一种圆晶加工用清洗装置

专利摘要:
本实用新型公开了一种圆晶加工用清洗装置，包括箱架，所述的箱架内部上端设有导柱，所述的导柱内壁设有导槽，所述的导槽连接有弹簧以及与弹簧连接的连接柱，所述的导柱设有限位片，所述的连接柱上设有与限位片配合使用的卡槽，所述的连接柱的端部设有清洗台，所述的箱架底部中间设有支柱，所述的支柱上端设有电机以及通过电机带动运转的操作台，所述的箱架底部设有废液箱，所述的箱架内部两侧分别设有暖风喷口，所述的箱架底部设有与暖风喷口连接的暖风机，本实用新型与现有技术相比的优点在于：防止清洗液溅射到设备以及周边污染环境，无需在清洗圆晶后对清洗装置进行清洗，较为方便，省去了单独进行的干燥的流程，提高圆晶清洗的加工效率。
公开号:CN214336683U
申请号:CN202023074058.0U
申请日:2020-12-19
公开日:2021-10-01
发明作者:廖红伟；沈国平；刘洋博
申请人:Jiujiang Zhengqi Microelectronics Co ltd；
IPC主号:H01L21-67

专利说明:
[n0001] 本实用新型涉及一种圆晶加工设备技术领域，具体是一种圆晶加工用清洗装置。
[n0002] 圆晶是指硅半导体集成电路制作所用的硅芯片，由于其形状为圆形，故称为圆晶。圆晶是生产集成电路所用的载体，一般意义晶圆多指单晶硅圆片。单晶硅圆片由普通硅砂拉制提炼，经过溶解、提纯、蒸馏一系列措施制成单晶硅棒，单晶硅棒经过抛光、切片之后，就成为了圆晶。
[n0003] 现有的晶圆清洗装置在对晶圆进行清洗的过程中，随着旋转台的旋转，清洗液因受到离心力的作用会往四周溅射，从而导致设备和周边较脏，污染环境，清洗完毕后需进行清理，较为麻烦，另外圆晶清洗装置在清洗完毕后需将圆晶再转到烘干室内进行干燥，浪费时间，降低加工效率。
[n0004] 本实用新型要解决的技术问题是克服以上技术问题，提供一种圆晶加工用清洗装置，防止清洗液溅射到设备以及周边污染环境，无需在清洗圆晶后对清洗装置进行清洗，较为方便，增设的风干设备，在圆晶清洗后对圆晶进行风干，无需转到烘干室内进行干燥，省时省力，提高加工效率。
[n0005] 为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案为：一种圆晶加工用清洗装置，包括箱架，所述箱架内部上端设有导柱，所述导柱内设有导槽，所述导槽内插接有连接柱，所述连接柱与导槽之间设有弹簧，所述导柱一侧设有限位片，所述连接柱上设有与限位片配合使用的卡槽，所述连接柱下端设有清洗台，所述清洗台设有凹槽，所述凹槽内设有液体喷口和清洗垫，所述箱架外部上端设有与液体喷口连通的水泵以及分别与水泵连接的药液箱和清水箱，所述箱架底部设有支柱，所述支柱上端设有电机以及通过电机驱动的和凹槽配合的操作台，所述操作台上端设有不少于一个的放置槽，所述操作台边缘设有废滤液口，所述箱架底部设有位于清洗台下方的废液箱，所述箱架内部两侧分别设有和操作台相对应的暖风喷口，所述箱架底部设有与暖风喷口连接的暖风机。
[n0006] 本实用新型与现有技术相比的优点在于：清洗时，将圆晶放置于操作台上的放置槽内，向下拉动连接柱，清洗台与操作台接触，推动限位片，将限位片卡置于连接柱所设的卡槽内，保证清洗垫与操作台的持续接触，打开药液箱阀门，运行水泵，药液通过水泵进入清洗台，通过液体喷口喷出药液浸湿下方的清洗垫，运转电机，电机带动操作台运转，清洗过程多余的药液通过操作台设置的废液滤口以及凹槽与操作台之间的间隙流入废液箱，防止药液四溅污染环境，无需进行打扫，较为方便，药液清洗后，关闭药液箱阀门打开清水箱阀门对圆晶表面的药液进行冲洗，清洗完成后，关闭清水阀门，打开限位片，清洗台通过弹簧带动上升与操作台分离，翻转圆晶至另一面进行相同的清洗流程，清洗后分离清洗台与操作台，打开暖风机对圆晶进行干燥，无需转到烘干室内进行干燥，省时省力，提高加工效率。
[n0007] 作为改进，所述药液箱和清水箱分别设有阀门，所述水泵分别与药液箱和清水箱设有的阀门连接，提高水泵的运转效率，较为方便快捷。
[n0008] 作为改进，所述清洗台内部设有空腔，所述液体喷口与空腔连通，所述的水泵通过水管与空腔相连。
[n0009] 作为改进，所述操作台位于凹槽内，所述凹槽和操作台之间间隙配合，所述凹槽侧壁胶接有海绵垫，所述的清洗垫胶接与凹槽内，进一步避免药液外溅污染设备及周边环境。
[n0010] 作为改进，一侧所述暖风喷口设有至少两个，对圆晶的风干更加高效，提升工作效率。
[n0011] 作为改进，所述废液箱设有排污阀，便于清理废液箱内的废液，方便快捷。
[n0012] 图1是本实用新型一种圆晶加工用清洗装置的结构示意图。
[n0013] 图2是本实用新型一种圆晶加工用清洗装置的清洗台结构示意图。
[n0014] 图3是本实用新型一种圆晶加工用清洗装置的操作台结构示意图。
[n0015] 如图所示：1、箱架，2、弹簧，3、清洗台，4、清洗垫，5、电机，6、操作台，7、药液箱，8、水泵，9、暖风喷口，10、液体喷口，11、废液滤口，12、放置槽，13、废液箱，14、暖风机，15、导柱，16、导槽，17、限位片，18、连接柱，19、清水箱，20、支柱，21、凹槽，22、排污阀。
[n0016] 下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明。
[n0017] 结合附图，一种圆晶加工用清洗装置，包括箱架1，所述箱架1内部上端设有导柱15，所述导柱15内设有导槽16，所述导槽16内插接有连接柱18，所述连接柱18与导槽16之间设有弹簧2，所述导柱15一侧设有限位片17，所述连接柱18上设有与限位片17配合使用的卡槽，所述连接柱18下端设有清洗台3，所述清洗台3设有凹槽21，所述凹槽21内设有液体喷口10和清洗垫4，所述箱架1外部上端设有与液体喷口10连通的水泵8以及分别与水泵8连接的药液箱7和清水箱19，所述箱架1底部设有支柱20，所述支柱20上端设有电机 5以及通过电机5驱动的和凹槽21配合的操作台6，所述操作台6上端设有不少于一个的放置槽12，所述操作台6边缘设有废滤液口11，所述箱架1底部设有位于清洗台3下方的废液箱13，所述箱架1内部两侧分别设有和操作台6相对应的暖风喷口9，所述箱架1底部设有与暖风喷口9连接的暖风机14。
[n0018] 所述药液箱7和清水箱19分别设有阀门，所述水泵8分别与药液箱7和清水箱19设有的阀门连接。
[n0019] 所述清洗台3内部设有空腔，所述液体喷口10与空腔连通，所述的水泵8通过水管与空腔相连。
[n0020] 所述操作台6位于凹槽21内，所述凹槽21和操作台6之间间隙配合，所述凹槽21侧壁胶接有海绵垫，所述的清洗垫4周圈胶接与凹槽21内，清洗垫4可以选用海绵材质。
[n0021] 一侧所述暖风喷口9设有至少两个。
[n0022] 所述废液箱13设有排污阀22。
[n0023] 使用时，将圆晶放置于放置槽内，向下拉动连接杆，使清洗台与操作台接触，操作台位于清洗台内的凹槽内，使得圆晶与清洗垫接触，推动位于导柱一侧的限位片，将限位片卡置在连接杆所设的卡槽内，从而固定住清洗台，打开药液箱的阀门，启动水泵，药液进入空腔并通过药液喷口喷出对清洗垫进行浸湿，与此同时打开电机，电机传动轴驱动操作台运转，清洗垫对圆晶进行磨洗，在磨洗过程中由于设置清洗垫和海绵垫，清洗过程产生的多余药液较少，并通过凹槽与操作台间的间隙和操作台设有的废液滤口流入废液箱，药液磨洗后关闭药液箱阀门，打开清水箱阀门，对圆晶表面的药液进行冲洗，清洗完毕后，关闭阀门同时关闭电机以及水泵，抽出限位片，导槽内的弹簧向上运动带动连接柱将清洗台与操作台分离，将圆晶进行翻转，对背面进行与正面相同的清洗流程，均清洗完毕后，分离清洗台与操作台，关闭阀门、水泵和电机，打开暖风机，通过暖风喷口对圆晶进行干燥，无需再转到烘干室内进行干燥，省时省力，提高加工效率，工作完成后，打开废液箱排污阀排出清洗时产生的废液。
[n0024] 以上对本实用新型及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。

权利要求:
Claims (6)
[0001] 1.一种圆晶加工用清洗装置，包括箱架(1)，其特征在于：所述箱架(1)内部上端设有导柱(15)，所述导柱(15)内设有导槽(16)，所述导槽(16)内插接有连接柱(18)，所述连接柱(18)与导槽(16)之间设有弹簧(2)，所述导柱(15)一侧设有限位片(17)，所述连接柱(18)上设有与限位片(17)配合使用的卡槽，所述连接柱(18)下端设有清洗台(3)，所述清洗台(3)设有凹槽(21)，所述凹槽(21)内设有液体喷口(10)和清洗垫(4)，所述箱架(1)外部上端设有与液体喷口(10)连通的水泵(8)以及分别与水泵(8)连接的药液箱(7)和清水箱(19)，所述箱架(1)底部设有支柱(20)，所述支柱(20)上端设有电机(5)以及通过电机(5)驱动的和凹槽(21)配合的操作台(6)，所述操作台(6)上端设有不少于一个的放置槽(12)，所述操作台(6)边缘设有废滤液口(11)，所述箱架(1)底部设有位于清洗台(3)下方的废液箱(13)，所述箱架(1)内部两侧分别设有和操作台(6)相对应的暖风喷口(9)，所述箱架(1)底部设有与暖风喷口(9)连接的暖风机(14)。
[0002] 2.根据权利要求1所述一种圆晶加工用清洗装置，其特征在于：所述药液箱(7)和清水箱(19)分别设有阀门，所述水泵(8)分别与药液箱(7)和清水箱(19)设有的阀门连接。
[0003] 3.根据权利要求1所述一种圆晶加工用清洗装置，其特征在于：所述清洗台(3)内部设有空腔，所述液体喷口(10)与空腔连通，所述的水泵(8)通过水管与空腔相连。
[0004] 4.根据权利要求1所述一种圆晶加工用清洗装置，其特征在于：所述操作台(6)位于凹槽(21)内，所述凹槽(21)和操作台(6)之间间隙配合，所述凹槽(21)侧壁胶接有海绵垫，所述的清洗垫(4)胶接与凹槽(21)内。
[0005] 5.根据权利要求1所述一种圆晶加工用清洗装置，其特征在于：一侧所述暖风喷口(9)设有至少两个。
[0006] 6.根据权利要求1所述一种圆晶加工用清洗装置，其特征在于：所述废液箱(13)设有排污阀(22)。

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同族专利:

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公开号 | 公开日

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引用文献:

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公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题

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法律状态:
2021-10-01| GR01| Patent grant|

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2021-10-01| GR01| Patent grant|

优先权:

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申请号 | 申请日 | 专利标题

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