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  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    本实用新型公开了一种顶部进氢气的真空烧结炉，包括烧结炉炉体，所述烧结炉炉体的炉口铰接有炉门，所述烧结炉炉体的内腔设有焙烧室，焙烧室的底部设有多个透气孔，焙烧室的腔室下部设有用于承托物料的托板，托板的板面均布有小孔；所述烧结炉炉体的外壁径向水平贯穿设有连接管，连接管的一端深入到烧结炉炉体内并连通有弧形管，弧形管紧贴烧结炉炉体的内壁设置。本实用新型氢气由焙烧室的顶部进入，利用氢气密度小的原理，氢气从焙烧室的顶部向下充填，能够全面均匀地填充焙烧室，有效防止合金粉末压制体在烧结过程中氧化，保障了烧结质量；另外通过在该管路上增加抽真空管路，通氢气前进行抽真空作业。
    公开号:CN214333357U
    申请号:CN202120160133.0U
    申请日:2021-01-21
    公开日:2021-10-01
    发明作者:段文斌；段旭腾
    申请人:Luoyang Tongfang Technology Co ltd；
    IPC主号:F27B5-05
    专利说明:
    [n0001] 本实用新型涉及真空烧结炉技术领域，具体为一种顶部进氢气的真空烧结炉。
    [n0002] 真空烧结炉是在抽真空后充氢气保护状态下对被加热物品进行保护性烧结的炉子，其加热方式比较多，如电阻加热、感应加热、微波加热等。一般的真空烧结炉供氢气管路和抽真空管路是独立的，而且氢气一般是从烧结炉的炉体侧部进入，氢气分散进入，填充效果不理想，影响后期合金粉末压制体的烧结质量。
    [n0003] 本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种顶部进氢气的真空烧结炉，氢气由焙烧室的顶部进入，利用氢气密度小的原理，氢气从焙烧室的顶部向下充填，能够全面均匀地填充焙烧室，有效防止合金粉末压制体在烧结过程中氧化，保障了烧结质量；另外通过在该管路上增加抽真空管路，通氢气前进行抽真空作业，可以有效解决背景技术中的问题。
    [n0004] 为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种顶部进氢气的真空烧结炉，包括烧结炉炉体，所述烧结炉炉体的炉口铰接有炉门，所述烧结炉炉体的内腔设有焙烧室，焙烧室的底部设有多个透气孔，焙烧室的腔室下部设有用于承托物料的托板，托板的板面均布有小孔；所述烧结炉炉体的外壁径向水平贯穿设有连接管，连接管的一端深入到烧结炉炉体内并连通有弧形管，弧形管紧贴烧结炉炉体的内壁设置，弧形管的一端连通有伸入到焙烧室内的竖直管，连接管的另一端连通有供氢气管路和抽真空管路；所述烧结炉炉体的炉体下部连通有排气管，排气管安装有阀门。
    [n0005] 优选的，所述供氢气管路包括氢气罐，氢气罐经由调压阀、过滤器一、真空隔膜阀与连接管连通。
    [n0006] 优选的，所述抽真空管路包括真空泵，真空泵经由过滤器二、截止阀与连接管连通。
    [n0007] 优选的，所述连接管上还安装有真空压力表。
    [n0008] 优选的，所述竖直管与弧形管的一端丝接，竖直管为石墨管或钼管中的一种。
    [n0009] 优选的，所述焙烧室的下部两侧通过支撑柱固定于烧结炉炉体的内腔，焙烧室的底部与烧结炉炉体的内腔预留间隙。
    [n0010] 优选的，所述焙烧室开口铰接有密封门。
    [n0011] 与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本顶部进氢气的真空烧结炉，通过优化设计通氢气管路，氢气由焙烧室的顶部进入，利用氢气密度小的原理，氢气从焙烧室的顶部向下逐步充填，能够全面均匀地填充焙烧室，然后透过托板的小孔和透气孔进入到烧结炉炉体内，最后通过排气管排出，有效防止合金粉末压制体在烧结过程中氧化，保障了烧结质量；另外通过在该管路上增加抽真空管路，通氢气前进行抽真空作业。
    [n0012] 图1为本实用新型结构示意图。
    [n0013] 图中：1烧结炉炉体、2弧形管、3竖直管、4炉门、5排气管、6托板、7透气孔、8焙烧室、9真空隔膜阀、10过滤器一、11氢气罐、12真空泵、13过滤器二、14截止阀、15连接管。
    [n0014] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
    [n0015] 请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种顶部进氢气的真空烧结炉，包括烧结炉炉体1，烧结炉炉体1的炉口铰接有炉门4，烧结炉炉体1的内腔设有焙烧室8，焙烧室8的底部设有多个透气孔7，焙烧室8的腔室下部设有用于承托物料的托板6，托板6的板面均布有小孔；烧结炉炉体1的外壁径向水平贯穿设有连接管15，连接管15的一端深入到烧结炉炉体1内并连通有弧形管2，弧形管2紧贴烧结炉炉体1的内壁设置，弧形管2的一端连通有伸入到焙烧室8内的竖直管3，连接管15的另一端连通有供氢气管路和抽真空管路；烧结炉炉体1的炉体下部连通有排气管5，排气管5安装有阀门；
    [n0016] 供氢气管路通过连接管15、弧形管2和竖直管3由焙烧室8的顶部进入，利用氢气密度小的原理，氢气从焙烧室8的顶部向下充填，能够全面均匀地填充焙烧室8，然后透过托板6的小孔和透气孔7进入到烧结炉炉体1内，最后通过排气管5排出，有效防止合金粉末压制体在烧结过程中氧化，保障了烧结质量；另外通过在该管路上增加抽真空管路，通氢气前进行抽真空作业；
    [n0017] 具体的，供氢气管路包括氢气罐11，氢气罐11经由调压阀、过滤器一10、真空隔膜阀9与连接管15连通；抽真空管路包括真空泵12，真空泵12经由过滤器二13、截止阀14与连接管15连通；
    [n0018] 为了方便查看真空度，连接管15上还安装有真空压力表；
    [n0019] 为了方便拆卸，竖直管3与弧形管2的一端丝接，竖直管3为石墨管或钼管中的一种，由于焙烧室8内温度很高，竖直管3直连焙烧室8，因此需要使用耐高温管；
    [n0020] 焙烧室8的下部两侧通过支撑柱固定于烧结炉炉体1的内腔，焙烧室8的底部与烧结炉炉体1的内腔预留间隙，焙烧室8开口铰接有密封门，氢气透过托板6的小孔和透气孔7进入到烧结炉炉体1内，然后经过间隙充填烧结炉炉体1的内腔。
    [n0021] 工作原理：在使用时，关闭炉门4，关闭真空隔膜阀9，打开截止阀14，启动真空泵12，真空泵12通过连接管15、弧形管2和竖直管3抽取烧结炉炉体1内的气体，根据连接管15上的真空压力表查看真空度，随后停止真空泵12开始向烧结炉炉体1内充氢气，打开真空隔膜阀9和氢气罐11，氢气经由调压阀、过滤器一10、真空隔膜阀9、连接管15、弧形管2和竖直管3进入到焙烧室8内，氢气从焙烧室8的顶部向下充填，能够全面均匀地填充焙烧室8，然后透过托板6的小孔和透气孔7进入到烧结炉炉体1内，最后通过排气管5排出。
    [n0022] 本实用新型未详述部分为现有技术，尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
    权利要求:
    Claims (7)
    [0001] 1.一种顶部进氢气的真空烧结炉，包括烧结炉炉体（1），其特征在于：所述烧结炉炉体（1）的炉口铰接有炉门（4），所述烧结炉炉体（1）的内腔设有焙烧室（8），焙烧室（8）的底部设有多个透气孔（7），焙烧室（8）的腔室下部设有用于承托物料的托板（6），托板（6）的板面均布有小孔；所述烧结炉炉体（1）的外壁径向水平贯穿设有连接管（15），连接管（15）的一端深入到烧结炉炉体（1）内并连通有弧形管（2），弧形管（2）紧贴烧结炉炉体（1）的内壁设置，弧形管（2）的一端连通有伸入到焙烧室（8）内的竖直管（3），连接管（15）的另一端连通有供氢气管路和抽真空管路；所述烧结炉炉体（1）的炉体下部连通有排气管（5），排气管（5）安装有阀门。
    [0002] 2.根据权利要求1所述的一种顶部进氢气的真空烧结炉，其特征在于：所述供氢气管路包括氢气罐（11），氢气罐（11）经由调压阀、过滤器一（10）、真空隔膜阀（9）与连接管（15）连通。
    [0003] 3.根据权利要求1所述的一种顶部进氢气的真空烧结炉，其特征在于：所述抽真空管路包括真空泵（12），真空泵（12）经由过滤器二（13）、截止阀（14）与连接管（15）连通。
    [0004] 4.根据权利要求1所述的一种顶部进氢气的真空烧结炉，其特征在于：所述连接管（15）上还安装有真空压力表。
    [0005] 5.根据权利要求1所述的一种顶部进氢气的真空烧结炉，其特征在于：所述竖直管（3）与弧形管（2）的一端丝接，竖直管（3）为石墨管或钼管中的一种。
    [0006] 6.根据权利要求1所述的一种顶部进氢气的真空烧结炉，其特征在于：所述焙烧室（8）的下部两侧通过支撑柱固定于烧结炉炉体（1）的内腔，焙烧室（8）的底部与烧结炉炉体（1）的内腔预留间隙。
    [0007] 7.根据权利要求1所述的一种顶部进氢气的真空烧结炉，其特征在于：所述焙烧室（8）开口铰接有密封门。
    类似技术:
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    2021-10-01| GR01| Patent grant|
    2021-10-01| GR01| Patent grant|
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    CN202120160133.0U|CN214333357U|2021-01-21|2021-01-21|一种顶部进氢气的真空烧结炉|CN202120160133.0U| CN214333357U|2021-01-21|2021-01-21|一种顶部进氢气的真空烧结炉|
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