专利摘要:
一種在液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高速且高精度調溫的調溫裝置,其係為玻璃基板面在成膜、曝光及蝕刻順序下的製程中,成膜與曝光步驟之間玻璃基板面的調溫裝置。調溫裝置包含一調溫風循環槽以及複數個平角筒體,循環槽係具有能覆蓋大小尺寸玻璃基板面其全體範圍的大小,該等平角筒體係於循環槽下方部分的中間處橫跨設置,且該等平角筒體係裝設有將調溫風回收送入之回收口。其中,在玻璃基板面輸送至循環槽的下方附近時,藉由循環槽內部的調溫風從該等平角筒體之間的間隙做的吹送調溫,及調溫風流入至回收口周圍前與玻璃基板面接觸的接觸調溫,來對玻璃基板面做高速的調溫,同時將調溫後的帶熱風由回收口回收,避免與循環槽內的調整風混合,達到攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫。
公开号:TW201307946A
申请号:TW101129071
申请日:2012-08-10
公开日:2013-02-16
发明作者:Keiichi Kamimura
申请人:Kamimura Kougyo Co Ltd;
IPC主号:G02F1-00
专利说明:
液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高速且高精度調溫的調溫裝置
本發明係關於一種液晶顯示器等製程中,對玻璃基板面做高速且高精度調溫的調溫裝置。
感光膜於玻璃基板面呈現成膜狀態時,若將感光膜乾燥會使得玻璃基板溫度高昇,此時必須再將其冷卻至適合曝光製程的溫度攝氏23度,因而造成不必要的手續浪費。而在過去被提出的專利文獻1日本專利文獻第3701007號公報中,揭露使用多個噴嘴向已成膜之玻璃基板面垂直吹送調溫風來對玻璃基板面進行調溫的技術內容。
然而經由噴嘴垂直吹送調溫風的狀態如圖4中清楚所示,由於調溫風在碰觸玻璃基板面時,會停留在反彈接觸點上,因此不僅花費多餘的調溫時間,同時帶溫度的反彈風與吹送風將相互抵抗,在與調溫風混合的情況下,將導致玻璃基板面的調溫欠缺精準效果,雖然在前述的專利文獻中提到其具有攝氏23度±0.1度的精準度,但是在實際應用上卻存在比這精準度更低的問題。
為達上述目的,本發明之調溫裝置係具有能覆蓋大小尺寸玻璃基板面其全體範圍之大小的一調溫風循環槽,且循環槽下方部分的中間處,橫跨設置有複數個裝設將調溫風回收送入之回收口的平角筒體。在玻璃基板面被輸送至循環槽的下方附近時,藉由循環槽內部的調溫風從該等平角筒體之間的間隙做的吹送調溫及調溫風流入至回收口周圍前與玻璃基板面接觸的接觸調溫,更進一步將熱交換後的帶熱風經由回收口回收,避免與循環槽內的調溫風混合,從而能防止回流風的亂流現象、消除調溫風的抵抗、節約能源以及達到設定溫度為攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫,解決習知技術所遇到的問題。
本發明透過簡單的裝置構成,除了能有效率地對玻璃基板面吹送溫度在攝氏23度±0.05度此高精度範圍內的調溫風外,與習知技術相較也具有能在更短的時間內對玻璃基板面進行高精準度調溫的效果。
另外,將平角筒體以狹窄的間隔並列設置,同時在其下方的中間處設置回收口,藉由對玻璃基板面的吹送調溫及接觸調溫,具有能高速調溫的效果。
再者,透過消除吹送之調溫風的反彈現象及防止帶熱的風混入調溫風,能達到高精準度的調溫效果。
更進一步,在高速的調溫下同時能加快輸送帶的間歇運輸速度,提高生產作業的效益。
本發明係為液晶顯示器製程裡,大小玻璃基板面在成膜、曝光及蝕刻之順序過程中,成膜與曝光步驟之間玻璃基板面的調溫裝置,其構成係如下說明具有高速且高精度調溫的功效組成。
此構成特徵在於,調溫裝置形設有能覆蓋所有大小玻璃基板面之容量的一調溫風循環槽,且循環槽下方部分橫跨設置有複數個彼此相隔狹窄間隙的平角筒體。在成膜後之玻璃基板面被輸送至循環槽的下方附近時,將循環槽內部的調溫風往下壓送,使其由該等平角筒體之間的間隙往玻璃基板面吹送,藉由此玻璃基板面的吹送調溫和調溫風回流至回收口前與玻璃基板面接觸的接觸調溫,對玻璃基板面做高速的調溫,同時將調溫後的帶熱風由回收口回收,避免與循環槽內的調溫風混合,達到設定溫度為攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫。 實施例一
圖1至圖3係為實施例一的示意圖,在無塵室中間歇運行的輸送帶11依序設置成膜乾燥室12、調溫裝置13以及曝光室14,首先於輸送帶11上放置玻璃基板G,在玻璃基板G被運送至成膜乾燥室12下方,進入成膜乾燥室12後於其表面上滴落感光液,然後對玻璃基板G施以轉動的離心力使感光液能呈現全體均一的厚度,再將其加熱乾燥完成預設的成膜步驟,接著在玻璃基板G被運送至調溫裝置13下方,進入調溫裝置13後再將溫度高昇的玻璃基板G調溫至適合曝光的攝氏23度。
在循環槽15內部的側面設置有供調溫用之調溫風循環的循環風路16,在循環風路16的上方部分裝設有面向循環槽15內部,用以將調溫風調溫並供給的冷卻空調器C/C,在循環槽15內部的上方則設有加熱空調器H/C,同時在加熱空調器H/C的下方設置有將調溫風往下方吹送的風扇17。元件符號18則為控制加熱空調器H/C的溫度感測器。
而在循環槽15內的底面,並列設置有彼此相隔狹窄間隔19的複數個長條狀平角筒體20。各個平角筒體20的下方長軸方向的中間處設置有回收口21,自回收口21回流之調溫後的帶熱風在通過平角筒體20內部後,將由長軸方向的兩端回到循環風路16內進行循環。
接著,成膜後的玻璃基板G被輸送帶11運送至調溫裝置13的下方附近時,透過風扇17將循環槽內部23度的調溫風往下朝平角筒體20之間狹窄的間隙19對玻璃基板G表面做的吹送調溫,以及調溫風回流至回收口21前與玻璃基板G持續面接觸的接觸調溫,對玻璃基板G做高速的調溫。
更進一步,由於習知技術中調溫後之帶熱風將全數被回收口21所回收,因此將不再出現反彈現象,同時帶熱風亦不會與循環槽15內的調溫風混合,因而能達到溫度在攝氏23度±0.05度範圍內的高精度調溫效果。
在此構成下被高速且高精準度調溫後的玻璃基板G隨即被送入曝光室14進行後續的曝光製程。
本發明透過將感光膜成膜後的玻璃基板面高速且高精準度地調溫至適合曝光的溫度,從而能被廣泛地利用。
11‧‧‧輸送帶
12‧‧‧成膜乾燥室
13‧‧‧調溫裝置
14‧‧‧曝光室
15‧‧‧循環槽
16‧‧‧循環風路
17‧‧‧風扇
18‧‧‧溫度感測器
19‧‧‧間隙
20‧‧‧平角圓筒體
21‧‧‧回收口
C/C‧‧‧冷卻空調器
G‧‧‧玻璃基板
H/C‧‧‧加熱空調器
圖1為製造流程的部分示意圖;圖2為調溫裝置其重要部位的部分放大縱向剖面圖;圖3為圖2的橫向剖面圖;以及圖4為習知例中自噴嘴吹送之調溫風於玻璃基板反彈之狀態說明圖。
11‧‧‧輸送帶
13‧‧‧調溫裝置
15‧‧‧循環槽
16‧‧‧循環風路
17‧‧‧風扇
18‧‧‧溫度感測器
19‧‧‧間隙
20‧‧‧平角筒體
21‧‧‧回收口
C/C‧‧‧冷卻空調器
G‧‧‧玻璃基板
H/C‧‧‧加熱空調器
权利要求:
Claims (1)
[1] 一種在液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高速且高精度調溫的調溫裝置,其係為該玻璃基板面在成膜、曝光及蝕刻順序下的製程中,成膜與曝光步驟之間該玻璃基板面的調溫裝置,該調溫裝置包含:一調溫風循環槽,其係具有能覆蓋大小尺寸玻璃基板面其全體範圍的大小;以及複數平角筒體,其係於該循環槽下方部分的中間處橫跨設置,且其係裝設有將調溫風回收送入之回收口;其中,在該玻璃基板面輸送至該循環槽的下方附近時,藉由該循環槽內部的調溫風從該等平角筒體之間的間隙做的吹送調溫,及該調溫風流入至該回收口周圍前與該玻璃基板面接觸的接觸調溫,來對該玻璃基板面做高速的調溫,同時將調溫後的帶熱風由該回收口回收,避免與該循環槽內的調整風混合,達到攝氏23度±0.05度範圍內高精度的調溫。
类似技术:
公开号 | 公开日 | 专利标题
US10814367B2|2020-10-27|Method for the homogeneous non-contact temperature control of non-endless surfaces which are to be temperature-controlled, and device therefor
US10792844B2|2020-10-06|Airflow control apparatus and method for manufacturing stretched film
US9890998B2|2018-02-13|Substrate heating apparatus
CN105280518A|2016-01-27|半导体基板的热处理装置
CN101825808A|2010-09-08|配向膜加热装置
JP4645448B2|2011-03-09|真空成膜装置及び真空成膜方法並びに太陽電池材料
TWI512356B|2015-12-11|液晶顯示器等製程中對玻璃基板面做高精度調溫的調溫裝置
US20170247280A1|2017-08-31|Isothermal drop speed cooling method of forced convection area for lehr and the apparatus thereof
KR20110139663A|2011-12-29|열처리 장치 및 열처리 방법
JP2016028005A|2016-02-25|ガラスシートの製造方法、ガラスシート製造装置、及びガラス積層体
JP2005037017A|2005-02-10|乾燥方法
US11149991B2|2021-10-19|Heating and cooling apparatus having moisture removal function for testing electrical characteristic of semiconductor element using probe system
KR20080005833A|2008-01-15|열처리 장치
JP2005049021A|2005-02-24|ペースト材料の乾燥方法および乾燥装置
CN101361164B|2011-04-20|用于盘状衬底除气的装置
JP2007021378A|2007-02-01|3次元構造物の作製方法および該方法によって作製されるスペーサ、ならびに該方法に用いられる液滴乾燥装置
KR20180104211A|2018-09-20|기판 열처리 장치
JP6295760B2|2018-03-20|テンターオーブンおよび熱可塑性樹脂フィルムの製造方法
CN106597701B|2019-07-26|一种预烘烤设备热板机构
JP2005271366A|2005-10-06|セラミックグリーンシートの乾燥方法及び乾燥装置
CN106766793A|2017-05-31|一种一体式循环热气流气浮加热板带材装置及方法
KR20110133437A|2011-12-12|열처리장치, 열처리방법 및 기억매체
CN107256841B|2020-07-03|快速热退火机
WO2019116534A1|2019-06-20|フィルム製造装置
TW201616067A|2016-05-01|基板快速均溫裝置
同族专利:
公开号 | 公开日
CN102955374A|2013-03-06|
KR101454964B1|2014-10-27|
KR20130018396A|2013-02-21|
TWI512356B|2015-12-11|
JP2013041053A|2013-02-28|
JP5465701B2|2014-04-09|
CN102955374B|2014-12-03|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
JPH0513294A|1991-07-04|1993-01-22|Hitachi Ltd|半導体ウエハ冷却方法および装置|
JP3259226B2|1994-10-05|2002-02-25|東京エレクトロン株式会社|熱処理方法及び熱処理装置|
JP3701007B2|2000-08-31|2005-09-28|株式会社朝日工業社|ガラス基板の温度制御方法及びその装置|
CN101303989B|2004-03-30|2012-03-28|株式会社田村制作所|焊料隆起形成方法及装置|
JP2008016543A|2006-07-04|2008-01-24|Dainippon Screen Mfg Co Ltd|基板処理装置|
JP2010223499A|2009-03-24|2010-10-07|Ngk Insulators Ltd|基板冷却装置|
JP5290063B2|2009-06-17|2013-09-18|株式会社日立ハイテクノロジーズ|プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法|CN107885045A|2017-11-22|2018-04-06|四川云盾光电科技有限公司|一种负性光刻胶刻蚀装置|
CN112882352A|2021-01-28|2021-06-01|江苏特纳马智能制造有限公司|一种曝光机玻璃基板表面温度稳定设备|
法律状态:
优先权:
申请号 | 申请日 | 专利标题
JP2011177045A|JP5465701B2|2011-08-12|2011-08-12|液晶ディスプレイ等の製造工程におけるガラス基盤面の急速且つ高精度調温装置|
[返回顶部]