![]() Photodetektor und Verfahren zur Herstellung des Photodetektors
专利摘要:
Ein Photosensor umfasst einen Photodetektor, der auf einem Substrat montiert ist, wobei der Photodetektor mittels eines Einkapselungsharzes umschlossen ist. Eine Filterschicht ist auf dem Einkapselungsharz gebildet. Die Filterschicht besitzt eine Filterwirkung, die dem spektralen Antwortverhalten des Photodetektors entspricht. 公开号:DE102004013077A1 申请号:DE102004013077 申请日:2004-03-17 公开日:2004-10-07 发明作者:Koichi Fujiyoshida Fukasawa;Satoru Fujiyoshida Kikuchi 申请人:Citizen Electronics Co Ltd; IPC主号:F21V23-04
专利说明:
[0001] Die vorliegende Erfindung betriffteinen Photodetektor, der in tragbaren Geräten verwendet wird, etwa inMobiltelefonen, Fernsteuerungen und anderen Vorrichtungen, und betrifftferner ein Verfahren zur Herstellung des Photodetektors. [0002] Eine Fernsteuerung wird zum Steuerndes Betriebs einer elektronischen Anlage, etwa einer audiovisuellenAnlage und einer Kommunikationsanlage verwendet, wobei Infrarotstrahlungoder sichtbare Strahlung benutzt wird. Auf der anderen Seite istdie Anlage, die durch die Signalstrahlen aus der Fernsteuerung gesteuertwird, mit einem Photosensor versehen, der einen Photodetektor zumErfassen des Steuersignals aufweist. [0003] Der konventionelle Photosensor kannkeine Signalstrahlen erfassen, die nicht mittels dem spektralenAntwortverhalten des Photodetektors, der auf dem Photosensor montiertist, erfasst wird. [0004] Die japanische Patentoffenlegungsschrift 08-204653offenbart einen Photosensor. Der in dem Photosensor vorgesehenePhotodetektor ist mit einem Epoxydharz beschichtet, das mit einemMittel, das sichtbare Strahlung abschneidet, so gemischt ist, dasseine Kondensorlinse auf Photodetektor als ein optisches Bandpassfiltergebildet wird. [0005] Die japanische Patentoffenlegungsschrift 10-223039offenbart einen weiteren mit einem Photodetektor versehenen Photosensor.Der Photodetektor besitzt ein Bandpassfilter mit einem Interferenzfilmmit einer mittleren Durchlaufwellenlänge, die ungefähr mit einermittleren Wellenlängeder Signalstrahlen von einer Fernsteuerung übereinstimmt. [0006] 4 istein Graph, der das spektrale Verhalten eines konventionellen Photosensorszeigt. In dem Graphen zeigt das Bezugszeichen a ein inhärentes spektralesAntwortverhalten des Photosensor und das Bezugszeichen b zeigt einspektrales Antwortverhalten eines Photosensors mit einem Bandpassfilter. [0007] In einem Sensor für sichtbare Strahlung und insbesonderein einem Leuchtstärkeeffizienzsensor mussein Photodetektor verwendet werden, der als ein Bandpassfilter miteiner Leuchtstärkeeffizienzgebildet ist. Um eine Baneipassfunktion in dem zu verwendenden Photodetektorbereitzustellen, wird eine dielektrische Mehrlagenschicht oder eineMetalllagenschicht auf einem Lichtaufnahmebereich mittels Verdampfunggebildet. [0008] Ein weiteres Verfahren besteht darin,eine Absorptionsschicht auf dem Photodetektor zu bilden, oder eineVerunreinigung dem Photodetektor hinzuzufügen, um damit das Band zurVerbesserung des epitaktischen Aufbaus zu steuern. [0009] Diese Verfahren führen zur einer Erhöhung derHerstellungskosten. Des weiteren ist es schwierig, die Filterwirkungdes Photodetektors zu steuern und es gibt eine Grenze, um die Bandpassfilterwirkungzu verbessern. Wenn ein externer Filter verwendet wird, vergrößert sichdas Bauvolumen des Photosensor und die Herstellungskosten steigen ebenso. [0010] Es ist eine Aufgabe der vorliegendenErfindung, einen Photosensor bereitzustellen, der Signalstrahlenvon einer Fernsteuerung empfangen kann, ohne auf das spektrale Antwortverhalteneines darin vorgesehenen Photodetektors beschränkt zu sein. [0011] Erfindungsgemäß wird ein Photosensor zum Erfassenvon Signalstrahlen bereitgestellt, mit: einem Substrat, einem Photodetektor,der auf dem Substrat montiert ist, einem Einkapselungsharz, dasden Photodetektor umschließt,einer Filterschicht. die auf dem Einkapselungsharz angeordnet ist,dadurch gekennzeichnet, dass die Filterschicht eine Filterwirkungentsprechend dem spektralen Antwortverhalten des Photodetektorsaufweist. [0012] Die Filterschicht umfasst einen Metallmehrlagenschichtfilter. [0013] In einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindungumfasst die Filterschicht einen dielektrischen Mehrschichtfilter. [0014] Die vorliegende Erfindung stelltferner ein Verfahren zur Herstellung mehrerer Photosensoren bereit. [0015] Das Verfahren umfasst die Schrittedes Herstellens einer Substratansammlung mit mehreren Unterteilungen,Montieren eines Photodetektors auf der Substratansammlung bei jederUnterteilung, Einkapseln der Photodetektoren durch Einkapselungsharz,um eine Harzschicht zu bilden, Bilden einer Filterschicht auf derHarzschicht, um eine Photosensoransammlung zu bilden, und Schneidender Ansammlung an Grenzen zwischen Unterteilungen, wodurch mehrereunabhängigePhotosensoren gebildet werden. [0016] Diese und weitere Aufgaben und Merkmale dervorliegenden Erfindung gehen deutlicher aus der folgenden detailliertenBeschreibung unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen hervor. [0017] 1 isteine perspektivische Ansicht, die einen erfindungsgemäßen Photosensorzeigt; [0018] 2 isteine Schnittansicht des Photosensor; [0019] 3a bis 3e sind perspektivische Ansichten,die ein Verfahren zur Herstellung des Photosensors zeigen; und [0020] 4 istein Graph, der die spektrale Reaktion bzw. die Antwort eines konventionellenPhotosensors zeigt. [0021] Gemäß 1 und 2 umfasst ein Photosensor 1 dervorliegenden Erfindung ein Substrat 2, einen Photodetektor 3,der auf dem Substrat 2 montiert ist, ein Einkapselungsharz 4,das den Photodetektor 3 umschließt, und eine Filterschicht 5,die auf dem Einkapselungsharz gebildet ist. Somit wird ein parallelepipedförmiger Photosensor 1 gebildet.Auf dem Substrat 2 sind ein Verdrahtungsmuster und ein Anschlussmuster(nicht gezeigt) gebildet, die mit Anschlusselektroden, die an derUnterseite des Substrats vorgesehen sind, mittels Durchkontaktierungen (nichtgezeigt) verbunden sind. Der Photodetektor 3 umfasst einePhotodiode oder einen Phototransistor. [0022] Die Filterschicht 5 besitzteine filternde Wirkung zum Durchlassen von Signalstrahten eines Wellenlängenbereichsder spektralen Antwort des Photodetektors. Um die Filterwirkungmit der spektralen Antwort des Photodetektors übereinstimmend zu machen, umfasstdie Filterschicht 5 einen Metallmehrschichtfilter odereinen dielektrischen Mehrschichtfilter. Beispielsweise ist der Metallmehrschichtfilterdurch Vakuumabscheidung oder Plattierung oder Musterübertragungauf eine Metallschicht aus Ag-MgF-Ag gebildet. Der dielektrischeMehrschichtfilter umfasst eine Schicht aus TiO2-SiO2. [0023] Daher wird die Wellenlänge einfallenderSignalstrahlen mittels der Filterschicht 5 entsprechend derWellenlängeder spektralen Antwort des Photodetektors des Photosensors gefiltert.Somit erfasst der Photosensor Signalstrahlen mit unterschiedlichenWellenlängen. [0024] Im Weiteren wird ein Verfahren zurgleichzeitigen Herstellung mehrerer Photosensoren beschrieben. [0025] 3a isteine perspektivische Ansicht, die eine Substratansammlung 12 zeigt.Die Substratansammlung 12 ist aus einem isolierenden Materialhergestellt und besitzt 16 Unterteilungen. Jede Unterteilungist fürdas Substrat 2 ausgelegt. In jeder Unterteilung werdendas Verdrahtungsmuster und das Anschlussmuster gebildet. [0026] 3b isteine perspektivische Ansicht, die einen Montageschritt für den Photodetektor 3 zeigt. DerPhotodetektor 3 wird auf der Substratansammlung 12 anjeder Unterteilung montiert. [0027] 3c isteine perspektivische Ansicht, die den Schritt des Einkapselns miteinem Harz zeigt. Die Photodetektoren 3 werden mittelseiner Harzschicht 4a eingekapselt. [0028] 3d isteine perspektivische Ansicht, die einen Schritt zur Herstellungeiner Filterschicht zeigt. Eine Metallmehrlagenfilterschicht 5a ausAg-MgF-Ag wird durch Stapeln der entsprechenden Schichten mittelsAbscheidung oder Plattierung oder Musterabscheidung gebildet. [0029] Somit wird eine Photosensoransammlung 13 gebildet. [0030] Die Photosensoransammlung 13 wirdan den Grenzen zwischen den Unterteilungen geschnitten, wie diesin 3 gezeigt ist, sodass ein einzelner Photosensor 1 erhalten wird. [0031] Somit kann erfindungsgemäß eine große Anzahlvon Photosensoren gleichzeitig bei geringen Kosten hergestellt werden. [0032] Da erfindungsgemäß der Metallmehrschichtfilteraus einem Tiefpassfilter oder einem Hochpassfilter Signalstrahlendurchlässtmit einer Wellenlänge, dieder spektralen Antwort des Photodetektors entspricht, erfasst derPhotosensor Signalstrahlen ohne Einschränkungen hinsichtlich der Wellenlänge. [0033] Obwohl die Erfindung in Verbindungmit bevorzugten speziellen Ausführungsformenbeschrieben ist, ist es selbstverständlich, dass diese Beschreibungbeabsichtigt, den Bereich der Erfindung, die durch die folgendenPatentansprüchedefiniert ist, anschaulich darzustellen und nicht einzuschränken.
权利要求:
Claims (4) [1] Photosensor zum Erfassen von Signalstrahlen,mit: einem Substrat; einem auf dem Substrat montiertenPhotodetektor; einem Einkapselungsharz, das den Photodetektor einkapselt; einerauf dem Einkapselungsharz gebildeten Filterschicht; dadurchgekennzeichnet, dass die Filterschicht eine Filterwirkungentsprechend dem spektralen Antwortverhalten des Photodetektors aufweist. [2] Photosensor nach Anspruch 1, wobei die Filterschichteinen Metallmehrschichtfilter umfasst. [3] Photosensor nach Anspruch 1, wobei die Filterschichteinen dielektrischen Mehrschichtfilter umfasst. [4] Verfahren zur Herstellung mehrerer Photosensoren,wobei das Verfahren die Schritte umfasst: Herstellen einerSubstratansammlung mit mehreren Unterteilungen; Montieren einesPhotodetektors auf der Substratansammlung an jeder Unterteilung; einkapselnder Photodetektoren durch Einkapselungsharz, um eine Harzschichtzu bilden; Bilden einer Filterschicht auf der Harzschicht,um eine Photosensoransammlung zu bilden; und Schneiden derAnsammlung an Grenzen zwischen den Unterteilungen, um damit mehrereunabhängige Photosensorenherzustellen.
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同族专利:
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引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
2004-10-07| OP8| Request for examination as to paragraph 44 patent law| 2009-09-24| 8364| No opposition during term of opposition| 2014-01-09| R119| Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee|Effective date: 20131001 |
优先权:
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