![]() 脳脊髄液の局所的うっ滞を防止するための方法および装置
专利摘要:
患者のアルツハイマー病を治療、阻害、または寛解させるためのシステムおよび方法であって、振動または音響エネルギーを患者の上顎骨に放射するための、電源に作動的に接続された1つ以上のトランスデューサを含み、上記エネルギーは、患者の副鼻腔を通じて患者の頭蓋底へ放射されて脳内の脳脊髄液の排出を補助するとともに、脳脊髄液の局所的うっ滞を阻害するのに十分である、システムおよび方法である。 公开号:JP2011512904A 申请号:JP2010547850 申请日:2009-02-24 公开日:2011-04-28 发明作者:ジェイ.リー スーザン 申请人:スーザン ジェイ.リーSusan J.Lee; IPC主号:A61H23-02
专利说明:
[0001] 本出願は、アルツハイマー型認知症の予防および治療に関し、特に脳脊髄液の局所的うっ滞を防止するための方法、システム、および装置に関する。] 背景技術 [0002] アルツハイマー病(“AD”)の最初の診断から100年以上経つが、この疾患の過程については未だ明確な理解が得られていない。アルツハイマー協会は近年、510万人のアメリカ国民がこの疾患に苦しんでおり、米国では72秒に1人が新たにこの疾患であると診断されている、と推定した。ADは、脳内の神経細胞を体系的に死滅させるに従い、精神錯乱または認知症に至る進行的な記憶障害として現われる。高齢化するベビーブーム世代に将来起こる事態についての予測値は驚愕すべきものであり、予防、診断、および治療に関するAD研究における進歩が必要である。] [0003] 老化に伴う副次的な脳脊髄液(“CSF”)の停滞および/または不足は、AD認知症において重要な役割を持っていると言われている。CSFは、脳および脊髄の周りの何もない空間を満たし、保護する液体である。CSFは、代謝産物、タンパク質、およびイオンを脳内および脳外に循環させて恒常性を維持する重大な役割を有している。成人における通常のCSF量は約140ミリリットルであり、その全量が1日の経過において3または4回代謝回転する。CSFの産生および代謝回転は年齢とともに減少することが知られている。CSFの停滞および/または不足は、この緊密に制御されている液体の均衡の崩壊につながる。] [0004] CSFは、脳深部の緊密に巻かれた溝および裂の迷路を通って、重要かつ限定的な解剖学的部位においては時に重力に逆らって流れなければならない。しかしながら、脳には、特定の方向への流れを促進するための弁や運動性の付属器(例えば、繊毛)等の局所的な機械的システムがない。代わりに、CSFの流れは、心周期により駆動され、速度を与えられるとともに、呼吸の際の静脈圧の変化により調節される。そのため、慢性の局所的なCSFのうっ滞が毒素および代謝産物の蓄積を引き起こす状況が起こり得る。この状況は、慢性で軽度の生理学的な損傷として作用し、その損傷は、加齢とともに、ゆっくりとした潜行性のADの発病へとつながる。] [0005] CSFの停滞と戦うために、Eunoe,Inc.のCOGNIShunt(米国登録商標) system等の脳室腹腔シャントが、CSFの流れと代謝回転の改善を促進する人工的手段として、ADに苦しむ患者の脳内に外科的に移植されている。この外科手術の結果は認知症の進行を抑制することに関しては有望なものであるが、AD患者は、異物(すなわち、脳室腹腔シャントおよびそれに付随する排液管)を体内に導入する極めて侵襲的な外科手術を受けなくてはならない。さらに、脳室腹腔シャントは、包括的なレベルにおいてはCSFの流れの改善を促進するが、CSFのうっ滞の影響を最も受けやすい、脳の限定的な解剖学的領域に的を絞ったり、特定の領域を標的にしてはいないため、上記手術の潜在的な恩恵は限られたものである。] [0006] したがって、脳内のCSFのうっ滞を防止または減少させる非侵襲的な処置が必要である。また、最もCSFのうっ滞の影響を受けやすい、脳の限定的な特定の解剖学的領域におけるCSFの流れおよび代謝回転の改善を促進する非侵襲的な処置が必要である。] [0007] 患者のアルツハイマー病を治療、阻害、または寛解させるためのシステム、装置、および方法であって、振動または音響エネルギーを患者の上顎骨に放射するための、電源に作動的に接続される1つ以上のトランスデューサを含み、上記エネルギーが、患者の副鼻腔を通じて患者の頭蓋底へ放射されて脳内の脳脊髄液の排出を補助するとともに、脳脊髄液の局所的うっ滞を阻害するのに十分である、システム、装置、および方法である。] [0008] 本開示のこれらおよび他の利点は、以下の詳細な説明および添付の図面を参照することにより、当業者には明白なものとなるであろう。] 図面の簡単な説明 [0009] 図1は、本開示によるCSFうっ滞防止システムおよび装置の例示的な実施の形態を示す図である;] 図1 [0010] 図2は、図1に示すCSFうっ滞防止システムおよび装置の1つ以上の駆動トランスデューサ用の発電機を示す概略図である;] 図1 図2 [0011] 図3は、本開示によるCSFうっ滞防止システムおよび装置の第2の例示的な実施の形態を示す図である;] 図3 [0012] 図4は、本開示によるCSFうっ滞防止システムおよび装置の第3の例示的な実施の形態を示す図である;] 図4 [0013] 図5は、本開示によるCSFうっ滞防止システムおよび装置の第4の例示的な実施の形態を示す図である;および] 図5 [0014] 図6は、本開示によるCSFうっ滞防止システムおよび装置の第5の例示的な実施の形態を示す図である。] 図6 実施例 [0015] 本明細書に、脳内におけるCSFのうっ滞を防止するための方法、装置、およびシステムを開示する。このCSFうっ滞防止方法、装置、およびシステムは、好ましくは口内装置および/または口外装置/外部装置を用いて、振動または音響エネルギーを骨伝導および/または空気伝導を介して副鼻腔を通じて頭蓋底へ伝達する。] [0016] 副鼻腔は、頭蓋顎顔面複合体(すなわち、顔面および頭蓋の骨)内の、薄壁で囲まれ、粘膜が広がる、中空の、空気で満たされた空間または空洞であり、鼻腔と連通している。人間は4対の副鼻腔を有し、内部に特定の洞がある骨を参照してしばしば呼び分けられる。これらは、上顎洞、篩骨洞、前頭洞、および蝶形骨洞である。上顎洞は眼の下方の上顎(頬)骨内にある。篩骨洞は鼻と眼の間の篩骨内にある。前頭洞は、眼の上方の前頭部の一部を形成する前頭骨内にある。蝶形骨洞は、下垂体の下方の頭蓋底の中心にある蝶形骨内にある。] [0017] 副鼻腔の生物学的機能は多くの議論および研究の対象となっているが、現在のところ、この問題に関しては、副鼻腔に関連した識別可能な機能で幅広く受け容れられているものはまだない。] [0018] 本明細書に開示するCSFうっ滞防止装置、システム、および方法では、副鼻腔を利用して、振動または音響エネルギーを骨伝導および/または空気伝導を介して前頭部および頭蓋底に伝達する。副鼻腔は中空な共振構造であり、咀嚼、歌唱、または大音量の音楽/騒音への暴露等の活動の際に、振動または音響エネルギーを頭蓋底および前頭部に自然に伝達すると考えられている。このエネルギーまたは共振は、CSF内で液体の波を発生させることによりCSFのダイナミクス(力学)に影響を与え、CSFが重力に逆らって流れる脳深部の緊密に巻かれている部分における局所的うっ滞を防止する。] [0019] これは、蝶形骨洞に特に当てはまる。蝶形骨洞は戦略上、海馬の前方、内側、かつ下方に位置する。海馬は、内側側頭葉に位置する脳の部分である。この部分は長期記憶に関係があり、最初にダメージを受ける脳の領域の1つであるためADに最も重要に関わっている。] [0020] より詳細には以下に説明するように、副鼻腔(特に、蝶形骨洞)を通じて、頭蓋底および前頭部に振動または音響エネルギーを伝達するために患者が使用する口内装置および/または外部装置を本明細書において開示する。口内装置および/または外部装置は、エネルギー源に接続される1つ以上のトランスデューサを含み、このトランスデューサは、上顎骨、好ましくは中顔面の底部に振動または音響エネルギーを作用させる。振動または音響エネルギーは、超低周波数(infrasonic frequencies)、可聴周波数(sonic frequencies)、超高周波数(supersonic frequencies)、または超音波周波数(ultrasonic frequencies)のものであってもよい。この方法では、エネルギーは、骨伝導および/または空気伝導を介して上顎骨から副鼻腔へ、究極的には頭蓋底へ到達する。この頭蓋底において、蝶形骨洞の後方かつ側方にある海馬等の緊密に巻かれた脳構造におけるCSFの排出が補助され、局所的CSFのうっ滞が防止される。] [0021] CSFうっ滞防止システム10の好ましい例示的な実施の形態を図1に示す。このCSFうっ滞防止システム10は、患者の上顎歯をぴったり覆うように嵌合することが可能なマウスピース20を含む。あるいは、マウスピース20は、歯のない患者の上顎を覆い嵌合するように構成されてもよい。マウスピース20は、ポリメチルメタクリレート(“PMMA”)、アクリル、あるいは別の適当なプラスチックまたは熱可塑性プラスチック材料等の、生体適合性で、患者の口内で使用しても安全な任意の適当な材料から作製してもよい。マウスピース20は、特定の患者の上顎歯または上顎を覆うように、ぴったりと、しかし快適に嵌合するように特別作製してもよい。] 図1 [0022] マウスピース20は、好ましくは、患者の歯または上顎が収まるための略U字型の溝22を含む。溝22は、基部22aおよび2つの直立壁22b、22cにより画成される。1つ以上のトランスデューサ30a、30b、30c、30dは、直立壁22bの内側に従来の方法で取り付けられる。トランスデューサ30a、30b、30c、30dが設置されるマウスピース20の中央部分は、これらのトランスデューサをカプセル状に包むように随意的に包囲または密封してもよい。] [0023] トランスデューサ30a、30b、30c、30dは、電気エネルギーを共振型の超音波、可聴波、または超高周波トランスデューサ等の力学的/振動エネルギーに変換するのに適当な任意のタイプのトランスデューサであってもよい。これらのトランスデューサは、例えば、振動素子として働く圧電材料(例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PdZrTiまたはPZT)またはチタン酸バリウム(BaTiO3))の薄いウェーハに電子オシレータの出力を作用させることにより、高強度の波またはエネルギーを生成する。] [0024] トランスデューサ30a、30b、30c、30dおよびそれぞれの電線または導線は、例えば、テフロン(登録商標)等の患者の口内で使用しても安全で好適な電気絶縁材料でコーティングまたは被覆されることが好ましい。マウスピース20は、好ましくは、1つ以上の絶縁電線40が貫通する中空の長いハンドル25を含む。この絶縁電線40は、絶縁コードまたはケーブルの形に束ねられてもよく、トランスデューサ30a、30b、30c、30dをこれらのトランスデューサを駆動する外部発電機50に電気的に接続する。] [0025] 外部発電機50は、例えば、従来のAC電源、バッテリーまたは太陽光発電、あるいは110ボルトまたは220ボルト電源等の任意の従来の電力源により電力を供給されてもよい。外部発電機50は、電力を供給するとともに、トランスデューサ30a、30b、30c、30dを制御するための信号を供給する。発電機50の出力は、約10キロヘルツから約300メガヘルツまたはそれ以上の範囲であることが好ましい。この好ましい実施の形態においては、発電機50の出力は、例えば、可変制御オシレータに接続される周波数調節ノブ51aを介して調節することができ、特定の患者の最適目標周波数を得ることができるとともに、タイマー51bを介して、経過するとトランスデューサ30a、30b、30c、30dへの電力が切断されるか、そうでなければ停止する治療時間を選択することができる。] [0026] 図2を参照すると、外部発電機50は、好ましくは、出力ドライバまたは増幅器54により所望の電力レベルに増幅され、電線またはケーブル40を介してトランスデューサ30a、30b、30c、30dに伝えられる制御信号を生成するプロセッサまたはマイクロプロセッサ52を含む。プロセッサ52は、トランスデューサから受信するフィードバック信号42に基づいて、トランスデューサ30a、30b、30c、30dを目標周波数に動的に同調させてもよい。] 図2 [0027] CSFうっ滞防止システム10の動作を以下に説明する。マウスピース20は、患者の上顎歯または上顎が溝22にぴったりと嵌合するように、患者の口内に挿入される。CSFうっ滞防止システム10は、所望の目標周波数および治療時間の長さに予めプログラムされるか、専門家がノブ51aを用いて患者のために所望の目標周波数を選択し、ノブ51bを用いて治療時間の長さを選択する。発電機50は、トランスデューサ30a、30b、30c、30dに所望の出力電力を供給する。トランスデューサは、骨伝導および/または空気伝導を介して上顎骨から副鼻腔へ、究極的には頭蓋底へ振動および/または音響エネルギーを所望の周波数で放射する。この頭蓋底において、蝶形骨洞の後方かつ側方にある海馬等の緊密に巻かれた脳構造におけるCSFの排出が補助され、局所的CSFのうっ滞が防止される。] [0028] CSFうっ滞防止装置10は、複数のトランスデューサ30a、30b、30c、30dを含むものとして説明および図示しているが、このシステム10は、最少で1つのトランスデューサを必要とし、患者に伝達される所望の振動エネルギーを生成する任意の数のトランスデューサを用いて利用してもよいと理解される。] [0029] CSFうっ滞防止システム100による別の実施の形態を図3に示す。CSFうっ滞防止システム100は、図1に示すものと類似しているが、CSFうっ滞防止システム100では、好ましくは、外部発電機50の論理回路および回路系が中空の長いハンドル125に組み込まれている。] 図1 図3 [0030] CSFうっ滞防止システム100は、好ましくは、マウスピース120、略U字型の溝部122、基部122a、直立壁122b、122c、および1つ以上のトランスデューサ130a、130b、130c、130dを含む。これらは、上述のCSFうっ滞防止システム10のマウスピース20、略U字型の溝部22、基部22a、直立壁22b、22c、および1つ以上のトランスデューサ30a、30b、30c、30dと同様のものである。] [0031] ハンドル125は、好ましくは剛性または準剛性の材料から構成される。1つ以上のバッテリー140、好ましくは充電可能なバッテリーは、ハンドル125内に設置される。 プロセッサまたはマイクロプロセッサ152は、バッテリー140に電気的に接続され、出力ドライバまたは増幅器154により所望の電力レベルまで増幅され、トランスデューサ130a、130b、130c、130dに伝えられる制御信号を生成する。プロセッサ152は、トランスデューサから受信するフィードバック信号に基づいて、トランスデューサ130a、130b、130c、130dを目標周波数に動的に同調させてもよい。あるいは、この装置は、トランスデューサ130a、130b、130c、130dに伝えられる電力レベルを調節および/または規定するための可変制御オシレータを含んでもよい。] [0032] CSFうっ滞防止システム100は、CSFうっ滞防止システム10に関して上記で説明したものと同様の方法で動作する。さらに、CSFうっ滞防止装置100は、複数のトランスデューサ130a、130b、130c、130dを含むものとして説明および図示しているが、このシステム100は、最少で1つのトランスデューサを必要とし、患者に伝達される所望の振動エネルギーを生成する任意の数のトランスデューサを用いて利用してもよいと理解される。] [0033] CSFうっ滞防止システム200による別の実施の形態を図4に示す。本実施の形態は特に全歯欠損の患者に対して有効である。CSFうっ滞防止システム200は、好ましくは、歯肉組織265の下側の上顎骨または上顎260に外科的に挿入されるインプラント230を含む。インプラント230は、好ましくは、ヘッド部分232、遠位端234、このヘッド部分と遠位端の間の雌ねじ部分236を含む。雌ねじ部分236は、骨260とのオステオインテグレーションを促進するように、限定されはしないが、酸エッチングまたはサンドブラスト処理を施した表面を含む特定の表面を有してもよく、骨内の雌ねじ切りの必要がなくインプラント230を骨260内に挿入できる切れ刃を追加したセルフタッピング領域を含んでもよい。インプラント230は、例えば、チタン、タンタル、コバルト、クロム、ステンレススチール、またはそれらの合金から作製してもよい。] 図4 [0034] インプラント230のヘッド部分232は、好ましくは、トランスデューサ210のインプラント230への取り付けを容易化するねじ穴232aを含む。トランスデューサ210は、電気エネルギーを共振型の超音波、可聴波、または超高周波トランスデューサ等の振動および/または音響エネルギーに変換するのに適当な任意のタイプのトランスデューサであってもよい。これらのトランスデューサは、例えば、振動素子として働く圧電材料(例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PdZrTiまたはPZT)またはチタン酸バリウム(BaTiO3))の薄いウェーハに電子オシレータの出力を作用させることにより、高強度の波またはエネルギーを生成する。] [0035] トランスデューサ210は、好ましくは、その一端に、インプラント230の穴232a内に形成される対応する雌ねじに受容され、取外し可能に係合する雄ねじ部分220を含む。あるいは、トランスデューサ210は、インプラント230のヘッド部分232から延在する雄ねじ柱または橋脚歯に取外し可能に係合するねじ穴を有してもよい。トランスデューサ210をインプラント230に取外し可能に取り付けるのに別の従来技術を用いてもよい。例えば、従来の橋脚歯または柱をインプラント230に取付け、または一体化してもよく、トランスデューサ210をインプラント230より延在するこの橋脚歯または柱に取外し可能に取り付けてもよい。] [0036] トランスデューサ210は、絶縁電線またはケーブル240を介して外部発電機250に電気的に接続される。外部発電機250は、電力を供給するとともに、1つ以上のトランスデューサ210を制御するための信号を供給する。外部発電機250は、例えば、従来のAC電源、バッテリーまたは太陽光発電、あるいは110ボルトまたは220ボルト電源等の任意の従来の電力源により電力を供給されてもよい。発電機250の出力は、約10キロヘルツから約300メガヘルツまたはそれ以上の範囲であることが好ましい。この好ましい実施の形態においては、発電機250の出力は、例えば、可変制御オシレータに接続される周波数調節ノブ251aを介して調節することができ、特定の患者の最適目標周波数を得ることができるとともに、タイマー251bを介して、経過するとトランスデューサ210への電力が切断されるか、そうでなければ停止する治療時間を選択することができる。] [0037] 図2に示す実施の形態のように、外部発電機250は、好ましくは、出力ドライバまたは増幅器により所望の電力レベルに増幅され、電線またはケーブル240を介してトランスデューサ210に伝えられる制御信号を生成するプロセッサまたはマイクロプロセッサを含む。このプロセッサは、トランスデューサから受信するフィードバック信号に基づいて、トランスデューサ210を目標周波数に動的に同調させてもよい。] 図2 [0038] CSFうっ滞防止システム200の動作を以下に説明する。インプラント230が患者の上顎骨または顎骨260に移植された後、例えば、トランスデューサ210の雄ねじ端220をインプラントに形成されるねじ穴232aに挿入することにより、トランスデューサ210はインプラント230に取外し可能に接続される。CSFうっ滞防止システム200は、所望の目標周波数および治療時間の長さに予めプログラムされるか、専門家がノブ251aを用いて患者のために所望の目標周波数を選択または調整し、ノブ251bを用いて治療時間の長さを選択または調整してもよい。発電機250は、トランスデューサ210に所望の出力電力を供給し、トランスデューサ210はインプラント230を通じて上顎骨260に所望の周波数の振動エネルギーを放射する。この振動エネルギーは、骨伝導および/または空気伝導を介して上顎骨から副鼻腔へ放射され、究極的には頭蓋底へ到達する。この頭蓋底において、蝶形骨洞の後方かつ側方にある海馬等の緊密に巻かれた脳構造におけるCSFの排出が補助され、局所的CSFのうっ滞が防止される。] [0039] CSFうっ滞防止システム200は、単一のトランスデューサ210を含むように上記に説明されているが、トランスデューサ210は集積化されるか、そうでなければこれに組み込まれる多数のトランスデューサを含んでもよいと理解される。] [0040] CSFうっ滞防止システム300による別の実施の形態を図5に示す。CSFうっ滞防止システム300は、ワンド310を含み、このワンドは一端またはその近傍に設置されるトランスデューサ320を有する。ワンド310は、例えば、プラスチックもしくは熱可塑性プラスチック等の剛性または準剛性の生体適合性材料から作製することが好ましい。] 図5 [0041] トランスデューサ320は、ワンド310の上記一端またはワンド310の空洞(不図示)内のいずれにあってもよい。単一のトランスデューサ320が図5に示されているが、トランスデューサ320は集積化されるか、そうでなければワンド310上またはワンド310内に組み込まれる多数のトランスデューサを含んでもよいと理解される。トランスデューサー320は、電気エネルギーを共振型の超音波、可聴波、または超高周波トランスデューサ等の振動および/または音響エネルギーに変換するのに適当な任意のタイプのトランスデューサであってもよい。これらのトランスデューサは、例えば、振動素子として働く圧電材料(例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PdZrTiまたはPZT)またはチタン酸バリウム(BaTiO3))の薄いウェーハに電子オシレータの出力を作用させることにより、高強度の波またはエネルギーを生成する。] 図5 [0042] トランスデューサ320がワンド310の上記一端に取り付けられるならば、例えば、トランスデューサを密封および電気的に絶縁するとともに、トランスデューサを患者の歯、歯ぐき、または別の組織に適用するための滑らかな表面を提供するテフロン(登録商標)等の保護的な生体適合性コーティングによりコーティングされることが好ましい。あるいは、トランスデューサ320がワンド310の空洞内に設置されるならば、トランスデューサ320が設置されるワンド310の上記一端は、患者の歯、歯ぐき、または別の組織への適用において快適な表面を提供するように滑らかであることが好ましい。また、ワンドの上記一端は、患者の歯、歯ぐき、または別の組織への適用において快適な表面を提供するように保護的な生体適合性の表面またはコーティングが施されていてもよい。] [0043] トランスデューサ320は、絶縁電線またはケーブル340を介して外部発電機350に電気的に接続される。外部発電機350は、電力を供給するとともに、トランスデューサ320を制御するための信号を供給する。外部発電機350は、例えば、従来のAC電源、バッテリーまたは太陽光発電、あるいは110ボルトまたは220ボルト電源等の任意の従来の電力源により電力を供給されてもよい。発電機350の出力は、約10キロヘルツから約300メガヘルツまたはそれ以上の範囲であることが好ましい。この好ましい実施の形態においては、発電機350の出力は、例えば、可変制御オシレータに接続される周波数調節ノブ351aを介して調節することができ、特定の患者の最適目標周波数を得ることができるとともに、タイマー351bを介して、経過するとトランスデューサ320への電力が切断されるか、そうでなければ停止する治療時間を選択することができる。] [0044] 図2に示す実施の形態のように、外部発電機350は、好ましくは、出力ドライバまたは増幅器により所望の電力レベルに増幅され、電線またはケーブル340を介してトランスデューサ320に伝えられる制御信号を生成するプロセッサまたはマイクロプロセッサを含む。このプロセッサは、トランスデューサから受信するフィードバック信号に基づいて、トランスデューサ320を目標周波数に動的に同調させてもよい。] 図2 [0045] CSFうっ滞防止システム300の動作を以下に説明する。CSFうっ滞防止システム300は、所望の目標周波数および治療時間の長さに予めプログラムされるか、専門家がノブ351aを用いて所望の目標周波数を患者のために選択または調整し、ノブ351bを用いて治療時間の長さを選択または調整してもよい。発電機350は所望の出力電力を、所望の周波数の振動エネルギーを放射するトランスデューサ320に供給する。トランスデューサ320が設置されるワンド310の一端は、患者の上顎歯または歯ぐきに押し当たるように口内に(または、上顎歯、歯ぐき、または頬骨に近接する患者の顔面の皮膚に口外から押し当たるように)配置することが好ましく、トランスデューサ320からの振動および/または音響エネルギーは、骨伝導および/または空気伝導を介して上顎骨から副鼻腔へ、究極的には頭蓋底に放射される。この頭蓋底において、蝶形骨洞の後方かつ側方にある海馬等の緊密に巻かれた脳構造におけるCSFの排出が補助され、局所的CSFのうっ滞が防止される。] [0046] CSFうっ滞防止システム400による別の実施の形態を図6に示す。CSFうっ滞防止システム400は図5に示すものと類似しているが、CSFうっ滞防止システム400では、好ましくは、外部発電機350の論理回路および回路系がワンド410に組み込まれている。このワンド410は好ましくは中空であるとともに、このワンド410の一端またはその近傍に取り付けられる1つ以上のトランスデューサ420を有する。トランスデューサ420は、前述の実施の形態において説明したトランスデューサ320と同様のものである。] 図5 図6 [0047] 図5に示すワンド310のように、トランスデューサ420は、例えば、トランスデューサを密封および電気的に絶縁するとともに、トランスデューサを患者の歯、歯ぐき、または別の組織に適用するための滑らかな表面を提供するテフロン(登録商標)等の保護的な生体適合性コーティングによりコーティングされてもよい。あるいは、トランスデューサ420がワンド410の内側に設置されるならば、トランスデューサ420が設置されるワンドの上記一端は、患者の歯、歯ぐき、または別の組織への適用において快適な表面を提供するように滑らかであることが好ましい。また、ワンドの上記一端は、患者の歯、歯ぐき、または別の組織への適用において快適な表面を提供するように保護的な生体適合性の表面またはコーティングが施されていてもよい。] 図5 [0048] 1つ以上のバッテリー430、好ましくは充電可能なバッテリーは、ワンド410内に設置される。プロセッサまたはマイクロプロセッサ440は、バッテリー430に電気的に接続され、出力ドライバまたは増幅器450により所望の電力レベルまで増幅され、トランスデューサ420に伝えられる制御信号を生成する。このプロセッサ440は、トランスデューサから受信するフィードバック信号に基づいて、トランスデューサ420を目標周波数に動的に同調させてもよい。あるいは、この装置400は、トランスデューサ420に伝えられる電力レベルを調節および/または規定するための可変制御オシレータを含んでもよい。] [0049] CSFうっ滞防止システム400は、図5に示すCSFうっ滞防止システム300に関して上記で説明したものと同様の方法で動作する。] 図5 [0050] 上述の口内装置および外部装置は、振動および/または音響エネルギーを生成および伝達するための好ましい例示的な実施の形態であり、この振動および/または音響エネルギーは、骨伝導および/または空気伝導を介して上顎骨から副鼻腔へ放射され、究極的には頭蓋底へ到達し、この頭蓋底において、蝶形骨洞の後方かつ側方にある海馬等の緊密に巻かれた脳構造におけるCSFの排出が補助され、局所的CSFのうっ滞が防止される。これらの装置は、脳の重要な解剖学的部位における局所的CSFのうっ滞の防止を助けるものとなるとともに、ADに対する予防手段として働き、および/または進行を遅らせることができる。] [0051] 上述の口内装置および外部装置は、CSFの排出をさらに補助し、局所的CSFのうっ滞を防止するには、後にもたれかかる姿勢または仰臥位の患者に使用してもよい。] [0052] 音響エネルギーを放射する別の装置も、骨伝導を介して頭蓋底へエネルギーを伝達し、脳の重要な解剖学的部位における局所的CSFのうっ滞を防止するために利用することができ、ADに対する予防手段として働き、および/または進行を遅らせることができると理解される。例えば、音響エネルギーを放出するスピーカまたは別のタイプのトランスデューサにより生成される音響エネルギーは、これらの効果を実現するために利用することができる。] [0053] さらに、本明細書に開示する装置により、髄腔内および静脈内の薬物、化合物、移植細胞および組織、ならびにCSF内の遺伝子改変された細胞の分配および分散を助けてもよい。同様に、本明細書に開示する装置により、CSF内およびCSF外への分子、イオン、およびタンパク質の運搬に関わる臨床および科学的研究を助けてもよい。] [0054] 1つ以上の好ましい実施の形態を参照することにより本出願の原理を説明および図示してきたが、上記好ましい実施の形態は本明細書に開示する原理を逸脱することなく構成および細部を変更してもよく、このような変更および変形が本明細書に開示する対象の精神および範囲内にある限り、本出願はこれらの全体を含むと解釈されることが意図されていることは明白である。]
权利要求:
請求項1 患者の脳内における脳脊髄液の局所的うっ滞を治療、阻害、または寛解させるための方法であって、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎骨に投与する工程を備え、前記エネルギーは、前記患者の副鼻腔を通じて前記患者の頭蓋底へ放射されて、脳内の脳脊髄液の排出を補助するとともに、脳脊髄液の局所的うっ滞を阻害するのに十分である、方法。 請求項2 前記振動または音響エネルギーは、電源に作動的に接続された1つ以上のトランスデューサを介して前記上顎骨に投与される、請求項1に記載の方法。 請求項3 前記1つ以上のトランスデューサは、前記患者の1つ以上の上顎歯にエネルギーを放射する、請求項2に記載の方法。 請求項4 前記患者の上顎歯または上顎を覆うようにマウスピースを挿入する工程をさらに備え、前記1つ以上のトランスデューサは、前記マウスピース上に配設されるとともに、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎歯または上顎に向かわせる、請求項2に記載の方法。 請求項5 前記1つ以上のトランスデューサは、超音波トランスデューサである、請求項2に記載の方法。 請求項6 前記1つ以上のトランスデューサは、可聴波トランスデューサである、請求項2に記載の方法。 請求項7 前記1つ以上のトランスデューサは、超高周波トランスデューサである、請求項2に記載の方法。 請求項8 前記トランスデューサは、前記患者の上顎骨に配設されたインプラントに取外し可能に接続される、請求項2に記載の方法。 請求項9 前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織にワンドを当接させる工程をさらに備え、前記1つ以上のトランスデューサは、前記ワンド上に配設されるとともに、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織に向かわせる、請求項2に記載の方法。 請求項10 患者のアルツハイマー病を治療、阻害、または寛解させるための方法であって、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎骨に投与する工程を備え、前記エネルギーは、前記患者の副鼻腔を通じて前記患者の頭蓋底へ放射されて、脳内の脳脊髄液の排出を補助するとともに、脳脊髄液の局所的うっ滞を阻害するのに十分である、方法。 請求項11 前記振動または音響エネルギーは、電源に作動的に接続された1つ以上のトランスデューサを介して前記上顎骨に投与される、請求項10に記載の方法。 請求項12 前記1つ以上のトランスデューサは、前記患者の1つ以上の上顎歯にエネルギーを放射する、請求項11に記載の方法。 請求項13 前記患者の上顎歯または上顎を覆うようにマウスピースを挿入する工程をさらに備え、前記1つ以上のトランスデューサは、前記マウスピース上に配設されるとともに、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎歯または上顎に向かわせる、請求項11に記載の方法。 請求項14 前記1つ以上のトランスデューサは、超音波トランスデューサである、請求項11に記載の方法。 請求項15 前記1つ以上のトランスデューサは、可聴波トランスデューサである、請求項11に記載の方法。 請求項16 前記1つ以上のトランスデューサは、超高周波トランスデューサである、請求項11に記載の方法。 請求項17 前記トランスデューサは、前記患者の上顎骨に配設されたインプラントに取外し可能に接続される、請求項11に記載の方法。 請求項18 前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織にワンドを当接させる工程をさらに備え、前記1つ以上のトランスデューサは、前記ワンド上に配設されるとともに、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織に向かわせる、請求項11に記載の方法。 請求項19 患者の脳内における脳脊髄液の局所的うっ滞を治療、阻害、または寛解させるためのシステムであって、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎骨に放射するための、電源に作動的に接続された1つ以上のトランスデューサを備え、前記エネルギーは、前記患者の副鼻腔を通じて前記患者の頭蓋底へ放射されて、脳内の脳脊髄液の排出を補助するとともに、脳脊髄液の局所的うっ滞を阻害するのに十分である、システム。 請求項20 前記1つ以上のトランスデューサに作動的に接続されるとともに、所望の周波数で電力を供給する発電機をさらに備える、請求項19に記載のシステム。 請求項21 前記1つ以上のトランスデューサは、超音波トランスデューサである、請求項19に記載のシステム。 請求項22 前記1つ以上のトランスデューサは、可聴波トランスデューサである、請求項19に記載のシステム。 請求項23 前記1つ以上のトランスデューサは、超高周波トランスデューサである、請求項19に記載のシステム。 請求項24 前記患者の上顎歯または上顎を受容するための溝を有するマウスピースをさらに備え、前記1つ以上のトランスデューサは、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎歯または上顎に向かわせるために前記マウスピース上に配設される、請求項20に記載のシステム。 請求項25 前記マウスピースに接続されたハンドルをさらに備え、前記発電機は、前記ハンドル内に配設される、請求項21に記載のシステム。 請求項26 前記患者の上顎骨に挿入するためのインプラントをさらに備え、前記トランスデューサは、前記インプラントを通じて上顎骨に振動または音響エネルギーを向かわせるための前記インプラントに取外し可能に接続される、請求項20に記載のシステム。 請求項27 前記トランスデューサを前記インプラントに取外し可能に接続する手段をさらに備える、請求項26に記載のシステム。 請求項28 前記1つ以上のトランスデューサが配設されるワンドをさらに備え、前記ワンドを前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織に接触させると、前記1つ以上のトランスデューサは、前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織に振動または音響エネルギーを向かわせる、請求項20に記載のシステム。 請求項29 前記発電機は前記ワンド内に配設される、請求項28に記載のシステム。 請求項30 患者のアルツハイマー病を治療、阻害、または寛解させるためのシステムであって、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎骨に放射するための、電源に作動的に接続された1つ以上のトランスデューサを備え、前記エネルギーは、前記患者の副鼻腔を通じて前記患者の頭蓋底へ放射されて、脳内の脳脊髄液の排出を補助するとともに、脳脊髄液の局所的うっ滞を阻害するのに十分である、システム。 請求項31 前記1つ以上のトランスデューサに作動的に接続されるとともに、所望の周波数で電力を供給する発電機をさらに備える、請求項30に記載のシステム。 請求項32 前記1つ以上のトランスデューサは、超音波トランスデューサである、請求項30に記載のシステム。 請求項33 前記1つ以上のトランスデューサは、可聴波トランスデューサである、請求項30に記載のシステム。 請求項34 前記1つ以上のトランスデューサは、超高周波トランスデューサである、請求項30に記載のシステム。 請求項35 前記患者の上顎歯または上顎を受容するための溝を有するマウスピースをさらに備え、前記1つ以上のトランスデューサは、振動または音響エネルギーを前記患者の上顎歯または上顎に向かわせるために前記マウスピース上に配設される、請求項31に記載のシステム。 請求項36 前記マウスピースに接続されたハンドルをさらに備え、前記発電機は、前記ハンドル内に配設される、請求項35に記載のシステム。 請求項37 前記患者の上顎骨に挿入するためのインプラントをさらに備え、前記トランスデューサは、前記インプラントを通じて上顎骨に振動または音響エネルギーを向かわせるための前記インプラントに取外し可能に接続される、請求項31に記載のシステム。 請求項38 前記トランスデューサを前記インプラントに取外し可能に接続する手段をさらに備える、請求項37に記載のシステム。 請求項39 前記1つ以上のトランスデューサが配設されるワンドをさらに備え、前記ワンドを前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織に接触させると、前記1つ以上のトランスデューサは、前記患者の上顎歯、歯ぐき、または組織に振動または音響エネルギーを向かわせる、請求項31に記載のシステム。 請求項40 前記発電機は前記ワンド内に配設される、請求項39に記載のシステム。
类似技术:
公开号 | 公开日 | 专利标题 JP6411563B2|2018-10-24|気道確保の装置及び方法 US20200046603A1|2020-02-13|Vibratory Energy Systems and Methods for Occluded Body Cavities KR101686783B1|2016-12-15|저온 플라즈마를 이용한 휴대용 피부 미용기 US10080893B2|2018-09-25|Varying the effective coil area for an inductive transcutaneous power link JP5739492B2|2015-06-24|治療微小振動装置 US8840537B2|2014-09-23|Non-invasive treatment of bronchial constriction US6272382B1|2001-08-07|Fully implantable cochlear implant system US9452286B2|2016-09-27|Systems and methods for implantable leadless tissue stimulation US6312469B1|2001-11-06|Lamina prosthesis for delivery of medical treatment US7905845B2|2011-03-15|Pressure pulse/shock wave therapy methods and an apparatus for conducting the therapeutic methods US20180296435A1|2018-10-18|Auricular peripheral nerve field stimulator and method of operating same US6022349A|2000-02-08|Method and system for therapeutically treating bone fractures and osteoporosis US20150173856A1|2015-06-25|Intra-oral vibrating othodontic devices EP1145734B1|2005-11-23|Mindestens teilimplantierbares System zur Rehabilitation einer Hörstörung CA2607182C|2011-01-25|Therapeutic micro-vibration device JP5175193B2|2013-04-03|埋込医療機器をフィードバック制御するための埋込センサの使用法 CA2847786C|2017-07-04|An oral device and kit for use in association therewith EP0802770B1|2000-12-20|Acoustic system for bone-fracture therapy EP2829259B1|2019-04-10|Vestibular stimulation apparatus ES2303812T3|2008-09-01|Aparato para tratar organismos vivos y reducir la carga cardiaca. US6251088B1|2001-06-26|Ultrasonic plantar fasciitis therapy: apparatus and method AU783843B2|2005-12-15|Implantable medical device comprising an hermetically sealed housing EP2064916B1|2018-12-05|Methods and apparatus for treating tinnitus US20180221544A1|2018-08-09|Implantable device having osseointegrating protuberances AU779151B2|2005-01-06|Vestibular stimulation system and method
同族专利:
公开号 | 公开日 KR20100126425A|2010-12-01| AU2009219429A1|2009-09-03| EP2244683A1|2010-11-03| US20090216178A1|2009-08-27| WO2009108629A1|2009-09-03| CN101951865A|2011-01-19| CA2715068A1|2009-09-03| EP2244683A4|2011-03-09|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
2012-02-25| A521| Written amendment|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120224 | 2012-02-25| A621| Written request for application examination|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120224 | 2013-05-29| A072| Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination]|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073 Effective date: 20130528 |
优先权:
[返回顶部]
申请号 | 申请日 | 专利标题 相关专利
Sulfonates, polymers, resist compositions and patterning process
Washing machine
Washing machine
Device for fixture finishing and tension adjusting of membrane
Structure for Equipping Band in a Plane Cathode Ray Tube
Process for preparation of 7 alpha-carboxyl 9, 11-epoxy steroids and intermediates useful therein an
国家/地区
|