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    • 专利摘要:
    一種蝕刻裝置，其包括基體及儲液件，儲液件安裝於基體上，儲液件開設有用於收容蝕刻液之容納孔。儲液件之側面還開設有與容納孔連通之噴射孔，蝕刻液從噴射孔噴射而出。蝕刻裝置還包括轉動安裝於基體上之轉動件，且轉動件與儲液件之側面相對設置。
    公开号:TW201307232A
    申请号:TW100129472
    申请日:2011-08-17
    公开日:2013-02-16
    发明作者:Shyan-Juh Liu；chu-sheng Chen；Xing-Rong Xiao
    申请人:Hon Hai Prec Ind Co Ltd；
    IPC主号:C03C15-00
    专利说明:
    蝕刻裝置
    本發明涉及一種蝕刻裝置，尤其涉及一種用於對玻璃進行蝕刻之蝕刻裝置。
    玻璃加工過程中經常涉及對玻璃表面進行蝕刻處理，一般蝕刻裝置包括複數並排設置之噴嘴，噴嘴下方並排豎直固定地設置複數玻璃。蝕刻時，蝕刻液沿玻璃側面基本勻速地向玻璃底部流去。然，上述蝕刻裝置僅適用於蝕刻平板玻璃，如需蝕刻曲面玻璃時，由於曲面玻璃側面曲率不規則變化，使蝕刻液之流速不均勻，蝕刻液在曲面玻璃表面之停留時間不一致，從而導致曲面玻璃蝕刻不均勻。
    鑒於上述狀況，有必要提供一種可均勻蝕刻曲面玻璃之蝕刻裝置。
    一種蝕刻裝置，其包括基體及儲液件，儲液件安裝於基體上，儲液件開設有用於收容蝕刻液之容納孔。儲液件之側面還開設有與容納孔連通之噴射孔，蝕刻液從噴射孔噴射而出。蝕刻裝置還包括轉動安裝於基體上之轉動件，且轉動件與儲液件之側面相對設置。
    採用上述蝕刻裝置蝕刻曲面玻璃時，由於轉動件帶動曲面玻璃轉動，蝕刻液可從各角度噴射至曲面玻璃上，使曲面玻璃均勻地受到蝕刻液之蝕刻，從而避免了由於曲面玻璃表面不規則，使蝕刻液之流速不均勻而導致蝕刻不均勻。
    請參閱圖1，蝕刻裝置100用於對曲面玻璃200表面進行蝕刻，蝕刻裝置100包括基體10、儲液件30、空氣壓縮機40及轉動件50。儲液件30用於容納蝕刻液，其與空氣壓縮機40相連接，以將蝕刻液自儲液件30內噴射而出。轉動件50可轉動地裝設於基體10上，並鄰近儲液件30。曲面玻璃200固定裝設於轉動件50上，自儲液件30內噴射而出之蝕刻液可噴灑至曲面玻璃200之表面上，以蝕刻曲面玻璃200。
    請一併參閱圖2及圖3，基體10用於安裝儲液件30及轉動件50，在本發明實施方式中，基體10為圓盤狀。基體10上開設有第一安裝孔11及第二安裝孔13。第一安裝孔11開設於基體10之中心位置。第二安裝孔13之數量為複數，複數第二安裝孔13圍繞第一安裝孔11均勻開設，並位於以第一安裝孔11為圓心之圓周線上。
    儲液件30包括收容部31及端蓋部33。收容部31大致呈圓柱體，對應安裝于第一安裝孔11處。收容部31包括遠離基體10之第一端面311、靠近基體10之第二端面312以及連接第一端面311及第二端面312之側面313。第一端面311之中間位置開設有容納孔3110，並沿軸向延伸至鄰近第二端面312之位置，使容納孔3110形成盲孔以收容蝕刻液。第二端面312與基體10固定連接。側面313上沿徑向圍繞容納孔3110開設有複數與容納孔3110連通之噴射孔3130，複數噴射孔3130佈滿側面313。在本發明實施方式中，複數噴射孔3130呈規則排佈，並使複數噴射孔3130沿軸向形成層狀結構，且複數噴射孔3130每一層所在之平面與第一端面311或第二端面312平行。可理解，複數噴射孔3130亦可呈無規則雜亂排佈。端蓋部33與收容部31之第一端面311相連接，以封蓋收容部31。端蓋部33呈圓柱形，其中間位置開設有連通孔330，連通孔330與收容部31之容納孔3110相連通。
    空氣壓縮機40與儲液件30之連通孔330相連接，以產生高壓空氣使收容於收容部31之蝕刻液自噴射孔3130噴射而出。
    可理解，空氣壓縮機40亦可省略，該種情況時，可使儲液件30可轉動地設置於基體10上，利用一驅動件驅動儲液件30轉動，使蝕刻液在離心力之作用下自噴射孔3130噴射而出。
    轉動件50對應安裝於基體10之第二安裝孔13處，其數量與第二安裝孔13之數量相對應。轉動件50包括主體51及轉動軸53。主體51大致呈圓柱形，其側面可安裝複數曲面玻璃200，並與儲液件30之噴射孔3130相對設置。在本發明實施方式中，曲面玻璃200採用膠黏方式固定於主體51之側面。轉動軸53穿過第二安裝孔13將主體51可轉動地固定於基體10上。可理解，轉動件50還可包括設置於主體51上之複數吸盤，以吸附曲面玻璃200。或，轉動件50還可包括設置於主體51上之複數卡合結構，以固定卡合曲面玻璃200。
    蝕刻裝置100還包括用於驅動轉動件50轉動之驅動件。驅動件之數量與轉動件50之數量相對應，每一驅動件與一轉動件50相連。可理解，驅動件之數量亦可小於轉動件50之數量，該種情況時，可在轉動件50之間設置齒輪機構，以實現聯動。
    蝕刻曲面玻璃200時，將曲面玻璃200安裝於轉動件50之主體51之側面，然後使轉動件50轉動，蝕刻液自噴射孔3130噴射至曲面玻璃200之表面。蝕刻時，由於轉動件50帶動曲面玻璃200轉動，蝕刻液可從各角度高低不同地噴射至曲面玻璃200上，使曲面玻璃200均勻地受到蝕刻液之蝕刻，從而避免了由於曲面玻璃表面不規則，使蝕刻液之流速不均勻而導致蝕刻不均勻。
    可理解，本發明實施方式之蝕刻裝置100亦可用於對平面玻璃進行蝕刻，或者配合使用合適之蝕刻液亦可用於對其他材料之待蝕刻件進行蝕刻。
    綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍第項。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍第項內。
    100．．．蝕刻裝置
    10．．．基體
    11．．．第一安裝孔
    13．．．第二安裝孔
    30．．．儲液件
    31．．．收容部
    311．．．第一端面
    3110．．．容納孔
    312．．．第二端面
    313．．．側面
    3130．．．噴射孔
    33．．．端蓋部
    330．．．連通孔
    40．．．空氣壓縮機
    50．．．轉動件
    51．．．主體
    53．．．轉動軸
    200．．．曲面玻璃
    圖1係本發明實施方式之裝設有曲面玻璃之蝕刻裝置之立體組裝示意圖。
    圖2係圖1所示之裝設有曲面玻璃之蝕刻裝置之立體分解圖。
    圖3係沿圖1中III-III線之剖視圖。
    100．．．蝕刻裝置
    10．．．基體
    11．．．第一安裝孔
    13．．．第二安裝孔
    311．．．第一端面
    3110．．．容納孔
    312．．．第二端面
    313．．．側面
    3130．．．噴射孔
    33．．．端蓋部
    330．．．連通孔
    40．．．空氣壓縮機
    50．．．轉動件
    51．．．主體
    53．．．轉動軸
    权利要求:
    Claims (10)
    [1] 一種蝕刻裝置，其包括基體及儲液件，該儲液件安裝於該基體上，該儲液件開設有用於收容蝕刻液之容納孔，其改良在於：該儲液件之側面還開設有與該容納孔連通之噴射孔，該蝕刻液從該噴射孔噴射而出，該蝕刻裝置還包括轉動安裝於該基體上之轉動件，且該轉動件與該儲液件之側面相對設置。
    [2] 如申請專利範圍第1項所述之蝕刻裝置，其中該儲液件包括收容部，該收容部包括遠離該基體之第一端面，該第一端面與該側面相連接，該容納孔開設於該第一端面，該噴射孔之數量為複數，複數該噴射孔圍繞該容納孔開設。
    [3] 如申請專利範圍第2項所述之蝕刻裝置，其中該收容部呈圓柱體，該容納孔沿軸向延伸，該噴射孔沿徑向延伸。
    [4] 如申請專利範圍第2項所述之蝕刻裝置，其中複數該噴射孔呈規則排佈。
    [5] 如申請專利範圍第4項所述之蝕刻裝置，其中複數該噴射孔形成層狀結構，且複數該噴射孔每一層所在之平面與該第一端面平行。
    [6] 如申請專利範圍第2項所述之蝕刻裝置，其中該儲液件還包括與該收容部之第一端面連接之端蓋部，該端蓋部開設有連通孔，該連通孔與該容納孔連接，該蝕刻裝置還包括空氣壓縮機，該空氣壓縮機與該連通孔相連接。
    [7] 如申請專利範圍第2項所述之蝕刻裝置，其中該轉動件之數量為複數，且複數該轉動件圍繞該儲液件設置。
    [8] 如申請專利範圍第1項所述之蝕刻裝置，其中該儲液件可轉動地安裝於該基體上。
    [9] 如申請專利範圍第1項所述之蝕刻裝置，其中該轉動件包括主體及設置於該主體之側面上且與該噴射孔相對之複數吸盤或卡合結構。
    [10] 如申請專利範圍第9項所述之蝕刻裝置，其中該轉動件還包括轉動軸，該基體上開設有安裝孔，該轉動軸穿過該安裝孔將該主體可轉動地固定於該基體上。
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