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    EinGlas mit einer hohen inneren Transmission sowie geringer Neigungzu strahlungsbedingter physikalischer Kompaktierung und geringerNeigung zur Solarisation, enthaltend18-31 Gew.-% SiO2,0-7 Gew.-% Na2O3,0-7 Gew.-% K2O,65-84Gew.-% PbO,0,001-1 Gew.-% As2O3 + As2O5,welches sich auszeichnet durch einen Gehalt von0-5000 ppm Sb2O3 0-500 ppmTiO2 0-100 ppm CuO0-1000 ppm F.Die Σ (As2O3, As2O5, Sb2O3,F) ist ≧ 20ppm und das Verhältnisvon As III/As V beträgtmindestens 0,5. Ein solches Glas ist zur Verwendung als optischesElement geeignet.
    公开号:DE102004001458A1
    申请号:DE200410001458
    申请日:2004-01-08
    公开日:2005-08-04
    发明作者:Ute Wölfel；Silke Dr. Wolff
    申请人:Schott AG；
    IPC主号:G02B1-00
    专利说明:
    [0001] DieErfindung betrifft ein Glas, insbesondere ein Schwerflintglas mithoher innerer Transmission und hoher Stabilität gegen Strahlungsschäden, d.h.geringer Neigung zu physikalischer Kompaktierung und Solarisation,sowie dessen Verwendung in Abbildung und Projektion sowie der optischenNachrichtentechnik und Telekommunikation und Computerherstellung.
    [0002] Beimodernen Hochleistungsoptiken werden immer höhere Anforderungen an die Abbildungsgenauigkeitund Auflösunggestellt. Dies bedeutet, dass einerseits immer größere Abbildungs-bzw. Projektionsflächenerreicht werden, andererseits jedoch die abzubildenden Strukturenimmer kleiner und immer punkt- und detailgenauer abgebildet werdenmüssen.Aus diesem Grund ist es notwendig, mit immer kleineren Wellenlängen zubelichten, d.h. mit Licht höhererEnergie, was die energetische Belastung der Optikelemente erhöht. Darüber hinauswerden bei einer Vielzahl von technischen Anwendungen, wie beispielsweisebei der Mikrolithographie, zur Erhöhung der Produktionsgeschwindigkeitimmer kürzereBelichtungszeiten gefordert, wodurch die Strahlungsleistung bzw.Strahlendichte, welche durch die Optik geleitet wird, d.h. Strahlenbelastung proZeit, notgedrungen zunehmen muss. Darüber hinaus wird bei optischenSystemen, insbesondere in der Nachrichtentechnik und der Telekommunikation,eine hohe Lichtausbeute, d.h. eine hohe Transmission angestrebt.
    [0003] Diesstellt nicht nur hohe Anforderungen an die Entwicklung der jeweiligenOptiken, sondern auch an das fürdie Optik verwendete Material, welches üblicherweise ein Glas ist.So ist es z.B. bekannt, dass die Anwendung hoher Energiedichtenzu einer als Solarisation bezeichneten Erscheinung führt, durchwelche die Transmission, d.h. die Strahlungsdurchlässigkeiteines optischen Elementes drastisch abnimmt. Dadurch wird jedochnicht nur die gesamte Lichtausbeute eines optischen Elementes verringert,sondern durch die hierbei absorbierte Strahlung vermehrt Energiein die Matrix des optischen Elementes eingetragen. Eine solche Depositionvon Energie in die Matrix führtaußerdemzu einer Kompaktierung, d.h. zu einer Verdichtung des optischenMaterials. Diese Verdichtung erzeugt ein Schrumpfen der Materialmatrix,die auch zu einer Veränderung deroptischen Eigenschaften, insbesondere der Brechwerte führt. DerartigeBrechwertveränderungenbewirken aber eine Veränderungdes fürdas optische Element ursprünglichberechneten Strahlenganges, wodurch die abzubildende Struktur unscharf,d.h. die Abbildungsgenauigkeit verringert wird.
    [0004] DieserEffekt wird noch dadurch verstärkt,dass solche Kompaktierungen proportional zur Strahlung bzw. derdeponierten Energie sind, und sowohl jede einzelne Komponente alsauch lokale Bereiche in diesen Elementen eines optischen Systemseiner unterschiedlichen Strahlungsbelastung ausgesetzt sind. Dadurch findetin einem optischen System eine geometrisch ungleichmäßige Verzerrungstatt, welche sich im Gesamtobjektiv addiert. Diese Effekte führen beimGebrauch somit zu einer starken Abnahme der erzielbaren Punktauflösung sowieder Abbildungsschärfe.
    [0005] Daheute aufgrund verbesserter Techniken solche Systeme längere Standzeitenaufweisen, erfolgt auch eine erhöhteBestrahlungsdauer der optischen Elemente, wodurch deren energetischeBelastung zunimmt und deren Anwendungsdauer und damit deren Amortisationbzw. rentabler Einsatz begrenzt wird, was wiederum zu erhöhten Kostenführt.
    [0006] Esist bereits versucht worden, die optische Qualität, d.h. die Strahlungsdurchlässigkeitderartiger Glasmaterialien zu verbessern. So wird beispielsweisein der DE 973 350 einoptisches Silikatglas mit einer Brechzahl beschrieben, die bezogenauf die mittlere Streuung, bzw. den v-Wert niedrig ist. Dabei sollendie Gläsereine hohe Dispersion aufweisen. Solche Gläser, die für Negativlinsen gedacht sind,enthalten 5–30 Gew.-%Alkalioxide, 30–70Gew.-% SiO2 und B2O3, sowie 0,15–35 Gew.-% Fluor, wobei biszu 5 Gew.-% Erdalkalioxide und wenigstens einer der Stoffe AlO3, TiO2, Sb2O3, As2O3 und PbO enthalten sein müssen. DerGehalt an Al2O3 undTiO2 darf dabei jeder für sich nicht mehr als 30 Gew.-%,der an PbO nicht mehr als 55 Gew.-%, der an Sb2O3 nicht mehr als 35 Gew.-% und der an As2O3 nicht mehr als5 Gew.-% betragen. Soll dabei ein v-Wert von größer 63,5 erhalten werden, somuss der Gehalt an Al2O3 +Sb2O3 + As2O3 größer als derGehalt von B2O3 sein.Gemäß der Lehrevon DE 973 350 wird dergeringe Brechwert im Wesentlichen dadurch erreicht, dass eine hoheMenge an Fluorid zugesetzt wird, welche den Sauerstoff im Glasgefüge ersetzensoll.
    [0007] Inder DE-A 26 03 450 werden optische Bleisilikatgläser mit einer hohen Durchlässigkeitim sichtbaren Spektralbereich beschrieben. Auch gemäß dieserDruckschrift werden die guten optischen Eigenschaften durch einenhohen Fluoridzusatz erreicht, womit eingeschleppte Verunreinigungenmaskiert werden, welche die Lichttransmission vermindern.
    [0008] Gemäß der Anmeldungmit dem amtlichen Aktenzeichen 102 07 732.0 wurden Bleigläser vorgeschlagen,die verbesserte Eigenschaften bezüglich optischer und physikalischerStabilitätaufweisen, insbesondere gegenüberSolarisation und Kompaktierung, und eine gute innere Transmissionaufweisen. Diese Bleigläser weiseneinen deutlich geringeren Brechwert und damit eine wesentlich geringereSensitivitätgegenüberStrahlung auf als hochbleihaltige Gläser, wie z.B. Gläser derSchwerflintreihe (SF Gläser).
    [0009] SFGläsersind durch hohe Gehalte an Bleioxid und zusätzliche Gehalte an Alkalimetalloxidencharakterisiert. Ein Vorteil von SF Gläsern ist verbunden mit derenhohem Brechwert und liegt darin, dass im Bereich des optischen Designsgeringere Brennweiten erzielt werden können, wodurch folglich geringereBauteilgrößen realisiertwerden können.Zudem weisen hochbleihaltige Gläsereinen sehr geringen spannungsoptischen Koeffizienten auf, was diesebesonders geeignet macht fürAnwendungen im Bereich der digitalen Projektion, welche mittelseinem polarisationsgesteuerten Farbmanagement (colourmanagementsystem) und/oder reflektierenden LCDs arbeiten. Allerdings bedingtder hohe Bleianteil in den SF Gläsernwiederum eine verstärkteSensitivitätgegenüberStrahlung durch direkte Absorption von Energie.
    [0010] Esbesteht demnach Bedarf an verbesserten Bleigläsern, insbesondere an hochbleihaltigenGläsern, wieBleiflintgläsernoder Schwerflintgläsern,die einerseits hohe Brechwerte aufweisen, andererseits dabei aberwenig strahlungssensitiv und damit stabil sind. Erfindungsgemäß werdenderartige, verbesserte Gläser mithohen Brechwerten zur Verfügunggestellt, welche sich durch gute Stabilität auszeichnen und wenig strahlungssensitivsind. Dieses Ziel wird durch die in den Patentansprüchen definiertenMerkmale erreicht.
    [0011] Eswurde gefunden, dass sich fürein Bleiglas, insbesondere ein Bleiflintglas oder Schwerflintglas,die erfindungsgemäße Aufgabedurch ein hochbleihaltiges Glas, insbesondere durch ein Glas, das18–31Gew.-% SiO2, 0–7 Gew.-% Na2O,0–7 Gew.- % K2O,65–84Gew.-% PbO, sowie 0,001–1Gew.-% As2O3 enthält, in welchenGläsernin der Schmelze bzw. im fertigen Glas As III und As V in einem Verhältnis S/EAs IV und As V von mindestens 0,5 vorliegt, lösen lässt. Dies ist z.B. dadurcherreichbar, dass dem Glas bzw. den Ausgangsmaterialien hierzu vorund/oder ggf. währendder Schmelze eine Sb-, Ti-, Cu- und/oder Fluoridquelle und/oder einkohlenstoffhaltiges Reduktionsmittel zugesetzt wird. Dabei sollder Gehalt an Sb2O3 5000ppm nicht übersteigen,der Gehalt an TiO2 maximal 500 ppm, an CuOmaximal 100 ppm, an kohlenstoffhaltigen Reduktionsmitteln maximal5000 ppm und an Fluor maximal 1000 ppm betragen. Erfindungsgemäß müssen darüber hinausdie zuvor genannten Substanzen folgende Bedingung erfüllen: I Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 20ppm und vorzugsweise II Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·CuO+ 10·Ti2O) ≥ 50ppm.
    [0012] OxidierendeSchmelzen zeigen üblicherweiseeinen erhöhtenAnteil an As V, wobei das Verhältnisvon As III zu As V bei etwa 0,4 liegt. Bei üblichen nicht oxidierendenSchmelzen, d.h. ohne Sauerstoffzufuhr, beträgt das Verhältnis dagegen 0,45. Durch dieZugabe von Reduktionsmitteln lässtsich in der erfindungsgemäßen Glaszusammensetzungdas Verhältnisproblemlos auf 0,5 verschieben, wobei die Verschiebung direkt vonder Menge bzw. Wirksamkeit des jeweiligen Reduktionsmittels abhängt, wiedies z.B. in der Summenformel II berücksichtigt ist. BevorzugteVerhältnissebetragen mindestens 0,55, insbesondere mindestens 0,60, wobei mindestens0,65 und insbesondere mindestens 0,70 besonders bevorzugt sind.Zweckmäßige Wertebetragen etwa 0,75.
    [0013] Erfindungsgemäß wurdenämlichgefunden, dass unter Beachtung obiger Einstellungsregeln optische Gläser erhaltenwerden können,welche nicht nur hervorragende Eigenschaften bzgl. optischer undphysikalischer Stabilitätaufweisen, insbesondere gegenüberSolarisation und Kompaktierung, sondern die auch eine hervorragendeinnere Transmission aufweisen.
    [0014] Diezweite Summenformel II berücksichtigt,dass im erfindungsgemäßen Gemischdie einzelnen Komponenten unterschiedliche Wirkungsfaktoren bzgl.der Erreichung der Ziele zeigen. Danach ist beispielsweise Kupferoxid50 mal stärkerwirksam als Zucker und/oder Antimonoxid. Fluor ist 5 mal und Titanoxid10 mal wirksamer. Bei der obigen Formel ist außerdem zu beachten, dass dieFluorkonzentration sich auf das reine Fluoridion bezieht. Gemäß obigerSummenformel bedeutet dies, dass z.B. 10 Gramm Sb2O3 durch 2 Gramm Fluorid in einer Schmelzeersetzt werden können.Entsprechend ersetzen 10 Gramm Titanoxid ein Gramm kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel oder Sb2O3.Erfindungsgemäß ist essomit möglich,auf hohe Fluoridanteile zu verzichten und fluoridarme oder auchfluoridfreie Gläserbereitzustellen.
    [0015] Erfindungsgemäß bevorzugtist ein SiO2-Gehalt von 19–30 Gew.-%.vor. Ein bevorzugter Bereich für Natriumoxidbeträgt0–5 Gew.-%und ein bevorzugter Bereich fürK2O beträgt0–5 Gew.-%.Bevorzugte Bereiche fürPbO betragen 66–83Gew.-%. Der Gehalt an Sb2O3 beträgt vorzugsweise0–3000ppm, TiO2 0–200 ppm und CuO 0–100 ppm.
    [0016] Dabeibeträgtder Mindestgehalt der läuteraktivenMittel der ersten Summenformel I, d.h. Σ (As2O3, Sb2O3,F) vorzugsweise mindestens 50 ppm. Der maximale Gehalt beträgt vorzugsweisenicht mehr als 25000 ppm, wobei 20000 und insbesondere 15000 bevorzugtsind. Besonders bevorzugt ist eine Obergrenze der Elemente der SummenformelI von 7000 ppm. Eine besonders bevorzugte Minimalkonzentration beträgt 100 ppm, wobeimindestens 200 ppm ganz besonders bevorzugt ist.
    [0017] DieElemente der Summenformel II sind vorzugsweise in einer Konzentrationvon mindestens 100 ppm, insbesondere 200 ppm vorhanden, wobei 300ppm besonders bevorzugt sind. Bevorzugte Obergrenzen hierfür betragen20000 ppm, wobei maximal 15000 ppm und maximal 10000 ppm besondersbevorzugt sind.
    [0018] Erfindungsgemäß hat sichein Zusatz von mindestens 10 ppm Arsenoxid als besonders zweckmäßig erwiesen.Es hat sich nämlichgezeigt, dass sich so noch bessere Transmissionswerte erreichenlassen. Dabei wird Arsenoxid vorzugsweise als As2O3 in Gegenwart eines arsenoxidierenden Additivs,wie z.B. Natriumnitrit, verwendet, welches beim Aufschmelzen ArsenIII in das läuteraktiveArsen V-Oxid überführt. Einebevorzugte Obergrenze fürSb2O3 beträgt 1200ppm, insbesondere 1000 ppm. In vielen Fällen ist eine Obergrenze von 500ppm zweckmäßig, wobeimaximal 400 ppm und insbesondere 300 ppm Sb2O3 besonders bevorzugt sind. In einer ganzbesonders bevorzugten Ausführungsformist das erfindungsgemäße Glasfrei von Sb2O3.
    [0019] DieObergrenze fürTiO2 beträgt erfindungsgemäß 500 ppm,wobei 400 ppm und insbesondere 300 ppm bevorzugt sind. Ganz besondersbevorzugt sind maximal 200 ppm, insbesondere maximal 100 ppm TiO2 enthalten.
    [0020] CuOist im erfindungsgemäßen Glasmaximal zu 100 ppm enthalten, wobei maximal 80 ppm und maximal 50ppm bevorzugt sind. Ganz besonders bevorzugt sind Obergrenzen vonmaximal 20 ppm und insbesondere maximal 10 ppm.
    [0021] Eswurde nämlicherfindungsgemäß gefunden,dass sich die Solarisationsneigung durch den additiven Zusatz dererwähntenDotierungsmittel, die in der Summenformel II zusammengefasst sind,hervorragend absenken lässt,wobei die vorangestellten Zahlen Faktoren für die Wirksamkeit der erfindungsgemäß eingesetztenDotierungsmittel sind.
    [0022] Erfindungsgemäß wird Fluorzweckmäßigerweiseals Fluorid zugesetzt, wobei als Kation üblicherweise (aber nicht notwendigerweise)ein ohnehin in der Schmelze vorliegendes Kation verwendet wird.Bevorzugte Fluoride sind NaF, LiF, KF, CaF2,MgF2 sowie ggf. auch Na2SiF6.
    [0023] Für erfindungsgemäß bevorzugteSchwerflintgläserbeträgtdie Menge an SiO2 21–28Gew.-%, insbesondere 22–27Gew.-%, die Menge an Na2O 0–3 Gew.-%,vorzugsweise 0,1–2Gew.-%, die Menge an K2O 0–3 Gew.-%,insbesondere 0,1–2Gew.-% und die Menge an PbO 68–81Gew.-%, insbesondere 71–78Gew.-%. Ferner liegen vor: 0–3000ppm Sb2O3, 0–200 ppmTiO2, 0–100ppm CuO, 0–500ppm Zucker und 0–1000ppm F. Die Menge an läuteraktivenMitteln gemäß FormelI beträgthier ≥ 50ppm und die Menge der Dotierungsmittel gemäß Formel II mindestens 1000ppm.
    [0024] Imerfindungsgemäßen Glaskönnenals kohlenstoffhaltige Reduktionsmittel Graphit bzw. Kohle (auch inForm von Wannen, Wanneneinbauten, Tiegeln, Stäben, Elektroden, Rührern oderTeilen davon), Kohlenwasserstoffe, Fettsäuren, Dicarbonsäuren wiez.B. Oxalsäure,sowie insbesondere Zucker verwendet werden.
    [0025] Für das erfindungsgemäße GlaskönnensämtlicheZucker verwendet werden, sowie andere organische Substanzen, insbesondereStickstoff und schwefelfreie organische Substanzen, insbesonderePolyhydroxy-Verbindungen. Besonders bevorzugte Zucker sind Mono-,Di- und/oder Polysaccharide, insbesondere solche mit der SummenformelC6H12O6.In einer besonderen Ausführungsformwird das erfindungsgemäße Glasunter einer Schutzgasatmosphäre,vorzugsweise unter Stickstoff, hergestellt.
    [0026] Dieerfindungsgemäßen Gläser können ggf.noch geringe Mengen an Oxiden von Fe, Cr, Co, Ni, Mn, Ag und/oderV, einzeln oder in beliebiger Kombination und zwar vorzugsweiseund unabhängigvoneinander jeweils in einer Menge von ≤ 1000 ppm enthalten.
    [0027] Mitden erfindungsgemäßen Einstellungsregelnist es möglich,klassische Bleisilikatgläser,insbesondere Schwerflintgläser,herzustellen, die leicht schmelzbar sind. Die Gläser sind außerdem leicht bearbeitbar undweisen Brechwerte von mehr als 1,8 auf, insbesondere von 1,8–1,9. DieAbbé-Zahlenfür dieGläserliegen zwischen 20 und 30.
    [0028] DieErfindung betrifft außerdemein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Glases. Dabei werden dieentsprechenden Ausgangsmaterialien als Oxide und/oder Salze, wiesie üblicherweisezur Glaserzeugung verwendet werden, zusammen mit den anderen Glaszusätzen, insbesonderedenjenigen der Summenformeln I und II, auf an sich bekannte Weisegeschmolzen, geläutertund unter Abkühlungdas gewünschte Glaserhalten, welches zu den optischen Elementen weiter verarbeitetwird. Dabei werden die Zusätzeder Summenformeln üblicherweisebereits dem Ausgangsmaterial vor der Schmelze zugesetzt.
    [0029] Dieerfindungsgemäßen optischenGläsereignen sich besonders zur Herstellung von optischen Vorrichtungen,insbesondere Objektiven, Licht- und Bildleitern sowie zur Abbildungund Projektion, zur Mikrolithographie und auch für die Telekommunikation undoptische Nachrichtentechnik, sowie die Digitale Projektion.
    [0030] Siesind daher besonders zur Herstellung von Linsen, Prismen, Lichtleitstäben, Glasfaserkabeln,optischen Fenstern, sowie optischen Komponenten für die Photolithographie,Steppern, Excimerlasern, Wafern, Computerchips, sowie integriertenSchaltungen und elektronischen Geräten, die solche Schaltungenund Chips enthalten, geeignet. Die erfindungsgemäßen Gläser sind besonders geeignetfür Anwendungenim Bereich der digitalen Projektion, welche mittels einem polarisationsgesteuertenFarbmanagement (colourmanagement system) und/oder reflektierendenLCDs arbeiten. Die Erfindung soll an dem folgenden Beispiel näher erläutert werden.
    [0031] Dazuwurden entsprechend die enthaltenen Substanzen als Karbonate und/oderNitrate abgewogen, die Dotiermittel und das Basisläutermittelzugegeben und das Gemenge anschließend gut gemischt. Danach wurdedas Glasgemenge bei ca. 1250°Cin einem kontinuierlichen Schmelzaggregat eingeschmolzen und danachbei 1320°Cgeläutert undhomogenisiert. Anschließendwurde das Glas bei einer Gusstemperatur von 1300°C durch Pressen oder Walzenverarbeitet, definiert abgekühltund zu den gewünschtenDimensionen weiter verarbeitet. Die folgende Tabelle stellt einSchmelzbeispiel für100kg berechnetes Glas dar, welches die Basis für die Tabellen 2 und 3 darstellt.
    Tabelle1: Schmelzbeispiel für100 kg berechnetes Glas

    Tabelle2: Ausführungsbeispiele(in Gew.-%)

    Tabelle3: Ausführungsbeispiele(in Gew.-%)
    权利要求:
    Claims (14)
    [1] Hochbleihaltiges Glas mit einer hohen innerenTransmission sowie geringer Neigung zu strahlungsbedingter physikalischerKompaktierung und geringer Neigung zur Solarisation, gekennzeichnetdurch einen Gehalt von 0–5000ppm Sb2O3 0–500 ppmTiO2 0–100 ppm CuO 0–1000 ppmF, wobei Σ (As2O3, As2O5, Sb2O3,F) ≥ 20 ppmist und das Verhältnisvon As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
    [2] Glas mit einer hohen inneren Transmission sowie geringerNeigung zu strahlungsbedingter physikalischer Kompaktierung undgeringer Neigung zur Solarisation, enthaltend 18–31 Gew.-%SiO2, 0–7 Gew.-% Na2O3, 0–7 Gew.-% K2O, 65–84 Gew.-%PbO, 0,001–1Gew. % As2O3 + As2O5, gekennzeichnetdurch einen Gehalt von 0–5000ppm Sb2O3 0–500 ppmTiO2 0–100 ppm CuO 0–1000 ppmF, wobei Σ (As2O3, As2O5, Sb2O3,F) ≥ 20 ppmist und das Verhältnisvon As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
    [3] Glas nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,dass es durch Einstellung des As III/As V-Verhältnisses mittels 0–5000 ppmkohlenstoffhaltigen Reduktionsmitteln erhältlich ist, wobei Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) ≥ 50ppm beträgt.
    [4] Glas nach Ansprüchen1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Gehalt an SiO2 19–30Gew.-% Na2O 0–5 Gew.-% K2O0–5 Gew.-% PbO66–83Gew.-% Sb2O3 0–3000 ppm TiO2 0–200ppm beträgt, wobei Σ (As2O3, Sb2O3, F)≥ 50ppm und Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) ≥ 100ppm beträgt.
    [5] Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass Σ (As2O3, Sb2O3, F) 50–7000ppm beträgt.
    [6] Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) 50–10000ppm beträgt.
    [7] Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass die Menge an Sb2O3 ≤ 1000 ppm,an Titanoxid ≤ 400ppm und/oder an Kupferoxid ≤ 80ppm beträgt.
    [8] Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass es ein Leichtflintglas ist und der Gehalt an SiO2 21–28Gew.-%, Na2O 0–3 Gew.-% K2O0–3 Gew.-%PbO 68–81Gew.-% Sb2O3 0–3000 ppm TiO2 0–200ppm beträgt, wobei Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 50ppm und Σ (Sb2O3 + 5·F + Kohlenstoff-haltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) ≥ 100ppm beträgt.
    [9] Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass es ein Leichtflintglas ist und der Gehalt an SiO2 22–27Gew.-%, Na2O 0,1–2 Gew.-% K2O0,1–2Gew.-% PbO 71–78Gew.-% Sb2O3 0–3000 ppm TiO2 0–200ppm beträgt, wobei Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 50ppm und Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) ≥ 100ppm beträgt.
    [10] Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass es Oxide von Fe, Cr, Co, Ni, Mn, Ag und/oderV in einer Menge von jeweils ≤ 1000ppm enthält.
    [11] Verfahren zur Herstellung von Glas mit einer hoheninneren Transmission sowie geringer Neigung zu strahlungsbedingterphysikalischer Kompaktierung und geringer Neigung zur Solarisationdurch Ausbilden einer Schmelze, dadurch gekennzeichnet, dass derGehalt von Sb2O3 0–5000 ppm,TiO2 0–500ppm, CuO 0–100 ppm,F 0–1000ppm beträgtund 0–5000ppm kohlenstoffhaltiges Reduktionsmittel zugesetzt wird, wobei Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 20ppm und Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) ≥ 50ppm und das Verhältnisvon As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
    [12] Verfahren zur Herstellung von Glas mit einer hoheninneren Transmission sowie geringer Neigung zu strahlungsbedingterphysikalischer Kompaktierung und geringer Neigung zur Solarisationdurch Ausbilden einer Schmelze von 18–31 Gew.-% SiO2,0–7 Gew.-%Na2O3, 0–7 Gew.-%K2O, 65–84Gew.-% PbO, 0,001–1 Gew.-%As2O3, dadurch gekennzeichnet,dass der Gehalt von Sb2O3 0–5000 ppm,TiO2 0–500ppm, CuO 0–100ppm, F 0–1000ppm beträgtund 0–5000ppm kohlenstoffhaltiges Reduktionsmittel zugesetzt wird, wobei Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 20ppm und Σ (Sb2O3 + 5·F + kohlenstoffhaltigesReduktionsmittel + 50·Cu+ 10·TiO2) ≥ 50ppm und das Verhältnisvon As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
    [13] Verwendung von Gläsern nach einem der Ansprüche 1–10 zurHerstellung von Linsen, Prismen, Lichtleitstäben, optischen Fenstern sowieoptischen Komponenten fürdie Photolithographie, Steppern, Excimerlasern, Wafern, Computerchipssowie integrierten Schaltungen und elektronischen Geräten, diesolche Schaltungen und Chips enthalten, sowie für die Telekommunikation undInformationsübertragung.
    [14] Verwendung von Gläsern nach einem der Ansprüche 1–10 in optischenBauteilen und Komponenten (PBS (polarizing beam splitters)), alskomplexe Farbsplitter, insbesondere für Anwendungen im Bereich der digitalenProjektion, welche mittels einem polarisationsgesteuerten Farbmanagement(colourmanagement system) und/oder reflektierenden LCDs arbeiten.
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    法律状态:
    2005-08-04| OP8| Request for examination as to paragraph 44 patent law|
    2011-10-08| R016| Response to examination communication|
    2011-10-12| R016| Response to examination communication|
    2011-11-03| R018| Grant decision by examination section/examining division|
    2012-07-26| R020| Patent grant now final|Effective date: 20120420 |
    2020-08-01| R119| Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee|
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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