![]() 誘電体バリア放電ポンプ装置および方法
专利摘要:
流体流を加速させるための誘電体要素バリア放電ポンプである。一実施形態において、ポンプは、内部に第1電極が埋設された第1誘電体層と、内部に第2電極が埋設された第2誘電体層とを有する。第1および第2誘電体層はさらに、互いに離間して支持されて、間に空隙を形成している。流体流の流れの方向に対して、第1および第2電極の上流の空隙に少なくとも部分的に第3電極が設置されている。高電圧は、第3電極に高電圧信号を供給する。電極は、間隙内に誘導空気流を生成させる対向する非対称プラズマ場を間隙内に発生させるよう協働する。誘導空気流は、流体流が間隙を通って進むにつれて流体流を加速させるよう作用する。 公开号:JP2011511615A 申请号:JP2010544981 申请日:2008-12-22 公开日:2011-04-07 发明作者:ブラッドリー;エー. オズボーン,;ジョゼフ;エス. シルキー,;リチャード;エス. ダイアー, 申请人:ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company; IPC主号:H02N13-00
专利说明:
[0001] 本開示は、一般にポンプに関し、より詳細には、非対称プラズマ場の生成を通じて、かつ、典型的には流体ポンプに付随する可動部品を必要とせずに、流体噴流を発生させることのできる誘電体バリア放電ポンプ装置および方法に関する。] 背景技術 [0002] 本項における記述は、単に、本開示に関連する背景情報を提供するに過ぎず、かつ、先行技術を構成するものではない。 数多くの用途では、流体が流れているダクトやその他の形態の閉じ込められた領域内において(例えば、空気流、排気流、ガス流などのような)流体流を加速させることができるか、流体の放出、注入もしくは混合用または空気力学的制御もしくは推進の目的用に流体噴流を形成することが望ましいであろう。場合によっては、従来のポンプや類似の装置を用いてもこれは特に困難であり得る。一つには、ダクトまたは導管内にポンプを物理的に取り付けることが困難である。また別の課題としては、ポンプは、ダクトを通じた流体流を著しく妨げるであろう物理的大きさでなければならない可能性があるか、反対に、ダクトまたは導管の直径が容認できないほどの大きさを要する可能性がある。さらには、電気モータによる駆動を要する可能性がある従来のポンプは、典型的に、数多くの可動部品を有する。モータやポンプ自体に数多くの可動部品が存在することにより、定期的な整備および/または修理の必要が生じる可能性があり、ポンプがダクトや導管内に取り付けられている場合は、これら整備および/または修理が困難、かつ、時間がかかるかもしれない。従来のポンプはまた、騒音も大きく、かつ、さまざまな用途における使用を限定するかなりの重量があることがある。] [0003] 本開示は、(例えば、空気流、ガス流、排気流などの)流体が流れているダクト内においてポンプとして用いるのに特に十分に適した誘電体バリア放電装置および方法に関する。一実施形態において、該装置は、内部に第1電極が埋設された第1誘電体層を含む。第2電極は、流体流の流れの方向に対して第1電極の上流の空隙に少なくとも部分的に設置されている。高電圧源は、第2電極に高電圧信号を供給する。電極は、空隙内に誘導空気流を生成する非対称プラズマ場を空隙内に発生させるよう協働する。誘導空気流は、流体流が空隙を通って移動するにつれて流体流を加速させる。] [0004] さまざまな実施形態において、2層以上の離間した誘電体層が用いられ、各々が、少なくとも1つの埋設電極を有する。誘電体層間の空隙に露出電極が位置している。空隙を通じた流れを加速させるのに役立つ一対の非対称対向プラズマ場が発生される。] [0005] 一構成において、ダクトを通る流体を加速させるための流体流ポンプの形成方法を開示する。該方法は、 第1誘電体層内に少なくとも部分的に第1電極を設置し、 ダクト内に前記第1誘電体層を設置し、 第2誘電体層内に少なくとも部分的に第2電極を設置し、 第1誘電体層と概して対面する関係になるように、かつ、第1誘電体層と第2誘電体層との間に空隙が形成されるように、ダクト内に第2誘電体層を設置し、 第3電極が空隙内に少なくとも部分的に存在し、かつ、空隙を通る流体の流れの方向に対して誘電体層の上流端に向かって存在するように、ダクト内に第3電極を位置させ、 第3電極を電気的に励起して、第3電極、第1電極および第2電極が空隙内で対向する非対称電界を協働して発生させることにより、空隙を通る誘導流を発生させることを含んでいてもよい。誘導流は、流体が空隙を通って流れるにつれて流体を加速させるよう作用する。] [0006] さまざまな実施形態および構成において、より多くの複数の電極を使用して、流体流を加速可能な複数の離間した空隙を形成してもよい。] [0007] ここに示される説明からさらなる適用可能分野が明らかになるであろう。説明および特定の実施例は、例示のためにのみ意図されており、本開示の範囲を限定するよう意図されてはいないことは理解されるべきである。] 図面の簡単な説明 [0008] ここに説明される図面は、単に例示目的のものであり、本開示の範囲をいかようにも限定するよう意図されてはいない。 図1は、本開示に係る流体流加速装置の一実施形態の模式図である。 図1Aは、単一の埋設電極しか含まれていない装置の異なる実施形態の模式図である。 図1Bは、完全な十分に形成されたダクトが得られない場合の使用に適した装置の異なる実施形態の模式図である。 図2は、図1に示した流体流加速装置を9つ用いる二次元流体流加速システムの側面図である。 図3は、図1に示した流体流加速装置を複数用いる三次元流体流加速システムを通じたカットである。 図4は、図1に示したようなシステムを形成する作業のフローチャートである。] 図1 図1A 図1B 図2 図3 図4 実施例 [0009] 以下の説明は、本質的に単なる代表例に過ぎず、本開示、用途または使用を限定するよう意図されてはいない。図面全体を通じて、対応する参照番号が、同様のまたは対応する部品および特徴を示していることは理解されるべきである。] [0010] 図1を参照して、流体流加速装置10を示す。制御器12と関連付けて該装置を使用することにより、流体流加速システム14を形成する。装置10は、ダクト16もしくは導管内、または、閉じ込められたもしくは半分閉じ込められた流体流が存在し、流体流を加速させることが望まれる何らかの構成要素や構造内に位置していてもよい。] 図1 [0011] 図1をさらに参照して、装置10は、ダクト16の内部壁に固定された第1誘電体層18と、対面(すなわち、対向)関係となるようにダクトの内部壁に固定された第2誘電体層20とを含む。第1誘電体層18は、層18内に少なくとも実質的に埋設された第1電極22を含む。第2誘電体層20は、層20内に少なくとも実質的に埋設された第2電極を含む。誘電体層18および20の位置づけにより、これらの間に空隙26が形成されている。好ましくは、空隙26間隔は、約0.1インチ〜1.0インチ(3mm〜25mm)であるが、用途によっても変化する可能性がある。誘電体層18および20はまた、ダクト16の内部表面内の凹部に取り付けられ(recessed mounted)ていても、ダクト16の壁に形成された開口内に位置していてもよい。いかなる取り付け配置も本開示の範囲内であると考えられる。] 図1 [0012] 装置10は、交流(AC)高電圧源28をさらに含み、該交流高電圧源28は、好ましくは、誘電体の電気強度および厚みにより約1KVAC〜100KVACのピークツーピーク出力を発生している。AC電圧源28の出力30は、第3(すなわち、非埋設)電極32に印加される。第3電極32は、1つ以上の放射状に延在する支柱(図示せず)によってなどの何らかの適切な手法でダクト16内に支持されている。第3電極32はまた、誘電体層18および20の上流端34に隣接して設置されている。「上流端」とは、ダクト16を通る流体36の流れの方向を考慮したとき、誘電体層18および20の上流側へ向かう位置を意味する。本実施例において、流体36は、ダクト16を通って左から右へ流れているので、誘電体層18および20の上流端34は、誘電体層18および20の左側となる。第3電極32は、図1において空隙26内(すなわち、誘電体層18および20が境界となる領域内)に完全に位置するものとして示されているが、第3電極32は、部分的に空隙26の外部に、すなわち、誘電体層18および20が境界となる領域から外向きに位置させることも可能である。] 図1 [0013] AC電圧源28の動作は、制御器12により制御される。制御器は、AC電圧源28が所望の周波数の高電圧パルスを発生するように、AC電圧源28を制御してもよい。高電圧源の波形は、正弦波、矩形波、鋸歯状波もしくは短期間(ナノ秒)パルスまたはこれらパルスの何らかの組み合わせであってもよい。任意の用途の特定の需要によって、その他のあらゆる制御方式を実施してもよい。] [0014] 誘電体層18および20は、同じ厚みおよび長さであるとして図1に示されているが、これは、必須というわけではない。したがって、誘電体層18および20の厚みおよび長さは、特定の用途に適するように変化させてもよい。しかしながら、図1に示されている実施形態においては、各誘電体層18および20の厚みは、約0.01インチ〜0.5インチ(0.254mm〜0.127mm)であることが好ましい。各誘電体層18および20の長さもまた、任意の用途の需要を満たすように変化させてもよいが、たいていの場合、その内部に埋設されている電極(22または24)の長さより少なくともわずかに長いだろう。一例として、各電極22および24の長さは、約0.5インチ〜3インチ(13mm〜75mm)とすることができ、各誘電体層18および20の長さはさらに、約1.0インチ〜4.0インチ(25.4mm〜101.6mm)の間とすることができる。誘電体層18および20は、テフロン(R)、カプトン(R)、石英、サファイア、または、良好な絶縁耐力を有するその他の何らかの簡便な絶縁体から構成されていてもよい。電極22および24は、銅、アルミニウム、または、簡便な導体を形成するその他の何らかの材料から形成されていてもよい。] 図1 [0015] 動作中は、AC電圧源28は、第3電極32に通電する出力線32に高電圧信号を供給する。これにより、第3電極32、第1電極22および第2電極24が協働して一対の非対称に加速されたプラズマ場38および40を形成することができる。「非対称」とは、図示されているようにプラズマ場の力の強度が下流方向に大きくなることを意味し、このことは、場が誘電体層18および20の下流端42に向かうにつれての各場38および40の先細り形状により示されている。非対称プラズマ場38および40は、空隙26を通る誘導空気流44を生成する。誘導空気流44は、ダクト16を通って流れている流体36の流れを加速させるよう作用する。流体36は、排気ガスであっても、空気流であってもよく、事実上いかなる形態のイオン化ガスを含んでいてもよい。] [0016] 装置10の数多くの種々の実施形態は、上記の教示を用いて構築することができる。例えば、図1Aに示すように、図1に示した装置10の半分に相当する装置10’を構築することができる。ここで、露出電極32’は、内部ダクト壁16’の一方を形成するか、完全または部分的に覆う誘電体層42’に埋設されている。図1Bは、露出電極32’’と誘電体層42’’に埋設された電極24’’とを有する装置10’’の別の実施形態を示している。装置10’’は、完全に形成されたダクトがない状態で構成および使用可能である。本実施例においては、露出電極32’’は、誘電体層42’’から所望の距離に維持するために何らかの外部支持体または支柱により支持されている必要があるだろう。] 図1 図1A 図1B [0017] 図2を参照して、例えば、合計9つの流れ加速装置10’および10aを使用する二次元流れ加速システム100を示す。システム100は、三段二ポンプシステムを形成している。流れ加速装置10’の各々は、各流れ加速装置10’が誘電体層18’および20’内にそれぞれ完全に埋設されている電極22’および24’を含むことを除いて、図1に示した流れ加速装置10と構造上同一である。図1および図2における類似の構成要素は、同じ参照番号を付しているが、図2では各番号にダッシュが用いられている。] 図1 図2 [0018] 図2におけるシステム100は、最内部の2つの誘電体層20’および18’ならびに3つの電極32aを利用して、3つの中央配置装置10aを形成する。それ以外は、電極32aは、電極32および32’と構造上同一である。図面が煩雑になるのを避けるために、AC電圧源28ならびにAC電圧源28を非埋設電極32’および32aの各々に結合する出力線は省略している。制御器12もまた省略している。図2のシステム100は、流体が流れる可能性のある3つの別個の空隙26a、26bおよび26cを形成している。誘電体層18’および20’は、長手方向に隣接した装置10’および10aの間の間隙を許容しつつ電極22’を内部に封入するように各々が十分な長さを有しており、その結果、一方の装置(10’または10a)の非埋設電極(32’または32a)は、長手方向に隣接した装置10’または10aと干渉しない。装置10’および10aは、図における左から右へまたはその他の何らかの所望の順序で次々に通電されてもよい。] 図2 [0019] 図3を参照して、三次元流れ加速システム200を示す。システム200は、例えば、システム100と同様の四段三ポンプシステムを形成するが、装置10’から横にずらすことのできる追加の装置10aを含む。「横にずらす」とは、装置10aが、例えば、Z平面に沿って装置10’とは異なる位置に存在していてもよいことを意味する。したがって、三次元に複数の流路26’が生成されていてもよい。該ずらし配置によって、より小さい体積および短い長さでより効率的に作動段を詰め込むことができる。] 図3 [0020] 図4は、装置10のような誘電体バリア放電ポンプを用いたシステム14のような流れ加速システムの形成方法を示すフローチャート300である。作業302において、各層が自らの埋設電極を有する状態でダクト内に誘電体層を配置することにより、層間に空隙を形成する。作業304において、埋設電極の上流端に隣接して非埋設電極を配置する。作業306において、高電圧AC電圧源を非埋設電極と結合する。作業308において、非埋設電極に通電して、空隙内に対向する非対称プラズマ場を発生させる。プラズマ場は、ダクトを通って流れる流体を加速させる役割を果たす誘導空気流を空隙内に生じさせる。] 図4 [0021] ここに説明したさまざまな実施形態はすべて、可動部品を有する装置を必要とすることなく流体流を加速させる手段を形成する。したがって、ここに開示したさまざまな実施形態により、自らの動作のために可動部品を必要とする以前に開発されたポンプにより可能であろうものより信頼性の高い、軽量かつ潜在的に安価な流れ加速システムを実施可能である。] [0022] さまざまな実施形態を説明したが、当業者は、本開示から逸脱することなく行ってもよい変更または変形例を認識するだろう。実施例は、さまざまな実施形態を示しており、本開示を限定するよう意図されてはいない。したがって、説明および請求項は、関連する従来技術を鑑みて必要な限定のみとともに寛容に解釈すべきである。]
权利要求:
請求項1 内部に第1電極が埋設された誘電体層と、流体流の流れの方向に対して前記第1電極の上流に存在し、さらに誘電体表面から離間して支持されることにより間に間隙を形成する第2電極と、第2電極に高電圧信号を供給する高電圧源とを含む、流体流を加速させるための誘電体要素バリア放電ポンプであって、前記第2電極と前記第1電極とが協働して、前記間隙内に誘導空気流を生成するプラズマ場を前記間隙において発生させ、前記誘導空気流が、前記流体流が前記間隙を通って移動するにつれて前記流体流を加速させるポンプ。 請求項2 前記プラズマ場が、非対称加速プラズマ場を含む請求項1に記載のポンプ。 請求項3 露出電極が、長い方のダクトを形成する第2壁に取り付けられているか、または埋設されている、請求項1に記載のポンプ。 請求項4 前記第1電極および前記第2電極に電気的に結合された接地面をさらに含む、請求項1に記載のポンプ。 請求項5 前記高電圧源が約1KVAC〜100KVACの交流高電圧源を含む、請求項1に記載のポンプ。 請求項6 前記空隙が約0.1インチ〜1.0インチの距離を形成する、請求項1に記載のポンプ。 請求項7 追加の誘電体層に埋設されて、前記第1電極および前記誘電体層から離間して支持されており、さらに前記第2電極から離間して支持されていることにより間に第2間隙を形成する第3電極をさらに含む、請求項1に記載のポンプ。 請求項8 前記誘電体層に設置された第4電極、および前記追加の誘電体層に埋設されて、前記第2電極から長手方向に離間された第5電極をさらに含み、前記間隙の長手方向下流の前記第4電極および前記第5電極の間に追加の間隙が形成されており、少なくとも部分的に前記追加の間隙内に設置された第6電極をさらに含み、前記第4電極、前記第5電極および前記第6電極が、前記交流電圧源により電気的に励起されて、前記第4電極および前記第5電極の間に追加の対向するプラズマ場を形成することにより、追加の誘導流体流を生成させ、したがって前記流体流が前記追加の間隙を通って流れるにつれて前記流体流をさらに加速させる、請求項7に記載のポンプ。 請求項9 前記誘電体層の両方が、一対の概して平行かつ離間した表面上に設置されている、請求項7に記載のポンプ。 請求項10 ダクトを通る流体を加速させるための流体流ポンプの形成方法であって、少なくとも部分的に第1誘電体層内に第1電極を設置し、前記ダクト内に前記第1誘電体層を設置し、少なくとも部分的に第2誘電体層内に第2電極を設置し、前記第1誘電体層と概して対面する関係になるように、かつ前記第1誘電体層と前記第2誘電体層との間に空隙が形成されるように、前記ダクト内に前記第2誘電体層を設置し、第3電極が少なくとも部分的に前記空隙内に存在し、かつ前記空隙を通る前記流体の流れの方向に対して前記誘電体層の上流端に向かって存在するように、前記ダクト内に前記第3電極を位置させ、前記第3電極を電気的に励起して、前記第3電極、前記第1電極および前記第2電極が、前記空隙内で対向する非対称電界を協働して発生させ、これにより前記空隙を通る誘導流を発生させ、前記誘導流は、前記流体が前記空隙を通って流れるにつれて前記流体を加速させるよう作用することを含む方法。 請求項11 前記空隙内に前記第3電極を完全に存在させることをさらに含む、請求項10に記載の方法。 請求項12 前記第3電極を電気的に励起することが、約1KVAC〜100KVACの交流電圧により前記第3電極を電気的に励起することを含む、請求項10に記載の方法。 請求項13 前記流体の流れの方向に対して、前記流体流ポンプの下流の位置の前記ダクト内に追加の流体流ポンプを形成することをさらに含む、請求項12に記載の方法。
类似技术:
公开号 | 公开日 | 专利标题 Bayoda et al.2015|Nanosecond pulsed sliding dielectric barrier discharge plasma actuator for airflow control: electrical, optical, and mechanical characteristics Hara et al.2014|Mode transition of a Hall thruster discharge plasma Takahashi et al.2011|Direct thrust measurement of a permanent magnet helicon double layer thruster Macheret et al.2004|Magnetohydrodynamic and electrohydrodynamic control of hypersonic flows of weakly ionized plasmas Ahedo et al.2011|On plasma detachment in propulsive magnetic nozzles Sun et al.2016|Formation mechanism of streamer discharges in liquids: a review EP2884823B3|2019-03-06|Surface plasma actuator Mikellides et al.2013|Magnetic shielding of walls from the unmagnetized ion beam in a Hall thruster Li et al.2010|Control of the corner separation in a compressor cascade by steady and unsteady plasma aerodynamic actuation Thomas et al.2009|Optimization of dielectric barrier discharge plasma actuators for active aerodynamic flow control Raitses et al.2009|Effects of enhanced cathode electron emission on Hall thruster operation Nishihara et al.2011|Mach 5 bow shock control by a nanosecond pulse surface dielectric barrier discharge US7661468B2|2010-02-16|Electro-hydrodynamic gas flow cooling system Roth et al.2003|Flow re-attachment and acceleration by paraelectric and peristaltic electrohydrodynamic | effects Shinohara et al.2009|Development of high-density helicon plasma sources and their applications Sosa et al.2009|Study of the flow induced by a sliding discharge KR20080037026A|2008-04-29|대기압 플라즈마 생성 기기 Leonov et al.2005|Mechanisms of flow control by near-surface electrical discharge generation Sydorenko et al.2008|Plasma-sheath instability in Hall thrusters due to periodic modulation of the energy of secondary electrons in cyclotron motion Cannat et al.2015|Optimization of a coaxial electron cyclotron resonance plasma thruster with an analytical model JP5300211B2|2013-09-25|管内流制御方法、管路要素、流体機器および流体機器システム Waskoenig et al.2010|Nonlinear frequency coupling in dual radio-frequency driven atmospheric pressure plasmas JP2003511640A|2003-03-25|静電的流体加速装置 JP6115559B2|2017-04-19|車両の排気装置 Loveless et al.2016|Scaling laws for gas breakdown for nanoscale to microscale gaps at atmospheric pressure
同族专利:
公开号 | 公开日 EP2245911A1|2010-11-03| US20090196765A1|2009-08-06| RU2010133950A|2012-03-10| ES2535931T3|2015-05-19| RU2516002C2|2014-05-20| CN101953235A|2011-01-19| EP2245911B1|2015-02-25| WO2009097068A1|2009-08-06| US8172547B2|2012-05-08| CN101953235B|2014-05-14|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题 JP2003511640A|1999-10-14|2003-03-25|クリクタフォビッチ、イゴール・エー|静電的流体加速装置| US20070241229A1|2006-04-12|2007-10-18|The Boeing Company|Inlet distortion and recovery control system| JP2008016222A|2006-07-03|2008-01-24|Toshiba Corp|気流発生装置|WO2012169419A1|2011-06-07|2012-12-13|株式会社島津製作所|放電イオン化電流検出器| CN103037611A|2013-01-05|2013-04-10|安徽理工大学|大气压下空气等离子体刷发生装置| JP2013131488A|2011-11-22|2013-07-04|Nihon Univ|Coaxial DBD plasma actuator and jet control device| JP2014152348A|2013-02-06|2014-08-25|Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd|成膜装置及び成膜方法| JP2014152349A|2013-02-06|2014-08-25|Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd|成膜装置及び成膜方法|US5749542A|1996-05-28|1998-05-12|Lockheed Martin Corporation|Transition shoulder system and method for diverting boundary layer air| CN1075676C|1996-12-16|2001-11-28|戴建国|高频辅助的低频介质阻挡放电方法及装置| AU3180099A|1998-01-08|1999-07-26|Government of the United States of America as represented by the Administrator of the National Aeronautics and Space Administration , The|Paraelectric gas flow accelerator| GB0108738D0|2001-04-06|2001-05-30|Bae Systems Plc|Turbulent flow drag reduction| EP1937552B1|2005-10-17|2011-06-15|Bell Helicopter Textron Inc.|Plasma actuators for drag reduction on wings, nacelles and/or fuselage of vertical take-off and landing aircraft| AT528209T|2006-07-31|2011-10-15|Univ Florida|FLYLESS FLOOD CONDITION OF A MICROVOLTAGE VEHICLE| CN101022074A|2007-03-14|2007-08-22|万京林|差分馈电介质阻挡放电低温等离子体装置|CN101374397B|2007-08-24|2010-08-25|富准精密工业有限公司|微型液体冷却装置及其所采用的微液滴产生器| JP4835756B2|2008-02-14|2011-12-14|独立行政法人情報通信研究機構|Ion pump system and electromagnetic field generator| US20110149252A1|2009-12-21|2011-06-23|Matthew Keith Schwiebert|Electrohydrodynamic Air Mover Performance| US8585356B2|2010-03-23|2013-11-19|Siemens Energy, Inc.|Control of blade tip-to-shroud leakage in a turbine engine by directed plasma flow| US9975625B2|2010-04-19|2018-05-22|The Boeing Company|Laminated plasma actuator| US8500404B2|2010-04-30|2013-08-06|Siemens Energy, Inc.|Plasma actuator controlled film cooling| JP5700974B2|2010-08-06|2015-04-15|ダイハツ工業株式会社|プラズマアクチュエータ| CN102938360B|2011-08-15|2015-12-16|中国科学院大连化学物理研究所|一种大面积原位检测爆炸物的质谱电离源及其应用| US8944370B2|2012-01-09|2015-02-03|The Boeing Company|Plasma actuating propulsion system for aerial vehicles| CN103871826B|2012-12-12|2015-12-09|中国科学院大连化学物理研究所|一种添加选择性检测试剂的介质阻挡放电质谱电离源装置| CN103327722B|2013-07-05|2016-04-13|四川大学|介质阻挡增强型多电极辉光放电低温等离子体刷阵列发生装置| US20150232172A1|2014-02-20|2015-08-20|Donald Steve Morris|Airfoil assembly and method| CN103841741B|2014-03-12|2016-09-28|中国科学院电工研究所|基于介质阻挡放电的大气压等离子体发生装置| GB201615702D0|2016-09-15|2016-11-02|Gilligan Paul|Plasma speaker| WO2018127293A1|2017-01-09|2018-07-12|Huawei Technologies Co., Ltd.|Electro hydro dynamic apparatus and system comprising an electro hydro dynamic apparatus| WO2020138893A1|2018-12-27|2020-07-02|Samsung Electronics Co., Ltd.|Blower and air conditioner having the same|
法律状态:
2011-12-21| A621| Written request for application examination|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111220 | 2013-08-21| A131| Notification of reasons for refusal|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130820 | 2013-11-19| A521| Written amendment|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131118 | 2014-01-15| A02| Decision of refusal|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140114 |
优先权:
[返回顶部]
申请号 | 申请日 | 专利标题 相关专利
Sulfonates, polymers, resist compositions and patterning process
Washing machine
Washing machine
Device for fixture finishing and tension adjusting of membrane
Structure for Equipping Band in a Plane Cathode Ray Tube
Process for preparation of 7 alpha-carboxyl 9, 11-epoxy steroids and intermediates useful therein an
国家/地区
|