數均粒徑。
    該些無機奈米顆粒可具有一數均粒徑，例如，約100奈米或以下、約5至50奈米、或約5至20奈米。為了控制該塗層之透光性、折射率以及抗刮性，無機奈米顆粒之粒徑應控制於上述範圍內。
    再者，為了提高於基板上塗層的透光性，可使用由矽化合物或有機矽化合物產生之矽膠奈米顆粒作為無機奈米顆粒。
    包括於該抗反射塗膜組成物中之無機奈米顆粒含量可為，例如，以前述具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物為100重量份計，約5至30重量份、約5至25重量份、或約5至20重量份。在考量根據基板的類型無機奈米顆粒滲入含量下，以及根據藉由反射率增加所造成之抗反射效果的降低，無機奈米顆粒之含量可控制於上述範圍中，其中上述反射率增加係導因於無機奈米顆粒的過量添加與最小效果。
    於此同時，該無機奈米顆粒可分散於預定之分散介質中，且可包括於一具有固體含量約5至40 wt%之溶膠中。於此，使用作為分散介質之有機溶劑的例子可包括醇，如甲醇(methanol)、異丙醇(isopropyl alcohol，IPA)、乙二醇(ethylene glycol)，及丁醇(butanol)；酮類，如甲基乙基酮(methyl ethyl ketone，MEK)及甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone，MIBK)；芳烴類(aromatic hydrocarbons)，如甲苯(toluene)及二甲苯(xylene)；醯胺類(amides)，如二甲基甲醯胺(dimethyl formamide)、二甲基乙醯胺(dimethyl acetamide)，及N-甲基吡咯烷酮(N-methyl pyrrolidone)；酯類(esters)，如乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)，及γ-丁內酯(γ-butyrolactone)；醚類(ethers)，如四氫呋喃(tetrahydrofuran)與1,4-二氧六環(1,4-dioxane)；或其混合物。
    根據實施例，市售之矽膠溶膠可使用作為該無機顆粒，例如：Nissan化學公司製造的MEK-ST、MIBK-ST、MIBK-SD、MIBK-SD-L、MEK-AC、DMAC-ST，及EG-ST；Gaematech公司製造的Purisol。
    中空粒子
    在此，中空粒子可更包括於該抗反射塗膜組成物中。這些中空粒子係指顆粒於顆粒表面及/或內部具有孔洞，且為一種達到低折射率及抗反射效果之成分。
    當將實施例之一之組成物塗佈於基板上時，這些中空粒子實質上並不分佈於作為抗反射塗膜之硬塗層之滲入層，而是分佈於於覆蓋於該滲入層之膜層中，亦即，分佈於抗反射塗膜中作為低折射率之層中。於此，該中空粒子「實質上並不分佈於(包括)」於該滲入層中，意指於作為基板中之滲入層中，以中空粒子之總重為計，中空粒子之含量，係約5 wt%或以下、約3 wt%或以下、或約1 wt%或以下。
    在此同時，於一實施例之組成物中，係包括該預定溶劑，與前述黏著劑組成物等，且因此，會發生自發性相分離以形成該抗反射塗膜。此時，當相分離發生時，由於密度差異或中空粒子與其他成分間之表面能差異，該中空粒子實質上並不分佈於滲入層中，而是緊密地分佈於基板上作為低折射率層中。因此，其可能形成表現出更好之膜強度、抗刮性及抗反射性的該抗反射塗膜。
    中空粒子的材料並不特別限制，只要其係於顆粒表面及/或內部具有孔洞的顆粒形式即可。於一實施例中，為了提供該低折射率層透光性及/或低折射率，可使用由矽化合物或有機矽化合物產生之中空矽膠顆粒。
    於此，中空粒子之粒徑可決定於保持膜透光度及顯示抗反射效果的範圍之內。例如，中空粒子可具有數均粒徑約為5至80奈米、約10至75奈米、或約20至70奈米。
    該中空粒子可包括於該抗反射塗膜組成物中，以前述之具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物為100重量份計，其含量約1至30重量份、約1至25重量份、或約5至20重量份。為了達到中空粒子之最低效果以及藉由相分離形成其較佳的分佈，該中空粒子之含量可控制於上述範圍中。
    再者，該中空粒子可分散於該分散介質(水或有機溶劑)中，並且以具有固體含量約5至40 wt%的膠體形式包括於其中。在此，可使用作為分散介質之有機溶劑的例子可包括醇類，如甲醇(methanol)、異丙醇(isopropyl alcohol，IPA)、乙二醇(ethylene glycol)，及丁醇(butanol)；酮類，如甲基乙基酮(methyl ethyl ketone，MEK)及甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone，MIBK)；芳烴類(aromatic hydrocarbons)，如甲苯(toluene)及二甲苯(xylene)；醯胺類(amides)，如二甲基甲醯胺(dimethyl formamide)、二甲基乙醯胺(dimethyl acetamide)，及N-甲基吡咯烷酮(N-methyl pyrrolidone)；酯類(esters)，如乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)，及γ-丁內酯(γ-butyrolactone)；醚類(ethers)，如四氫呋喃(tetrahydrofuran)與1,4-二氧六環(1,4-dioxane)；或其混合物。
    溶劑
    於一實施例中，前述之組成物中更可包括溶劑。該溶劑係用以控制該黏著劑組成物滲入該基板中、相分離、以及中空粒子之分佈圖案，並將該組成物之黏度控制於適當範圍中。
    為了達成上述效果，該溶劑可為一具有介電常數(25℃)為20至30之溶劑，且其偶極矩係為1.7至2.8。能夠滿足這些物理性質之溶劑例子可包括：甲基乙基酮(methyl ethyl ketone)、乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙醯丙酮(acetyl acetone)或其類似物，及任何能夠滿足該物理性質之溶劑也可使用。根據一實施例，其他溶劑也可與能夠滿足該物理性質之溶劑混合。可混合之溶劑例子可包括：異丁基酮(isobutyl ketone)、甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、正丁醇(n-butanol)、異丁醇(i-butanol)、叔丁醇(t-butanol)，或其類似物。然而，關於適當相分離的部分，滿足該介電常數及偶極矩範圍之溶劑的含量基於包含該組成物之溶劑總重，較佳約為60 wt%或以上。
    於一實施例之組成物中，以前述之具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物為100重量為計，該溶劑的含量可為，例如，約100至500重量份、約100製450重量份、或約100至400重量份。若該組成物於塗佈時，呈現差的流動性，可能會於塗層上產生如條紋之缺陷。為了提供該組成所需之最小流動性，可包括預定含量或預定含量以上之該溶劑。當添加過量之該溶劑，其固體含量會變得過低，因此，可能會於乾燥及固化時產生缺陷，且該中空粒子之分佈可能會偏離較佳範圍。
    光起始劑
    在此同時，於一實施例中，前樹脂組成物更可包括光起始劑。該光起始劑係為一可藉由如紫外光之能量射線活化之化合物，從而誘發該黏著劑組成物之聚合反應。可使用本領域中常用之典型化合物。
    光起始劑的例子可包括1-烴基環己苯基甲酮(1-hydroxy cyclohexylphenyl ketone)、二甲基苄基酮(benzyl dimethyl ketal)、烴基二甲基苯乙酮(hydroxy dimethyl acetophenone)、安息香(benzoin)、安息香甲醚(benzoin methyl ether)、安息香乙醚(benzoin ethyl ether)、安息香異丙醚(benzoin isopropyl ether)，或安息香丁醚(benzoin butyl ether)，以及其他各種光起始劑。
    此時，以100該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物為100重量份計，光起始劑之含量可例如為，約5至25重量份、約5至20重量份、或約5至15重量份。為充分聚合該黏著劑組成物，可包括該預定含量或預定含量以上之該光起始。當添加過量之光起始劑時，可能會降低組成該抗反射塗膜之每一膜層之機械性質，如抗刮性或抗摩擦性。
    同時，根據本發明之另一實施例中，使用上述之組成物可製造出一抗反射塗膜。例如，該抗反射塗膜係包括第一膜層，該第一膜層係包括具有交聯之第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物以及無機奈米顆粒於一交聯聚合物中，且滲入基板中；以及第二膜層，該第二膜層係包括具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物與具有第二分子量(高於第一分子量)之(甲基)丙烯酸類化合物之交聯聚合物，以及一中空粒子於一交聯之共聚物中，且覆蓋第一膜層。
    於抗反射塗膜中，該第一膜層係滲入基板中並做為抗反射塗膜中之硬塗層，以及作為折射率約為1.5或以上之高折射率層。該硬塗層可包括滲入基板之該具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物交聯而成之聚合物之黏著劑，且無機奈米顆粒係於該黏著劑中。
    此外，全部或大部分(如：約97 wt%或以上，或約99 wt%或以上)之中空粒子實質上係分佈於該第二膜層，從而使其作為抗反射塗膜之低折射率層。此低折射率層顯示一約1.45或以下之低折射率，從而呈現適當的抗反射效果。
    在抗反射塗膜中，於該第一膜層中之硬塗層更可包括具有作為黏著劑之第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物與具有第二分子量之(甲基)丙烯酸類化合物交聯之共聚物。該第二膜層係可作為包括無機奈米顆粒之低反射率層。
    圖1係為一示意圖，顯示根據一實施例之抗反射塗膜。參照圖1，於使用一實施例之組成物製造之抗反射塗膜中，作為硬塗層之第一膜層2係滲入基板1中，且於其中固化並且作為低折射率層之第二膜層3藉由接觸及覆蓋於作為滲入層之第一膜層2，以形成於基板上。據此，於滲入基板之第一膜層2及基板上之第二膜層3之間並無分離層，係指，例如，於作為滲入層之第一膜層及實質上具有中空粒子之第二膜層之間不存在一實質上僅含有黏著劑及/或無機奈米顆粒、實質上無中空粒子，且並不滲入基板中的分離層。
    當作為硬塗層之第一膜層2滲入基板1中時，作為低折射率層之第二膜層3係形成於基板上以與其接觸，其他實施例之抗反射塗膜於基板、硬塗層及低折射率層之間，具有優異的界面黏著性，因此，可於使用過程中，最小化剝離作用。再者，該中空粒子可緊密的分佈於作為低折射率層之第二膜層中，從而展現優異的低折射性質以及抗反射之效果。
    以下將更詳細描述其他實施例中，包含於抗反射塗膜中之每一膜層。
    首先，該抗反射塗膜包括該基板。如圖1所示，該基板1係為典型透明薄膜，且任何材料皆可使用而無任何限制，只要其可被第一膜層之黏著劑及無機奈米顆粒滲入即可。例如，該基板可由聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、醋酸纖維素樹脂或其類似物所製得。於一實施例中，三醋酸纖維素(triacetate cellulose，TAC)樹脂可使用作為基板之材料，以提高透光率及抗反射效果。
    此外，該抗反射塗膜可包括作為黏著劑之具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之交聯聚合物，且於該黏著劑中包括無機奈米顆粒之第一膜層2作為該硬塗層。該硬塗層可滲入該基板中。該第一膜層2可被固化並藉由該黏著劑及該無機奈米顆粒滲入該基板以併入該基板中。即便圖1顯示該第一膜層2滲入基板1之整個表面，於其他實施例中，該第一膜層2可滲入部分之基板1。
    作為低折射率層之第二膜層3係形成以接觸並覆蓋滲入基板1之第一膜層2，且其可為一含有中空粒子之膜層。更具體地，一分離層，其僅含有黏著劑及/或無機奈米顆且並不滲入基板中，並不存在於第一膜層2及第二膜層3之間。如於習知薄膜中，若一僅由黏著劑組成之分離膜存在於該硬塗層及該低折射率層之間，則可產生每一膜層及基板間之降低黏著性之缺點。反之，形成根據一實施例所製造之抗反射塗膜，使得做為低折射率層之第二膜層3接觸該基板1及作為硬塗層之第一膜層2，從而顯示更提高之界面黏著性、抗刮性及抗反射效果。
    於此，該第二膜層3之黏著劑可包括具有第一分子量及第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之交聯共聚物。
    該第一膜層2之黏著劑可包括具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物與具有第二分子量之(甲基)丙烯酸類化合物之交聯共聚物，以及具有第一分子量之(甲基)丙烯酸類化合物之交聯聚合物。
    因此，基於該第一膜層2及第二膜層3間之界面，包括於第一膜層2之黏著劑中之交聯共聚物可包括於第一膜層2約5至50%之深度，或約5至45%之深度，或約5至40%之深度。包括於該第一膜層2中之黏著劑中之交聯共聚物可被包括以呈現一朝向第二膜層3逐漸增加之分佈梯度。
    如此，該具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物可與具有第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物共聚合，其係對第一膜層2之預定深度呈現分佈梯度，且該交連共聚物也完全包括於整個該第二膜層3中。因此，該第一膜層2及第二膜層3間之界面黏著性可更加提高，並且可更緊密地分佈包括於第二膜層3中之中空粒子。
    於前述抗反射塗膜中，該第一膜層2，其係折射率較高於作為低折射率層之第二膜層3，且其折射率可約為1.5至1.58，或約為1.5至1.57，或約為1.51至1.56。此外，該第二膜層3具有一折射率約為1.1至1.45，或約為1.15至1.43，或約為1.2至1.42。
    此外，根據其他實施例之該抗反射塗膜具有一反射率約為0.5至4%、約為0.8至3%、或約為1至2%，以顯示優異的抗反射性質，據此，其可適合使用於各種顯示裝置中，如平面電漿顯示器(PDP)、陰極射線管(CRT)或液晶顯示器(LCD)，作為抗反射塗膜。
    在此同時，圖2為一流程圖，顯示上述之抗反射塗膜之製造方法，其步驟包括：形成一實施例中之組成物；將其塗佈於基板之至少一面上；當乾燥該組成物時，一部分之黏著劑組成物及無機奈米顆粒係滲入該基板中；以及固化該組成物以形成對應該基板滲入區域之第一膜層，以及含有中空粒子並覆蓋於第一膜層上之第二膜層。
    透過該製造方法，於組成物中具有預定物理性質之溶劑可先溶解一部分之基板，接著，部分之黏著劑組成物(例如部份具有第一分子量以及具有第二分子量之(甲基)丙烯酸酯系化合物)及至少一部分之該無機奈米顆粒可滲入該基板中。此時，剩餘未滲入之黏著劑組成物及該無機奈米顆粒，與該中空粒子可形成一塗膜(例如第二膜層)於基板上。更具體地，此塗膜可留下作為一被前述成分所滲入的基板上之薄層，並且該中空粒子可緊密存在於該塗膜中。
    因此，當進行一固化程序時，可形成該第一膜層以及第二膜層之黏著劑，該作為硬塗層之第一膜層可形成作為該基板內之一滲入層，且該含有中空粒子之第二膜層可形成以覆蓋該第一膜層。據此，可製造另一實施例之抗反射塗膜。
    如上所述，即使使用一單一組成物應用於一單一塗佈及固化製程中，因部分組成物滲入基板中及相分離，可藉由一簡單製程製造另一實施例之抗反射塗膜。更具體地，於此抗反射塗膜中，該作為硬塗層之第一膜層係滲入於該基板中並接觸該第二膜層，從而呈現優異的界面黏著性及機械性質。再者，於此抗反射塗膜中，一分離層並不存在於該第一及第二膜層之間，且中空粒子係緊密存在於該第二膜層，從而呈現低折射率及優異的抗反射性質。當一實施例中之抗反射塗膜組成物包括至少兩種類型之(甲基)丙烯酸酯類化合物，且具有不同分子量時，可最佳化滲入基板及相分離。
    以下，為更了解本發明，將描述本發明之較佳實施例。然而，接下來的實施例僅為說明之目的，並不應以此限制本發明。 實施例1
    (抗反射塗膜組成物之製備)
    以(甲基)丙烯酸酯類化合物之含量為100重量份為計，其含有100重量份之季戊四醇六丙烯酸酯(分子量：298.3)及11.33重量份之具有氨基甲酸乙酯官能基之丙烯酸酯(由KYOEISHA製造，品名：UA-306T，分子量：1000)；約15.87重量份之矽膠奈米顆粒分散於矽膠溶膠中(分散介質：甲基異丁基酮及甲醇，固體含量：40重量%，矽膠奈米顆粒之數目平均粒徑：10奈米，由Gaematech製造，品名：Purisol)；約11.33重量份之中空矽膠分散顆粒溶液(分散介質：甲基異丁基酮，固體含量：20重量%，中空矽膠顆粒之數均粒徑：50奈米，由Catalysts & Chemicals Industries公司製造，品名：MIBK-sol)；約10.85重量份之光起始劑(具體地說，約1.11重量份之Darocur-1173、約6.48重量份之Irgacure-184、約2.15重量份之Irgacure-819、及約1.11重量份之Irgacure-907)；以及約251.85重量份之溶劑(具體地，約179.63重量份之甲基乙基酮、約24.07重量份之乙醇、約24.07重量份之正丁醇，及約24.07重量份之乙醯丙酮)，係混合以準備作為一抗反射塗膜組成物。
    (抗反射塗膜之製備)
    該抗反射塗膜組成物係以一繞線棒(No.9)塗佈於一三醋酸纖維素膜(厚度：80微米)上。該膜於90℃烘箱中乾燥1分鐘，接著以200 mJ/cm2之紫外光能量照射其5秒，以固化該組成物。
    最後，製造出一抗反射塗膜，其包括一硬塗層，係以滲入該基板而形成；以及一低折射率層，覆蓋該硬塗層。
    該抗反射塗膜之截面圖如圖3(a)所示，及其一部分之顯微鏡影像係如圖3(b)所示。如圖3所示，根據實施例1之抗反射塗膜，可發現具有一硬塗層2(約3.9微米)，係包括一藉由滲入一基板1固化之黏著劑與分散於黏著劑中之無機奈米顆粒；一低折射率層3(約0.15微米)，係包括一固化於該硬塗層2上之黏著劑與分散於該黏著劑中之中空粒子4。
    此外，於該硬塗層2及該低折射率層3之間並無分離層，且該些中空粒子4之截面面積佔任何作為低折射率層3之截面面積比率約為90%，意即中空粒子4係非常緊密地分布於該低折射率層3之中。 實施例2
    (抗反射塗膜組成物之製備)
    以(甲基)丙烯酸酯類化合物之含量為100重量份計，其含有100重量份之季戊四醇六丙烯酸酯(分子量：298.3)及11.33重量份之具有氟類丙烯酸酯(品名：OPTOOL AR110，由DAIKIN製造，固體含量15重量%，甲基異丁基酮溶劑)，及11.33重量份之具有氨基甲酸乙酯官能基之丙烯酸酯(由KYOEISHA製造，品名：UA-306T，分子量：1000)；約15.87重量份之矽膠奈米顆粒分散於矽膠溶膠中(分散介質：甲基異丁基酮及甲醇，固體含量：40重量%，矽膠奈米顆粒之數目平均粒徑：10奈米，由Gaematech製造，品名：Purisol)；約11.33重量份之中空矽膠粒子分散溶液(分散介質：甲基異丁基酮，固體含量：20重量%，中空矽膠粒子之數均粒徑：50奈米，由Chemicals Industries公司製造，品名：MIBK-sol)；約10.85重量份之光起始劑(具體來說，係約1.11重量份之Darocur-1173、約6.48重量份之Irgacure-184、約2.15重量份之Irgacure-819、及約1.11重量份之Irgacure-907)；以及約251.85重量份之溶劑(具體來說，係約179.63重量份之甲基乙基酮、約24.07重量份之乙醇、約24.07重量份之正丁醇，及約24.07重量份之乙醯丙酮)，係混合以準備作為一抗反射塗膜組成物。
    (抗反射塗膜之製備)
    除使用上述抗反射塗膜組成物之外，一抗反射塗膜係以與實施例1相同條件狀態下製造。
    該抗反射塗膜之截面圖係如圖4(a)所示，及其一部分之顯微鏡影像係如圖4(b)所示。根據實施例2之抗反射塗膜，可發現其具有一硬塗層2(約2.8微米)，該硬塗層2係包括一藉由滲入一基板1之固化之黏著劑，與分散於黏著劑中之無機奈米顆粒；一低折射率層3(約0.145微米)，係包括一固化於該硬塗層2上之黏著劑與分散於該黏著劑中之中空粒子4。
    此外，於該硬塗層2及該低折射率層3之間並無分離層，且該些中空粒子4之截面面積佔任何作為低折射率層3之截面面積比率約為90%，即中空粒子4係非常緊密地分布於該低折射率層3之中。
    於根據實施例2之抗反射塗膜中，更具體來說，氟類丙烯酸酯係包括於該低折射率層，從而有效地發生該組成物之相分離，並且也提高抗刮性。 實施例3
    (抗反射塗膜組成物之製備)
    以(甲基)丙烯酸酯系化合物之含量為100重量份為計，其含有100重量份之季戊四醇六丙烯酸酯(分子量：298.3)及11.33重量份之具有氨基甲酸乙酯官能基之丙烯酸酯(由KYOEISHA製造，品名：510H，分子量：2000)；約15.87重量份之矽膠奈米顆粒分散於矽膠溶膠中(分散介質：甲基異丁基酮及甲醇，固體含量：40重量%，矽膠奈米顆粒之數均粒徑：10奈米，由Gaematech製造，品名：Purisol)；約11.33重量份之中空矽膠分散顆粒溶液(分散介質：甲基異丁基酮，固體含量：20重量%，中空矽膠顆粒之數目平均粒徑：50奈米，由Catalysts & Chemicals Industries公司製造，產品名：MIBK-sol)；約10.85重量份之光起始劑(具體來說，約1.11重量份之Darocur-1173、約6.48重量份之Irgacure-184、約2.15重量份之Irgacure-819、及約1.11重量份之Irgacure-907)；以及約251.85重量份之溶劑(具體來說，約179.63重量份之甲基乙基酮、約24.07重量份之乙醇、約24.07重量份之正丁醇，及約24.07重量份之乙醯丙酮)，係混合以準備作為一抗反射塗膜組成物。
    (抗反射塗膜之製備)
    該抗反射塗膜組成物係以一繞線棒(No.9)塗佈於一三醋酸纖維素膜(厚度：80微米)上。該膜於90℃烘箱中乾燥1分鐘，接著以200 mJ/cm2之紫外光能量照射其5秒，以固化該組成物。
    最後，製造出一抗反射塗膜，其包括一硬塗層，係以滲入該基板而形成；以及一低折射率層，係覆蓋該硬塗層。
    該抗反射塗膜之截面圖係以掃描式電子顯微鏡(SEM)觀察。其結果為，根據實施例3之抗反射塗膜，可發現具有一硬塗層(約3.1微米)，係包括一藉由滲入一基板固化之黏著劑與分散於黏著劑中之無機奈米顆粒；一低折射率層(約0.16微米)，係包括一固化於該硬塗層上之黏著劑與分散於該黏著劑中之中空粒子。
    此外，於該硬塗層及該低折射率層之間並無分離層，且該些中空粒子之截面面積佔任何作為低折射率層之截面面積比率約為90%，即中空粒子係非常緊密地分布於該低折射率層之中。 實施例4
    (抗反射塗膜組成物之製備)
    以(甲基)丙烯酸酯系化合物之含量為100重量份計，其含有100重量份之季戊四醇六丙烯酸酯(分子量：298.3)及11.33重量份之具有酯基之丙烯酸酯(由SK Cytec製造，產品名：DPHA，分子量：524)；約15.87重量份之矽膠奈米顆粒分散於矽膠溶膠中(分散介質：甲基異丁基酮及甲醇，固體含量：40重量%，矽膠奈米顆粒之數目平均粒徑：10奈米，由Gaematech製造，產品名：Purisol)；約11.33重量份之中空矽膠分散顆粒溶液(分散介質：甲基異丁基酮，固體含量：20重量%，中空矽膠顆粒之數目平均粒徑：50奈米，由Catalysts & Chemicals Industries公司製造，產品名：MIBK-sol)；約10.85重量份之光起始劑(具體地，約1.11重量份之Darocur-1173、約6.48重量份之Irgacure-184、約2.15重量份之Irgacure-819、及約1.11重量份之Irgacure-907)；以及約251.85重量份之溶劑(具體地，約179.63重量份之甲基乙基酮、約24.07重量份之乙醇、約24.07重量份之正丁醇，及約24.07重量份之乙醯丙酮)，係混合以準備作為一抗反射塗膜組成物。
    (抗反射塗膜之製備)
    該抗反射塗膜組成物係以一繞線棒(No.9)塗佈於一三醋酸纖維素膜(厚度：80微米)上。該膜於90℃烘箱中乾燥1分鐘，接著以200 mJ/cm2之紫外光能量照射其5秒，以固化該組成物。
    最後，製造出一抗反射塗膜，其包括一硬塗層，係以滲入該基板而形成；以及一低折射率層，係覆蓋該硬塗層。
    該抗反射塗膜之剖視圖係如圖5(a)所示，及其一部分之顯微鏡影像係如圖5(b)所示。如圖5所示，根據實施例4之抗反射塗膜，可發現具有一硬塗層2(約2.78微米)，係包括一藉由滲入一基板1固化之黏著劑與分散於黏著劑中之無機奈米顆粒；一低折射率層3(約0.18微米)，係包括一固化於該硬塗層2上之黏著劑與分散於該黏著劑中之中空粒子4。
    此外，於該硬塗層2及該低折射率層3之間並無分離層，且該些中空粒子4之截面面積佔任何作為低折射率層3之截面面積比率約為90%，意即中空粒子4係非常緊密地分布於該低折射率層3之中。 比較例1
    (抗反射塗膜組成物之製備)
    以季戊四醇六丙烯酸酯之含量為100重量份計；約15.87重量份之矽膠奈米顆粒分散於矽膠溶膠中(分散介質：甲基異丁基酮及甲醇，固體含量：40重量%，矽膠奈米顆粒之數目平均粒徑：10奈米，由Gaematech製造，產品名：Purisol)；約11.33重量份之中空矽膠顆粒分散溶液(分散介質：甲基異丁基酮，固體含量：20重量%，中空矽膠顆粒之數目平均粒徑：50奈米，由Catalysts & Chemicals Industries公司製造，產品名：MIBK-sol)；約10.85重量份之光起始劑(具體來說，約1.11重量份之Darocur-1173、約6.48重量份之Irgacure-184、約2.15重量份之Irgacure-819、及約1.11重量份之Irgacure-907)；以及約251.85重量份之溶劑(具體來說，約125.91重量份之甲基乙基酮、約41.98重量份之乙醇、約41.98重量份之正丁醇，及約41.98重量份之乙醯丙酮)，係混合以準備作為一抗反射塗膜組成物。
    (抗反射塗膜之製備)
    除使用上述抗反射塗膜組成物之外，一抗反射塗膜係於與實施例1相同條件狀態下製造。該抗反射塗膜之截面圖係如圖6(a)所示，及其一部分之顯微鏡影像係如圖6(b)所示。
    如圖6所示，於根據比較例1之抗反射塗膜中，組成物之相分離並無適當地發生(見圖6(a)圈選處)，且更具體來說，中空粒子4係非常稀疏地分布於低折射率層中(見圖6(b)圈選處)。因此，該膜的外觀變得不透明，且抗刮性及抗反射效果也降低(見實驗例)。 實驗例
    將以下列項目評估實施例及比較例所製造之抗反射塗膜，且其結果係顯示於下列表1。
    1)反射率之測量：抗反射塗膜之背面係以黑色處理，接著藉由最低反射率值評估其低反射性質。於此，係使用一型號為Shimadzu Solid Spec.3700之分光光度計(spectrophotometer)測量。
    2)透光度及霧化之測量：係使用HR-100(日本Murakami公司製造)評估透光度及霧化。
    3)抗刮性之評估：使用一鋼絲絨使以500 g/cm2之荷重，以24 m/min之速度摩擦該抗反射塗膜10分鐘，接著，計算其表面上具有1公分或以上之刮痕數。於此，當膜表面上無發現刮痕，其係評估為「非常優異(◎)」，而當具有1公分或以上之刮痕數為1或以上至低於5時，5或以上至低於15時，及15或以上，係各自評估為「優異(○)」、「中等(△)」及「差(X)」。
    4)膜截面之顯微影像：使用穿透式電子顯微鏡(名稱：H-7650，由HITACHI製造)觀察藉由顯微切片準備之每片膜之截面。
    5)黏著性之評估：藉由使用Nichiban膠帶之百格試驗(ASTM D-3359)評估每片膜之黏著性。
    如表1所示，根據實施例之抗反射塗膜，相較於比較例之膜，具有較低反射率及較高透光度，且其呈現優異的抗刮性及黏著性。
    1‧‧‧基板
    2‧‧‧第一膜層(硬塗層)
    3‧‧‧第二膜層(低折射率層)
    4‧‧‧中空粒子
    圖1係根據本發明一實施例之剖視圖，顯示所製造之抗反射塗膜之結構示意圖。
    圖2係根據本發明一實施例之流程示意圖，顯示一抗反射塗膜之製造方法流程圖。
    圖3至6係各自獨立為實施例1、2及4，與比較例1之顯微鏡影像，顯示抗反射塗膜之截面。
    1‧‧‧基板
    2‧‧‧第一膜層(硬塗層)
    3‧‧‧第二膜層(低折射率層)
    权利要求:
    Claims (21)
    [1] 一種抗反射塗膜組成物，包括：一具有一第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物；一具有一第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物，該第二分子量係高於該第一分子量；一無機奈米顆粒；以及一中空粒子。
    [2] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中該第一分子量係小於600，且該第二分子量係為600至100,000。
    [3] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，更包括一光起始劑。
    [4] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，更包括一溶劑。
    [5] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中，以100重量份之該具有該第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物為計，包括：5至30重量份之該具有該第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物；5至30重量份之該無機奈米顆粒；1至30重量份之該中空粒子；5至25重量份之該光起始劑；以及100至500重量份之該溶劑。
    [6] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中該具有該第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物係一或以上之化合物選自由：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三亞甲基丙基三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、9,9-雙[4-(2-丙稀醯氧基乙氧基)苯基]芴、雙(4-甲基丙烯酰基硫代苯基)硫醚、以及雙(4-乙烯噻吩基)硫醚所組成之群組。
    [7] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，更包括一氟類(甲基)丙烯酸酯化合物，其係被一或以上之氟原子取代。
    [8] 如申請專利範圍第7項之抗反射塗膜組成物，其中，該氟類(甲基)丙烯酸酯化合物係包括一或以上之化合物選自下列化學式1至5所組成之群組； 其中，R1係為氫或一具1至6個碳原子之烷基，a係為一0至7之整數，以及b係為一1至3之整數； 其中，c係為一1至10之整數； 其中，d係為一1至11之整數； 其中，e係為一1至5之整數； 其中，f係為一4至10之整數。
    [9] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中該具有該第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物，係包括藉由一交聯劑連結二或以上之該具有該第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物分子。
    [10] 如申請專利範圍第9項之抗反射塗膜組成物，其中該具有該第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物係包括一具有一或以上取代基之化合物，該取代基係選自由環氧基、羥基、羧基、硫醇基、芳香基、或具有六個或以上碳原子之脂肪羥基、以及異氰酸酯基所組成之群組。
    [11] 如申請專利範圍第9項之抗反射塗膜組成物，其中，該交聯劑係包括一聚氨酯鍵、一硫醚鍵、一醚鍵或一酯鍵。
    [12] 如申請專利範圍第4項之抗反射塗膜組成物，其中，該溶劑係具有20~30之介電常數(25℃)，以及一1.7~2.8之偶極矩。
    [13] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中，該無機奈米顆粒係具有5至50 nm之平均直徑。
    [14] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中，該無機奈米顆粒係為矽無機奈米顆粒。
    [15] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中，該中空粒子係具有5至80 nm之平均直徑。
    [16] 如申請專利範圍第1項之抗反射塗膜組成物，其中，該中空粒子係為中空矽粒子。
    [17] 一種抗反射塗膜，包括：一第一膜層，包括一具有一第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物以及一無機奈米顆粒之交聯聚合物，且滲入於一基材中；以及一第二膜層，包括該具有該第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物與一具有一第二分子量一(甲基)丙烯酸酯類化合物之一交聯共聚物，該第二分子量係大於該第一分子量；以及一中空粒子於該交聯共聚物中，且該第二膜層覆蓋該第一膜層。
    [18] 如申請專利範圍第17項之抗反射塗膜，其中，該第一膜層除了具有該交聯聚合物之區域外，更包括該具有該第一分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物與該具有該第二分子量之(甲基)丙烯酸酯類化合物之該交聯共聚物的區域。
    [19] 如申請專利範圍第17項之抗反射塗膜，其中，該第一分子量係小於600，該第二分子量係於600至100,000之間。
    [20] 如申請專利範圍第17項之抗反射塗膜，其中，該第二膜層更包括一無機奈米顆粒。
    [21] 如申請專利範圍第18項之抗反射塗膜，其中，以該第一膜層以及該第二膜層之介面為基準，具有該交聯共聚物之區域係設置於大約在該第一膜層之約5至50%的深度處。
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    TWI504699B|2015-10-21|抗反射塗膜組成物及抗反射塗膜
    TWI468478B|2015-01-11|抗反射塗膜之製造方法
    KR101205477B1|2012-11-27|반사 방지 코팅용 조성물 및 이를 사용하여 제조된 반사 방지 필름
    WO2013032120A1|2013-03-07|반사 방지 필름
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    US8814370B2|2014-08-26|
    EP2749607A1|2014-07-02|
    US20130216818A1|2013-08-22|
    JP2014529762A|2014-11-13|
    EP2749607B1|2019-04-17|
    WO2013032119A1|2013-03-07|
    EP2749607A4|2015-06-10|
    CN103748180B|2016-07-06|
    CN103748180A|2014-04-23|
    TWI504699B|2015-10-21|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    KR100516097B1|2003-02-14|2005-09-23|한국과학기술연구원|투광성 반사방지막 및 그를 포함하는 물품|
    JP2006106714A|2004-09-13|2006-04-20|Fuji Photo Film Co Ltd|反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置|
    TWI402303B|2004-09-22|2013-07-21|Fujifilm Corp|硬化性組成物、抗反射薄膜、其製法、偏光板及影像顯示單元|
    JP2006308832A|2005-04-28|2006-11-09|Asahi Kasei Corp|反射防止膜|
    JP2007121993A|2005-09-29|2007-05-17|Dainippon Printing Co Ltd|反射防止積層体及びその製造方法|
    JP5075333B2|2005-11-11|2012-11-21|富士フイルム株式会社|光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置|
    JP5433926B2|2006-04-18|2014-03-05|Ｊｓｒ株式会社|硬化性樹脂組成物及び反射防止膜|
    JP5209855B2|2006-05-31|2013-06-12|日揮触媒化成株式会社|透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材|
    KR100981018B1|2006-07-10|2010-09-07|주식회사 엘지화학|Ｕｖ 경화형의 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물|
    JP5412735B2|2007-03-09|2014-02-12|大日本印刷株式会社|光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置|
    JP5217744B2|2007-08-02|2013-06-19|大日本印刷株式会社|反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法|
    KR101504785B1|2007-08-21|2015-03-20|데쿠세리아루즈 가부시키가이샤|반사 방지 필름|
    US20090075074A1|2007-09-12|2009-03-19|Dai Nippon Printing Co., Ltd.|Optical layered body, method of producing the same, polarizer, and image display device|
    JP2009086360A|2007-09-28|2009-04-23|Dainippon Printing Co Ltd|反射防止フィルム|
    US20100265580A1|2007-11-13|2010-10-21|Hansik Yun|Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same|
    KR20090049518A|2007-11-13|2009-05-18|주식회사 엘지화학|반사방지 코팅 조성물 및 이것을 이용하여 제조된 반사방지필름|
    JP2011503658A|2007-11-13|2011-01-27|エルジー・ケム・リミテッド|反射防止コーティング組成物、反射防止フィルムおよびその製造方法|
    JP5365083B2|2008-07-29|2013-12-11|凸版印刷株式会社|反射防止フィルム|
    JP5531509B2|2008-09-05|2014-06-25|大日本印刷株式会社|光学積層体、偏光板及び画像表示装置|
    JP2010254950A|2008-10-10|2010-11-11|Sony Corp|樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法|
    JP2010195901A|2009-02-24|2010-09-09|Panasonic Electric Works Co Ltd|ハードコート用樹脂組成物、ハードコート用樹脂組成物の製造方法、及び反射防止コーティング基材|
    JP5633149B2|2009-03-09|2014-12-03|凸版印刷株式会社|反射防止フィルム及びその製造方法、偏光板、透過型液晶ディスプレイ|
    WO2012008780A2|2010-07-14|2012-01-19|주식회사 엘지화학|반사방지 방현 코팅 조성물, 반사방지 방현 필름 및 이의 제조방법|
    KR101226230B1|2011-08-26|2013-01-28|주식회사 엘지화학|반사 방지 필름|KR101226230B1|2011-08-26|2013-01-28|주식회사 엘지화학|반사 방지 필름|
    US10338276B2|2014-09-12|2019-07-02|Fujifilm Corporation|Antireflective film, polarizing plate, cover glass, image display device, and method of manufacturing antireflective film|
    TWI707932B|2015-02-03|2020-10-21|美商道康寧公司|硬塗層及相關組成物、方法、及物品|
    KR101862251B1|2015-08-03|2018-05-29|주식회사 엘지화학|플렉시블 플라스틱 필름|
    KR102107736B1|2015-08-03|2020-05-07|주식회사 엘지화학|플렉시블 플라스틱 필름용 코팅 조성물|
    KR101862252B1|2015-08-03|2018-05-29|주식회사 엘지화학|플렉시블 플라스틱 필름|
    KR102094450B1|2015-08-03|2020-03-27|주식회사 엘지화학|플렉시블 플라스틱 필름|
    JP6710508B2|2015-09-01|2020-06-17|共栄社化学株式会社|活性エネルギー線硬化型ハードコート用樹脂組成物、ハードコート付き透明プラスチックシート及び光学部材|
    KR101813707B1|2015-11-04|2017-12-29|주식회사 엘지화학|반사 방지 필름 및 이의 제조 방법|
    KR102294715B1|2016-01-13|2021-08-26|주식회사 엘지화학|반사 방지 필름 및 이의 제조 방법|
    JP6476347B2|2016-03-09|2019-02-27|エルジー・ケム・リミテッド|反射防止フィルム|
    JP6680597B2|2016-04-04|2020-04-15|富士フイルム株式会社|反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置|
    CN110632686B|2016-07-14|2021-10-29|株式会社Lg化学|防反射膜|
    CN106947102B|2017-04-25|2019-12-06|常州大学|一种原位聚合光学杂化增透聚酯薄膜的制备方法|
    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    KR20110085788||2011-08-26||
    KR20110085787||2011-08-26||
    KR1020110101994A|KR101205477B1|2011-08-26|2011-10-06|반사 방지 코팅용 조성물 및 이를 사용하여 제조된 반사 방지 필름|
    [返回顶部]